「S-process」を含む例文一覧(553)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- To provide a heat developing method and a heat developing apparatus for stabilizing density and making image quality stable when performing a heat developing process by a rapid process of ≤10 s.
１０秒以下の迅速処理で熱現像プロセスを実行する際に濃度を安定化でき画質を安定できるようにした熱現像方法及び熱現像装置を提供する。 - 特許庁 - This front and back discrimination device 1 of a skin S is provided with a skin conveyance means 10 for conveying the skin S; a camera 31 for imaging, at least a portion of the skin S conveyed by the skin conveyance means 10; and an image processing process 33 for binarizing the image of the skin S imaged by a camera 31; and for discriminating the back and the front of the skin S from the binarized image.
スキンＳの表裏判別装置１であって、スキンＳを搬送するスキン搬送手段１０と、スキン搬送手段１０により搬送されるスキンＳの少なくとも一部を撮像するカメラ３１と、カメラ３１により撮像されたスキンＳの画像を二値化し、二値化された画像からスキンＳの表裏を判別する画像処理装置３３とを備えている。 - 特許庁 - A manufacturing process S using only a manufacturing apparatus 1 is included within manufacturing processes S0, S, and T0, and the processes with such manufacturing apparatus 1 are eliminated in accordance with kinds of the products.
製造プロセスＳ０，Ｓ，Ｔ０の中に１つの製造装置１のみを用いる製造工程Ｓが含まれ、製造品の種類に応じてその製造装置１による処理が省略されるようになっている。 - 特許庁 - Then the pair of the flexible casters (7) are temporarily projected outside at one end (P1) of the process (S) of the operational tool (5) and are housed inside at the other end (P2) in comparison with one side edge level (L) of the flange (8) of the H-shaped steel (1).
そして、該一対の自在キャスター(7)が、該Ｈ形鋼(1)のフランジ(8)の一側縁水準(L)に対し、該操作具(5)の行程(S)の一端(P1)で外側に臨出し、他端(P2)で内側に収まるようになっている。 - 特許庁 - The second state transition probability and the second reward are used to obtain action value function Q^π(s, a) and the state value function V^π(s) on the basis of the dynamic programming in the Markov decision process.
第二状態遷移確率及び第二報酬を用いて、マルコフ決定過程における動的計画法に基づき、行動価値関数Ｑ^π（ｓ，ａ）及び状態価値関数Ｖ^π（ｓ）を求める。 - 特許庁 - This substrate processing apparatus 1 is provided with a processing chamber 10 and is structured so as to apply a cleaning process to a substrate S by supplying a rinsing liquid thereto, while transporting the substrate S in the processing chamber 10.
基板処理装置１は、処理室１０を備え、この処理室１０内で基板Ｓを搬送しながら当該基板Ｓにリンス液を供給して洗浄処理を施すように構成される。 - 特許庁 - On the other hand, when a binding process is performed by a binding device 500, the front/rear of the sheet of paper S is reversed and, as shown in (C), the sheets of paper S are stacked with the surface formed with the image facing upward.
一方、綴じ装置５００による綴じ処理が行われる場合は、用紙Ｓの表裏が反転され、（Ｃ）に示すように、画像が形成された面が上向きとなる状態で用紙Ｓが積載される。 - 特許庁 - The second speed in the second polishing process is so set that the mean linear velocity in the rotation direction of the abrasive disc 81 becomes 0.032 m/s of less (preferably 0.008 m/s or less).
第２の研磨工程における第２の速度は、研磨盤８１の回転方向における平均線速度が０．０３２ｍ／ｓ以下（好ましくは０．００８ｍ／ｓ以下）となるように設定する。 - 特許庁 - After finishing the heat treatment process, the heat-treated parts of the packing sheet S are cooled and hardened under the ordinary temperature to hold the state where the packing sheet S is approximately closely stuck to the outer circumference of the game machine P1.
熱処理工程終了後、包装用シートＳの被熱処理部分が常温で冷却されて硬化し、包装用シートＳが遊技機Ｐ１の外周へ略密着する状態が保たれる。 - 特許庁 - Subsequently, the mold release agent S is supplied from a process liquid supply section 120 to the clearance 116, and the mold release agent S is diffused only onto the pattern region D_1 by capillary phenomenon (Figs. 12(b)-(d)).
その後、処理液供給部１２０から隙間１１６に離型剤Ｓを供給し、当該離型剤Ｓを毛細管現象によってパターン領域Ｄ_１上にのみ拡散させる（図１２（ｂ）〜（ｄ））。 - 特許庁 - Since a dispersion process is applied by a three roll mill to a mixed raw material preliminary mixed by a planetary mixer in a comparatively high viscosity state of 100-500 (Pa s), a good dispersed state of glass powder can be obtained.
プラネタリーミキサーで予備混合された混合原料が、粘度が100〜500(Pa・s)と比較的高い状態で三本ロールミルにて分散処理を施されることから、ガラス粉末の良好な分散状態が得られる。 - 特許庁 - The solution analysis method includes a process for cooling the solution S which is an analyzing target to lower the solubility of the solution S, to make the solute of the solution precipitate in a solvent but also to make the solution S freeze; and a process for irradiating the substance produced by freezing with the terahertz wave, to obtain the data of the transmission or absorption spectrum of the substance.
分析対象としての溶液Ｓを冷却することにより、この溶液Ｓの溶解度を下げてその溶質を溶媒中に析出させるとともに溶液Ｓを凍結させる工程と、前記凍結を生じた物質にテラヘルツ波を照射してその透過または吸収スペクトルのデータを得る工程と、を有していることを特徴としている。 - 特許庁 - When the upper cover 12 is located in an obstruction position, flow-down space S is formed between the process cartridges 50 by a closing member 35 or the like.
アッパーカバー１２が閉塞位置に位置すると、密閉部材３５等により、流下空間Ｓがプロセスカートリッジ５０間に形成される。 - 特許庁 - In the color mode, the conveyance start timing of paper S is determined with the start of exposing operation during a Y color image forming process as trigger.
カラーモードは，Ｙ色の画像形成プロセス中の露光の動作の開始をトリガに，用紙Ｓの搬送開始タイミングを決定している。 - 特許庁 - Secondly, the plate material S after the pre-plating process is punched by press work to form a work piece W connected in a comb shape (chain shape).
次いで、当該先メッキ処理後の板材Ｓをプレス加工によって打ち抜き、櫛状（連鎖状）に繋がったワークＷを形成する。 - 特許庁 - To carry out in short time and efficiently replacement of the shading material M of the mask in the etching process of the sample S by ion beam irradiation.
イオンビーム照射による試料Ｓのエッチング加工において、マスクとなる遮蔽材Ｍの交換を短時間で効率良く行う。 - 特許庁 - A contact lens R is immersed in this cleaning surface S, through which the operation of cleaning the contact lens can be carried out (Figure 2 (d) process step).
この洗浄液Ｓ中にコンタクトレンズＲを浸漬することで、コンタクトレンズの洗浄の動作を行なうことができる（図２（ｄ）工程）。 - 特許庁 - The separation process comprises generating a shear layer in a feed fluid and passing permeate into the permeate passage(s).
分離方法は、供給流体中にせん断層を発生させることと、透過水を透過水通路内へ通過させることとから成る。 - 特許庁 - The water molecules m and the solvent s stuck to the resist pattern R on the wafer W after the smoothing process are removed by drying.
スムージング処理されたウエハＷ上のレジストパターンＲに付着する水分子ｍ及び溶剤ｓを乾燥により除去する。 - 特許庁 - To provide a method for synthesizing (S)-4-{[3-[2-(dimethylamino) ethyl]-1H-indol-5-yl]methyl}-2-oxazolidinone by an improved process.
（Ｓ）−４−｛［３−［２−（ジメチルアミノ）エチル］−１Ｈ−インドール−５−イル］メチル｝−２−オキサゾリジノンを調製する改良プロセスを提供すること - 特許庁 - In the process H, a back face planetary gear 43 is inserted to a back face shaft of the planetary shaft body 41 of the assembly S.
また、工程Ｈでは集合体Ｓにおけるプラネタリシャフト本体４１の背面シャフトに背面プラネタリギヤ４３が挿入される。 - 特許庁 - Person(s) from within the reporting company but independent of the GHG inventory process conducts internal assurance. (Also called "self-" or "internal-assurance.")
報告事業者内の者であるがGHGインベントリプロセスに関与しない者が行う内部保証。（「自己アシュランス」または「内部アシュランス」ともいう。） - 経済産業省 - The money receiving machine performs a process for money reception to the prepaid card when the relation among the cumulative use amount S obtained from the prepaid card and an amount I of money paid to the money receiving machine satisfies U>S+I, but does not perform the money receiving process when not.
入金機は、上位装置から受信した上限金額Ｕと、プリペイドカードから取得した累計使用金額Ｓと、当該入金機への入金額Ｉとの関係がＵ＞Ｓ＋Ｉを満たせば、プリペイドカードへの入金処理を行い、満たさなければ入金処理を行わない。 - 特許庁 - The conductive polymer is prepared by a melt blending process of the polymer with sharing rate of 100 s^-1 at 600 Pa s or less in viscosity and the carbon fiber prepared by the vapor phase process at 1-15 mass% under mixing energy of 1,000 mJ/m^3 or less.
溶融粘度がせん断速度１００ｓ^−１で６００Ｐａ・ｓ以下の状態にあるポリマーに、気相法炭素繊維１〜１５質量％を１０００ｍＪ／ｍ^３以下の混合エネルギーで溶融混合する工程を含む導電性ポリマーの製造方法及びその方法で得られた導電性ポリマー。 - 特許庁 - The wire harness 5 consists of bundle(s) of electric wires, in which circuit(s) 51 to constitute a noise source is separated from circuit(s) 52 not to constitute a noise source, and then the circuits 51 and 52 are arranged approximately parallel and integrated to perform a shielding process.
本発明のワイヤハーネス５は、ワイヤハーネス５を形成する電線束のうち、ノイズ源となる回路５１とノイズ源とならない回路５２を分離した後に、ノイズ源となる回路５１とノイズ源とならない回路５２を略並列して配列し、これらの回路（ワイヤ）５１，５２を統合してシールド処理を行う。 - 特許庁 - In this method of manufacturing a laminated plate, a heat treatment process (step 3) of performing a heat treatment of a polyimide substrate S is performed before performing a catalyst imparting process (step 4) of imparting a catalyst to a surface treatment layer (alkaline treatment layer) 3 after performing an alkaline treatment process (step 2) of forming the surface treatment layer (alkaline treatment layer) 3 on a surface of the polyimide substrate S.
本積層板の製造方法では、ポリイミド基板Ｓの表面に表面処理層（アルカリ処理層）３を形成するアルカリ処理工程（ステップ２）を行った後、表面処理層（アルカリ処理層）３に触媒を付与する触媒付与工程（ステップ４）を行う前に、ポリイミド基板Ｓの熱処理を行う熱処理工程（ステップ３）を行う。 - 特許庁 - This method for spreading an approximately triangle-formed food dough comprises the process of widening a slit S formed at the base side central part of the food dough 1, the process of spreading the base part side of both side directions of the spread slit S in both side outer directions, and the process of spreading the top part side portion of the food dough 1 to the top part side.
大略三角形状の食品生地の延展方法であって、前記食品生地１の底辺中央部に形成されたスリットＳを広げる工程と、広げられたスリットＳの両側方の底辺部側を両側外方向へ延展する工程と、前記食品生地１の頂部側部分を頂部側へ延展する工程と、を備えている。 - 特許庁 - Since the supply quantity of process gas to the substrate to be processed S is uniformized for the whole etching face, a rotation control means 14 changes the angular velocity of the rotation of the substrate to be processed S during one turn.
被処理基板Ｓに対するプロセスガスの供給量をエッチング面全体にわたって均一化するために、回転制御手段１４により被処理基板Ｓの回転の角速度を１回転中において変化させる。 - 特許庁 - When a hot air is blasted to predetermined positions of the packing sheet S in a heat treatment process, the relevant parts are contracted so that the packing sheet S is approximately closely stuck along the outer circumferential shape of the game machine P1.
次に、熱処理工程で、包装用シートＳの所定箇所に熱風の吹きつけを行うと、当該箇所が収縮して包装用シートＳが遊技機Ｐ１の外周形状に沿って略密着する。 - 特許庁 - A radiation source 11, a detector 12 which is arranged by placing a container advancing space S between it and the radiation source 11, and an operation device 13 which performs an operation process conforming to the output of the detector 12 are provided.
放射線源１１と、放射線源１１との間にコンテナ進入スペースSをあけて配置されるディテクタ１２と、ディテクタ１２の出力に基づいて演算処理を行う演算装置１３とを設ける。 - 特許庁 - The process for preparing delapril comprises reacting N-(1-S-carbethoxy-3-phenylpropyl)-S-alanine with carbonyldiimidazole in an organic solvent, and further adding separately prepared sodium (indan-2-yl)glycinate to react the obtained compound therewith.
有機溶媒中で、Ｎ−（１−Ｓ−カルベトキシ−３−フェニルプロピル）−Ｓ−アラニンとカルボニル−ジイミダゾールを反応させ、さらに別に調製した（インダン−２−イル）グリシン酸ナトリウムを添加して反応させるデラプリルの調製方法。 - 特許庁 - If the detergent 10 and a prescribed volume of water are mixed (Figure 2 (b) process step), the base material and the cleaning solution component dissolve in the water, and the cleaning solution S can be prepared (Figure 2 (c) process step).
洗浄剤１０と所定量の水とを混合すると（図２（ｂ）工程）、上記基材および洗浄液成分が水に溶解して、洗浄液Ｓを調製することができる（図２（ｃ）工程）。 - 特許庁 - At the last, when a memory cell in the memory array is defective as a result of the discrimination process in a replacement process S 60, it is replaced by a nondefective redundant memory cell in the redundant memory array.
最後に、置換工程Ｓ６０において、判定工程の判定結果により、メモリアレイ中のメモリセルが不良品のときには、冗長メモリアレイ中の良品の冗長メモリセルに置き換える。 - 特許庁 - To provide a method for executing an information protocol individuated between an object X of a client process and an object S of a server process in an environment based on an ORB distributed object program.
ＯＲＢ分散オブジェクトプログラムに基づく環境で、クライアントプロセスのオブジェクトＸおよびサーバプロセスのオブジェクトＳの間において、個別化される通知プロトコルを実施する方法を提供すること。 - 特許庁 - When symbols of 3 specific grids are prescribed blank symbols in the tentative final pip determination process, the game machine executes a process (S 756) for substituting the character symbol for a symbol of 1 grid out of them.
また、仮最終出目決定処理において、特定の３マスの図柄が所定のブランク図柄である場合は、そのうちの１マスの図柄をキャラクタ図柄に差し替える処理（Ｓ７５６）を実行する。 - 特許庁 - In the process of performing the gas metal electric arc welding, the gas metal electric arc welding is performed by using a welding wire 8 as a negative electrode and the structure S as a positive electrode.
ガスメタルアーク溶接を行う工程では、溶接用ワイヤ８を負極、構造物Ｓを正極としてガスメタルアーク溶接を行う。 - 特許庁 - When the sequin S is dropped from the embroidery pattern in the process of working, a worker operates a mending switch after stopping an embroidery machine 1.
加工途中に刺繍柄からシークインＳが抜け落ちたときに、作業者は刺繍ミシン１を停止させた後に、補修スイッチを操作する。 - 特許庁 - A time-speed relationship in a speed reducing process is made into a S-curve to prevent a sharp change of acceleration to be applied to the substrate.
この減速過程における時間−速度の関係をＳ字曲線とすることにより、基板に加わる加速度の急激な変化を防止できる。 - 特許庁 - And then, in the deposition process, the amorphous solid electrolyte containing Li, P, S and O is made deposited in a stratified shape on the above substrate.
そして、析出工程では、Ｌｉ、Ｐ、Ｓ及びＯを含有する非晶質の固体電解質を前記基板の上に層状に析出させる。 - 特許庁 - When the sample S is put under etching process, an ion beam is irradiated, in a state of the shielding material M being intercalated near the processing surface SA.
試料Ｓのエッチング加工時には、遮蔽材Ｍが加工面ＳＡの近傍に介在された状態でイオンビームが照射されて行われる。 - 特許庁 - To lessen false signals, improve S/N ratios of video signals, enable SOC, and reduce process-like loads, and reduce the manufacturing cost.
偽信号の低減と、映像信号のＳ／Ｎ比向上を図り、ＳＯＣを可能とし、プロセス的な負荷の低減と製造コストの削減を図る。 - 特許庁 - To provide a production process for an N-acyl derivative of O,S- dialkylphosphoroamidothioate in no need of volatile and toxic solvent.
揮発性で毒性のある溶剤を使用する必要がない、Ｏ，Ｓ−ジアルキルホスホロアミドチオエートのＮ−アシル誘導体の製造方法を開発する。 - 特許庁 - The model introduction process captures data on a workpiece shape (a three-dimensional model) before finishing, the data acquisition process acquires measurement data by bringing the tool in contact with the workpiece W before finishing, and the calculation process calculates actual position data on a comparison point S from the measurement data.
モデル取込工程で仕上げ前のワーク形状（三次元モデル）のデータを取り込み、データ取得工程で仕上げ前のワークＷに工具を接触させて計測データを取得し、算出工程で計測データから比較対象点Ｓの実位置データを算出する。 - 特許庁 - The second reaction gas continuous feeding process S12 includes a second reaction gas impulse feeding process S12a of feeding the second reaction gas at an impulse flow rate greater than a basic flow rate during the first reaction gas purge process S 13b.
第２反応ガス連続供給段階Ｓ１２は、第１反応ガスパージ段階Ｓ１３ｂの進行中に行われ、かつ第２反応ガスがその基本流量よりも多い流量でインパルス供給される第２反応ガスインパルス供給段階Ｓ１２ａを含む。 - 特許庁 - In the measuring process, using a glow discharge light emission analysis method, concentration distribution of a component element in the depth direction from the surface of the sample S is measured.
測定工程では、グロー放電発光分析法を用いて、試料Ｓの表面からの深さ方向における成分元素の濃度分布を測定する。 - 特許庁 - In a re-taping process, an adhesive sheet S is adhered to the backside of a wafer W in which a background sheet B is adhered to the surface, and the background sheet is peeled.
表面にバックグラインドシートＢが貼着されたウェーハＷの裏面に粘着シートＳを貼着させ、バックグラインドシートを剥離するテープの貼り替え方法である。 - 特許庁 - To make the surface of a magnetostrictive material formed of an alloy essentially consisting of a rare earth element(s) and iron and obtained by a powder metallurgy process hard to be oxidized over a long period.
希土類元素および鉄を主成分とする合金からなり、粉末冶金法で得られた磁歪材の表面を、長期に渡って酸化され難くする。 - 特許庁 - The rotation of the wafer is decelerated to 1,500 rpm, which is a second rotation number, to rotate the wafer W at the second rotation number for 0.5 s (the process S4).
ウェハの回転を第２の回転数である１５００ｒｐｍまで減速させ、ウェハＷを第２の回転数で０．５秒回転させる（工程Ｓ４）。 - 特許庁 - When amt. of discharge is stabilized, the strand S is cut by means of the first blade 5a on the process where the shoot 3 is lowered by driving a fluid pressure cylinder 8.
吐出量が安定したら、流体圧シリンダ８を駆動してシュート３を下降させる過程で、第１の刃５ａによってストランドＳを切断する。 - 特許庁 - Meanwhile, in the monochrome mode, predetermined operation during the image forming process is started with a detection signal by a PST sensor 20 for detecting passage of the paper S as trigger.
一方，モノクロモードは，用紙Ｓの通過を検知するＰＳＴセンサ２０の検出信号をトリガに，画像形成プロセス中の所定の動作を開始する。 - 特許庁
