「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 955 956 957 958 959 960 961 962 963 .... 999 1000 次へ＞- By guiding respective parts by the guide grooves 32M to 34Bk, the process cartridges 50M to 50Bk can be attached/detached, while changing the relative positions of respective parts; consequently, the process cartridges will not interfere with the exposure means 72M to 72Bk, when being attached/detached.
各部がガイド溝３２Ｍ〜３４Ｂｋに案内されることにより、各部の相対位置を変化させつつプロセスカートリッジ５０Ｍ〜５０Ｂｋの着脱を行うことができ、着脱時に露光手段７２Ｍ〜７２Ｂｋと干渉しない。 - 特許庁 - To solve the problem of prior arts of concern about deterioration in the image quality of a video signal due to two filter processes passing through the two filter processes or the like such as a post process of a video signal decoding apparatus and a preliminary process of a video signal coding apparatus.
従来は、映像復号化装置のポスト処理、および映像信号符号化装置のプリ処理といった２つのフィルタ処理等を通ることにより、これらの処理による映像信号の画質劣化が懸念される。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of porous powder applicable to an excellent moisture conditioning material or a deodorant, having preferable manufacturing efficiency, aiming at effective recycling of sludge incineration ash, and a manufacturing method of porous powder causing no corrosion in drying equipment used in a drying process when manufacturing the porous powder, and achieving shortening of the drying process time thereby reduction in drying cost.
汚泥焼却灰の有効な再利用を図り、優れた調湿材料や消臭材料として適用することができる、製造効率の良好な多孔質粉体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - In an action for infringement of a patent granted for a process for obtaining a new product, any product that is the same as the new product shall, in the absence of proof to the contrary, be considered to have been produced by the patented process.
新規な製品を製造するための方法につき付与された特許の侵害訴訟においては，その新規な製品と同一の製品は，それに反する証拠がない限り，特許された方法により製造されたものとみなす。 - 特許庁 - If an action is filed on the basis of the provisions of subsection 14 (2) of this Act, the defendant is required to prove that the defendant used a process different from the process protected as a utility model for manufacturing a similar product.
第14条 (2)の規定に基づいて訴訟が提起された場合は，被告は，被告が類似製品を製造するために，実用新案として保護されている方法とは異なる方法を使用したことを証明しなければならない。 - 特許庁 - Thus, even if applicant’s intention is to limit the claimed invention to only the product which is obtained by the particular process, such as a claim reading as “Z which is obtained solely by process A”, the claimed invention should be treated in the same way aforementioned.
出願人が「専らＡの方法により製造されたＺ 」のように記載して、特定の方法によって製造された物のみに請求の範囲を限定しようとしていることが明白な場合であっても同様に取り扱う。 - 特許庁 - There is a strong probability that the identical product has been manufactured using the patented process, but the owner of the patent has been unable, in spite of reasonable effort, to establish what process has in fact been used
同一製品が特許された製造法を用いて製造された可能性が大きく，かつ，特許所有者が適切な努力を払ったにも拘らず実際に如何なる製造法が用いられたのか確認することができない場合 - 特許庁 - To provide a process cartridge capable of appropriately bringing a pair of carrying rollers into press contact with each other at all times, even in the case one of the pair is arranged on the process cartridge side and the other is arranged on the image forming device main body side.
本発明は、一対の搬送ローラの一方をプロセスカートリッジ側に、他方を画像形成装置本体側に設けた場合であっても、一対の搬送ローラを常に適切に圧接させることのできるプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁 - To provide a fiber reinforced composite material that has more improved viscosity characteristics than those which it has before molded and exhibits more improved flow characteristic when molded on molding a fiber reinforced composite material having excellent weathering resistance in a sheet molding process or a bulk molding process.
耐候性に優れた繊維強化複合材料をシートモールディング法やバルクモールディング法で成形するにあたり、その成形前の粘度特性及び成形時のフロー特性を更に改良した繊維強化複合材料を提供する。 - 特許庁 - This welding method for fusing metal onto the base material reduces the residual stress containing a process for welding the fusion metal on the base material and a process for plastically recessively deforming the neighborhood of surrounding part of the deposited metal on the surface of the base material.
母材に溶着金属を溶接する工程と、母材表面であって溶着金属の周縁部近傍を凹状に塑性変形させる工程とを含む残留応力を低減した母材への溶着金属の溶接方法。 - 特許庁 - The method for treating the mantle of scallop comprises a surface peeling process (1) for peeling the surface of the mantle of raw scallop and a deodorization process (4) for bringing the mantle from which the surface is peeled into contact with an alkali metal salt and cleaning and deodorizing the mantle.
ホタテの生の外套膜の表面を剥離する表面剥離工程（１）と、表面が剥離された外套膜をアルカリ金属塩に接触させるとともに洗浄して脱臭する脱臭処理工程（４）とを備えた。 - 特許庁 - To provide a process for producing a liquid crystal display device, in relation to the process for producing the liquid crystal display device, which is equipped with a step to dispose spacer particles on a substrate with an ink jet device, especially in which a spacer particle dispersion liquid is improved.
インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子を基板上に配置する工程を備える液晶表示装置の製造方法に関し、特に、スペーサ粒子分散液が改良された液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a composite material for an electrical and electronic component, which keeps high adhesiveness between a metal substrate and an insulation film even when a portion including an interface between the metal substrate and the insulation film has been subjected to a working process such as a stamping process.
金属基材と絶縁皮膜との界面を含めた箇所で打ち抜き加工等の加工を施しても金属基材と絶縁皮膜との密着性が高い状態を保つ電気電子部品用複合材料を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive silver film which has almost equal characteristics to those of a conventional photosensitive silver paste, which requires no coating process and drying process and reduces processes compared to a conventional photosensitive silver paste, and which has excellent handling workability.
従来の感光性銀ペーストと同等の特性を有し、従来の感光性銀ペーストに較べて塗布工程、乾燥工程が不要で工程短縮が可能となり、取扱い作業性に優れた感光性銀フィルムを提供すること。 - 特許庁 - Concerning a process unit 2 mounted on a copying machine main body 1 and an electronic key 3 mounted on the process unit 2 mounted on the copying machine 1, respectively, a CPU 11 detects whether or not they are new ones.
ＣＰＵ１１は、複写機本体１に装着されているプロセスユニット２と、この複写機本体１に装着されたプロセスユニット２に装着されている電子キー３とのそれぞれに関して、未使用品であるか否かを検知する。 - 特許庁 - The shear imparting method, in which a shear imparted mold body 27 is molded by pressurizing and moving a molding material 25 in a material passage 13 equipped with corners 16, comprises a material supplying process and a shear imparting process.
角部１６を備えた材料通路１３内で成形用材料２５を加圧して移動させることにより、せん断付与成形体２７を成形するせん断付与方法を、材料供給工程とせん断付与工程とで構成した。 - 特許庁 - The process control device is characterized by including a means to control independently at least two control factors which bring about an effect of a reverse direction out of control factors for controlling a process condition within a fixed range.
（１）プロセス条件を一定範囲に制御するための制御因子のうち、逆方向の効果をもたらす少なくとも２つの制御因子に対して独立して制御する手段を含むことを特徴とするプロセス制御装置。 - 特許庁 - To allow continuous use of stream data identical with or similar to a stream data when receiving process of the stream data is interrupted or transmitting process of it is interrupted, in a network system composed of a stream transceiver.
ストリーム送信装置とストリーム受信装置からなるネットワークシステムにおいて、ストリームデータの受信処理中断あるいは送信処理中断時に、該ストリームデータと同一あるいは類似のストリームデータを継続して利用可能とする。 - 特許庁 - A detecting means 12b detects operation data lost on the portable recording medium 31a due to its abnormal loading from the end of an exiting process to the end of an entering process.
そして、検出手段１２ｂが出庫処理終了から入庫処理終了までの間において、可搬型記録媒体３１ａの装着異常により可搬型記録媒体３１ａ上に発生した欠損運行データを検出する。 - 特許庁 - To provide a process flow execution apparatus capable of notifying a user of a task or a setting which is not supported in an application of a version lower than a version set in a process flow and obtaining a result intended by the user.
処理フローに設定されているバージョンよりも下位のバージョンのアプリケーションではサポートしていないタスクや設定をユーザに知らせることができ、ユーザの意図した結果を得ることが可能な処理フロー実行装置を提供する。 - 特許庁 - The dry process developer DL containing at least two kinds of dry process developing particles WP and BP having a triboelectric property, varying in electrostatic charge polarities from each other and varying in optical reflection density from each other can be exemplified.
現像剤ＤＬは、互いに帯電極性の異なる、且つ、互いに光学的反射濃度の異なる少なくとも２種類の、摩擦帯電性を有する乾式現像粒子ＷＰ、ＢＰを含んでいるものを例示できる。 - 特許庁 - In the method for producing the fine particle pattern, the composite particle-forming process may be carried out either before or after the dendritic branch molecule-adding process.
該微粒子パターンの製造方法においては、前記複合粒子形成工程が前記樹状分岐分子付与工程の前、及び前記複合粒子形成工程が前記樹状分岐分子付与工程の後、のいずれに行われてもよい。 - 特許庁 - To restrict a reduction in alkali concentration of a developer, a generation of fine air bubbles or the like, enhance uniformity in a pattern dimension after a development process, and also decrease a generation of defective regions in the development process of a photoresist.
フォトレジストの現像処理において、現像液のアルカリ濃度の低下や微細な気泡の発生等を抑制し、現像処理後のパターン寸法の均一性を向上させ、同時に欠陥箇所の発生も低減させることを課題とする。 - 特許庁 - A profile of a latent network participant associated with the networked business process is identified, and the networked business process includes a set of mutually related business processes that at least two different network participants execute.
ネットワーク化されたビジネスプロセスに関連する潜在的なネットワーク参加者のプロファイルを識別し、ネットワーク化されたビジネスプロセスは、少なくとも2名の異なるネットワーク参加者によって実行される互いに関係するビジネスプロセスのセットを備える。 - 特許庁 - The method of manufacturing the image display device includes a process of forming a draw-out wiring C on a rear plate 1, and a process of forming a thin-film insulating layer 11 on the draw-out wiring C by a CVD method or a sputtering method.
本発明の画像表示装置の製造方法は、リアプレート１上に引き出し配線Ｃを形成する工程と、引き出し配線Ｃ上に、ＣＶＤ法もしくはスパッタ法で薄膜絶縁層１１を形成する工程とを含む。 - 特許庁 - To implement a temperature rise promoting process for a catalyst 5 provided in an exhaust path 4 of an internal combustion engine 1, and a temperature rise promoting process for cooling water for the internal combustion engine 1, as needed in an exhaust heat recovery device 18.
排気熱回収装置１８において、内燃機関１の排気通路４に設けられる触媒５の昇温促進処理や、内燃機関１の冷却水の昇温促進処理とを、必要に応じて実行可能とする。 - 特許庁 - This method for producing the dyed fabric comprises a dye-preparing process for mixing and preparing a dye containing a printing binder and a chlorine-based bleaching agent and a printing process for printing a fabric to be printed with the prepared dye.
染色布の製造方法は、捺染用バインダーと塩素系漂白剤とを含有する染色剤を混合調製する染色剤調製工程と、その調製した染色剤を被染色布に捺染する捺染工程と、を備える。 - 特許庁 - And, an image processor 35 performs the gradation process at the image data for the evaluation by using the gamma curve after the regulation, and the printer 33 prints the image for the evaluation on a transmission type monochrome film based on the image data for the evaluation after the gradation process.
そして、画像処理部３５が、調整後のガンマカーブを用いて評価用画像データに階調処理を施し、印刷部３３が、階調処理後の評価用画像データに基づく評価用画像を透過型モノクロフィルムに印刷する。 - 特許庁 - After that, the inputted image forming job is analyzed (S4), the process speed suitable for the image forming job is determined (6), and the actual image formation is carried out (S9) by driving an image forming unit at the determined process speed.
その後、その入力した画像形成ジョブを解析して（Ｓ４）、その画像形成ジョブに適したプロセス速度を決定し（Ｓ６）、その決定したプロセス速度で画像形成ユニットを駆動して、実際の画像形成を行う（Ｓ９）。 - 特許庁 - Then, a process of coating a solvent on grooves formed between the barrier ribs to dissolve the liquid-repellent compound and a process of drying the solvent are repeated alternately a plurality of times to form a liquid repellent-lyophilic pattern on the display device.
次に、隔壁間に形成された溝に溶媒を塗布し、前記撥液性を有する化合物を溶解させる工程と、この溶媒を乾燥させる工程とを複数回繰り返して、表示装置に親撥液パターンを形成する。 - 特許庁 - As a coil formation process, 3-phase coils 3U, 3V and 3W are formed, and as a coil transfer process, a link coil 35 for the 3-phase coils 3U, 3V and 3W is transferred from a plurality of bobbins to an inserter jig 7.
コイル形成行程として、３相のコイル３Ｕ、３Ｖ、３Ｗを形成し、コイル移載工程として、インサータ治具７に対し、複数の巻枠から３相のコイル３Ｕ、３Ｖ、３Ｗについての連コイル３５を移載する。 - 特許庁 - According to this system (surface mounter Z3, solder printer Z2 and mounting line L), information (information about substrate inspection before printing) about inspection of a substrate P which has been executed before printing is utilized in a printing process and a mounting process.
本発明（表面実装機Ｚ３、半田印刷装置Ｚ２、実装ラインＬ）によれば、印刷前に実施した基板Ｐの検査情報（印刷前基板検査情報）を印刷過程、実装過程において活用することとした。 - 特許庁 - A perch storage 7 where works are temporarily stored to be able to adjust a work introducing order is disposed between the main assembling process 4 of assembling words in accordance with a plurality of specifications and a preceding special component assembling process 3.
複数の仕様からなるワークの組み立てを行うメイン組立工程４とその前工程の特殊部品組立工程３との間に、ワークを一時格納しワーク投入順序を調整可能な止まり木ストレージ７を配置する。 - 特許庁 - This is a sanitation evaluation method for the surface of sanitary ware including a process of staining the surface of sanitary ware by an aqueous solution containing crystal violet and a process of visually observing the degree of staining after the completion of the coloring.
クリスタルバイオレットを含む水溶液により衛生陶器表面を染色する工程，染色後の染色程度を目視にて観察する工程を含むことを特徴とする衛生陶器表面の衛生性評価方法。 - 特許庁 - The image forming apparatus is provided with a communication abnormality detection part 208 to detect a communication state with a memory in the process cartridge, and a toner density abnormality detection part 209 to detect the normality/abnormality of the output value of the toner density detecting sensor in the process cartridge.
プロセスカートリッジ内のメモリとの通信状態を検出する通信異常検知部２０８と、プロセスカートリッジ内のトナー濃度検出センサの出力値の正常／異常を検出するトナー濃度異常検知部２０９とを設ける。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which stabilize for image processing the condition of a process liquid at the tip of one nozzle selected for use in processing from among a plurality of nozzles supplying a process liquid on to a substrate.
基板上に処理液を供給する複数のノズルのうちの処理に供される選択された１つのノズル先端部の処理液の状態を安定して画像処理する液処理装置及び液処理方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a semiconductor laser equipment which will not cause performance or reliability of equipment to deteriorate by phenomenon where the solder irradiated with laser at operation scatters, without causing the productivity to decrease in the manufacturing process of a submount and the mounting process of a semiconductor laser.
サブマウントの製造工程や半導体レーザのマウント工程での生産性を低下させることなく、動作時にレーザが照射された半田が飛散して装置の性能や信頼性を悪化させない半導体レーザ装置を提供する。 - 特許庁 - The formation method of an insulating film has: a process for forming a fluorocarbon film on a substrate; and a process for bringing the surface into contact with the plasm of mixed gas made of water and inert gas, such as He, Ne, Ar, and Xe.
基板上にフルオロカーボン膜を形成する工程、ならびに、その表面と、水およびＨｅ、Ｎｅ、ＡｒまたはＸｅなどの不活性ガスからなる混合ガスのプラズマとを接触させる工程を有する絶縁膜の形成方法。 - 特許庁 - The rinsing process with a weak alkaline solution is provided after an APM treating process, whereby an electrostatic force acting between the surface of a substrate and particles can be made minus by controlling, and the particles are prevented from sticking again to the surface of the substrate.
また、ＡＰＭ処理工程の後に、弱アルカリ性溶液によるリンス工程を設けることにより、基板表面とパーティクル間に働く静電気力をマイナス側に制御して、基板表面へのパーティクルの再付着を防止する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a test piece without lowering the machining efficiency as the whole process even if generating a neck process in a series of the machining processes in sequentially manufacturing the test pieces.
本発明は試験片を連続的に製作する際に、一連の機械加工工程の中にネック工程が生じても、全体工程として機械加工能率を低下させることなく、試験片を製作できる方法を提供する。 - 特許庁 - The process for forming the color filter layer includes a process for sticking a dry film for the third color filter on the transparent substrate while pressing in a first direction 70 after formation of a first color filter 56 and a second color filter 58.
カラーフィルタ層を形成する工程は、第１カラーフィルタ５６および第２カラーフィルタ５８を形成した後に、透明基板上に第３カラーフィルタ用ドライフィルムを第１方向７０に向かって押圧しながら貼り合わせる工程を含む。 - 特許庁 - This laminated protective suit uses, as at least one layer, an easily dyeable fabric containing meta-type wholly aromatic polyamide fibers subjected to a steam relaxing thermal treatment after a plastic drawing process in a specific draw ratio range and a water-washing process and before a dry heat treatment.
特定倍率範囲での可塑延伸および水洗工程を経た後、乾熱処理前に水蒸気弛緩熱処理を行ったメタ型全芳香族ポリアミド繊維を含む易染色性布帛を、少なくとも１層として用いる。 - 特許庁 - The semiconductor substrate manufacturing method is provided with a first process for thinning an element 1b which is the element forming area of a semiconductor substrate 1 by blast and/or etching, and a second process for further thinning the thinned element 1b by polishing.
半導体基板１の素子形成領域である素子部１ｂを、ブラスト及び／又はエッチングにより薄化加工する第１の工程と、薄化された前記素子部１ｂを、さらにポリッシュにより薄化加工する第２の工程を備える。 - 特許庁 - To provide an imaging system capable of performing an adjusting process step for making it possible to calculate an infinite focusing position from the output of a position sensor in a narrow set area without increasing the scale of a facility requiring such adjusting process step.
位置センサの出力から無限合焦位置を算出できるようにするための調整工程に必要とする設備が大がかりにならず、狭い設定面積で上記調整工程を行うことができる撮像装置を提供する。 - 特許庁 - To suppress increasing of resistance between a metal wiring and a connection plug by preventing oxidizing of the metal wiring while dispensing with process control between processes as well as constraint on time between etching for forming a via hole and an ashing process.
ビア孔形成のためのエッチングとアッシング工程との間の時間的制約、工程間処理制御を不要とし、かつ金属配線の酸化を防止して、金属配線と接続プラグとの間の抵抗の上昇を抑制すること。 - 特許庁 - If an image data receiving process is too late because a certain change occurs in the condition of the host apparatus side in the read operation mode, the adequate reading velocity not causing the read suspending process is designated to the image reading apparatus, upon detection of such condition.
読取動作中ホスト装置側の状況に変化が生じ画像データの受信処理が間に合わない場合には、そのことが判明次第読取停止処理の入らない適正な読取速度を画像読取装置に指定する。 - 特許庁 - The splash preventing member 16 allows most of process liquid Q flowing down from the process liquid supply nozzle 13 due to dummy discharge or liquid dropping to pass and to drop into the solvent reservoir 152, while preventing splashing back from the solvent reservoir 152.
防跳部材１６は、処理液供給ノズル１３からダミー吐出や液垂れで流下された処理液Ｑを大部分通過させて溶剤貯留部１５２に落とすと共に溶剤貯留部１５２からの跳ね返りを阻止するものである。 - 特許庁 - The value of a normal symbol process flag is changed from 3 to 0 simultaneously with closing of a variable winning device 15, and a failure is determined when a predetermined time elapses after the value of the normal symbol process flag is changed from 3 to 0.
可変入賞球装置１５を閉鎖すると同時に普通図柄プロセスフラグの値が３から０に切り替え、普通図柄プロセスフラグの値が３から０に切り替わってから所定時間経過後に異常入賞の判定を行う。 - 特許庁 - To provide a conveying device to convey a work in a short time from a press machine being a preceding process to a press machine being a following process without changing its attitude and besides ensure a sufficient movement range to convey a work.
前工程のプレス機械から次工程のプレス機械へワークの姿勢を変えずに短時間に搬送することができ、しかもワークを移送するために十分な移動範囲を確保することができるような搬送装置を提供する。 - 特許庁 - In the first reduction process, reducing sugar or hydrazine is used as a reducing agent, and in the second reduction process, two or more kinds of reducing agents whose hydrogen reduction standard potential E^0 is -1.11 to -1.24 V are used as the reducing agent.
第１の還元工程においては還元剤として還元糖又はヒドラジンを用い、第２の還元工程においては還元剤として水素還元標準電位Ｅ^0が−１．１１〜−１．２４Ｖである還元剤を２種以上用いる。 - 特許庁
