「S-process」を含む例文一覧(553)

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  • Article 213 (1) The Prime Minister may, to the extent necessary for the enforcement of this Act, order the organizer(s), Corporate Officer(s) at Establishment, or Supervisory Officers at Establishment (hereinafter collectively referred to as the "Organizer(s), etc." in this paragraph) of an Investment Corporation that is in the process of being established to submit reports or materials that will be helpful for understanding the business of said Investment Corporation that is in the process of being established, and may have the relevant officials enter the business office or office of the Organizer(s), etc. of said Investment Corporation that is in the process of being established and inspect the business, books, documents, and other articles pertaining to said Investment Corporation that is in the process of being established and question any persons concerned.
    第二百十三条　内閣総理大臣は、この法律の施行に必要な限度において、設立中の投資法人の設立企画人、設立時執行役員又は設立時監督役員（以下この項において「設立企画人等」という。）に対し、当該設立中の投資法人に係る業務に関し参考となるべき報告若しくは資料の提出を命じ、又は当該職員に当該設立中の投資法人の設立企画人等の営業所若しくは事務所に立ち入り、当該設立中の投資法人に係る業務若しくは帳簿書類その他の物件を検査させ、若しくは関係者に質問させることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • The shading correction process includes classifying a shading correction plate 28 into small areas of F block and S block and detecting a valid area from a plurality of classified small areas for each block.
    シェーディング補正板２８のＦブロックとＳブロックの小領域に分類し、分類した複数の小領域から、各ブロック毎に有効領域を検知する。 - 特許庁
  • When a connector terminal for a connector surface mounted on a substrate is manufactured, firstly, a plating process is applied to a plate surface of a plate material S which is not plated.
    基板上に表面実装されるコネクタのコネクタ端子を製造する際には、先ず、非メッキ処理状態の板材Ｓの板面に予め先メッキ処理を施す。 - 特許庁
  • To provide a process capable of simply, efficiently and industrially producing optically active (S)-7-hydroxy-6-methylheptan-2-one and precursor thereof.
    光学活性（Ｓ）−７−ヒドロキシ−６−メチルヘプタン−２−オンおよびその前駆体を簡便に効率よく工業的に製造することができる方法を提供すること。 - 特許庁
  • Sensor processing in an A sensor (a process of recording information about a sensor state in a division monitored by the sensor in a sensor state table) is carried out (step (denoted as S hereinafter) 106).
    Ａセンサにおけるセンサ処理（センサの監視する区間における、センサ状態の情報をセンサ状態テーブルに記録する処理）を行なう（ステップ（以下、Ｓとする）１０６）。 - 特許庁
  • To prevent the maldistribution of a specified component(s) by the partial falling of the lower part of a primary electrode in primary melting in the refining of a titanium ingot by a consumption electrode type VAR (vacuum arg remelting) process.
    消耗電極式ＶＡＲ法によるチタンインゴットの溶製において、一次溶解における一次電極下部の一部落下による特定成分の偏在を防止する。 - 特許庁
  • To provide a glass fiber which can be produced by a conventional process of glass making, does not contain any one of As, S and Se, and the core glass of which shows great effect of tertiary non-linear optics.
    Ａｓ、Ｓ、Ｓｅのいずれも含有せず、通常のガラス作製プロセスで作製でき、かつ三次非線形光学効果が大きいガラスをコアガラスとするガラスファイバの提供。 - 特許庁
  • The nozzles 4a to 4c at the stand-by positions discharge an organic EL material to the pod 50 when the substrate S is loaded on the stage 1 and the start of a coating process is demanded.
    基板Ｓがステージ１に載置され、塗布工程の開始が命令されると、待機位置にあるノズル４ａ〜４ｃが待機ポッド５０に有機ＥＬ材料を吐出する。 - 特許庁
  • In the fair blind signature process, a user converses with a signer to complete a 7-tuple (A, e, s, t, x_u, x, m) so that A^e=a_0a^x_1a^m_2a^xu_3a^t_4a^s_5(mod n) may be satisfied.
    フェア・ブラインド署名プロセスで、ユーザは、Ａ^e＝ａ_0ａ^x_1ａ^m_2ａ^xu_3ａ^t_4ａ^s_5（ｍｏｄ ｎ）になるように７タプル（Ａ，ｅ，ｓ，ｔ，ｘ_u，ｘ，ｍ）を完成するために署名者と対話する。 - 特許庁
  • The process provides an engineered host cell, and any desirable gene(s) involved in glycosylation can be expressed and targeted by using the host cell.
    このプロセスは、操作された宿主細胞を提供し、この宿主細胞を使用して、グリコシル化に関与する任意の望ましい遺伝子を発現させ得、標的化し得る。 - 特許庁
  • After dipping bridges 3B where the base material is fixed into the fluid dispersion S, a voltage is applied between the bridges 3B and the electrode 2, to thereby perform an electrophoretic process.
    基材を固定したブリッジ３Ｂを前記分散液Ｓに浸漬した後、前記ブリッジ３Ｂと前記電極２との間に電圧を印加し、電気泳動工程を行う。 - 特許庁
  • In the server system S, a status management DB 22 stores management data for state and processing history such that what stage of a process the document belongs to at present.
    サーバシステムＳでは、ステータス管理ＤＢ２２が、書類について工程中のどの段階に現在属するかといった状態及び処理履歴の管理データを記憶する。 - 特許庁
  • Since air existing between the seams S is expelled to both sides of the sealed region M during such a sealing process, no bubbles remain in a sealed face after sealing is completed.
    このようなシール過程で、継ぎ目部分Ｓの間に存するエアはシール領域Ｍの両側に追い出されるので、シール完了後、そのシール面に気泡が残留することはない。 - 特許庁
  • This structure prevents delays in timing of sending a bill R to the next process because the merging passage 8 is provided just after the common passage S.
    このような通路構成は、共通通路Ｓの直後に合流通路８を設けているので、紙幣Ｒを次の処理工程に送り込むタイミングの遅延をもたらすことがない。 - 特許庁
  • To provide IC for receiver, which can be made into single IC by means of a MOS transistor technique (process) and the like and which can obtained the required electric characteristic of an S/N and the like.
    ＭＯＳトランジスタ技法（プロセス）等で単一ＩＣ化可能であり、必要とするＳ／Ｎ比等の電気的特性も得られる受信機用ＩＣを提供すること。 - 特許庁
  • Then, acoustic featured values are extracted from all finely divided segments of the dividing object music S and a feature extracting process is conducted to make each finely divided segment into a vector (S2).
    次に、分割対象楽曲Ｓの全ての細分化区間から音響的特徴量を抽出し、各細分化区間をベクトル化する特徴抽出処理を行う（Ｓ２）。 - 特許庁
  • An output image signal of an imaging element 103 is supplied to a still picture recording section 108 via an S/H circuit 104, a pre-process circuit 105, and a signal processing section 106.
    撮像素子１０３の出力画像信号は、Ｓ／Ｈ回路１０４、プリプロセス回路１０５及び信号処理部１０６を介して静止画記録部１０８に供給される。 - 特許庁
  • A thickness of the cathode layer 46 of a parasitic diode is set to 40 μm or less, and a process for setting the life time of the layer 46 in the overall region to 10^-6 s or less is conducted.
    寄生ダイオードのカソード層４６の厚みを４０μｍ以下とし、そのカソード層４６の全域に亘ってライフタイムを１０^−６秒以下とする処理を施す。 - 特許庁
  • To provide an ion selective separator capable of efficiently obtaining separated solutions each having an ion composition different from the other(s), from an ion mixture solution at a low cost with low energy consumption and also to provide a fluid separation process using the separator.
    イオン混合溶液から、少ないエネルギーかつ安価に効率的にイオン組成の異なる溶液を得ることができる装置および分離方法を提供する。 - 特許庁
  • The first state transition probability and prescribed first reward are used to obtain a state value function V^π(s) on the basis of dynamic programming in a Markov decision process.
    第一状態遷移確率及び所定の第一報酬を用いて、マルコフ決定過程における動的計画法に基づき、状態価値関数Ｖ^π（ｓ）を求める。 - 特許庁
  • To provide a benzenesulfonic acid salt of (S)-4-[4-[(4-chlorophenyl)(2-pyridyl)methoxy]piperidino]butanoic acid having excellent antihistaminic activities and antiallergic activities, and to provide a process for producing the salt.
    抗ヒスタミン活性及び抗アレルギー活性が優れている（Ｓ）−４−〔４−〔（４−クロロフェニル）（２−ピリジル）メトキシ〕ピペリジノ〕ブタン酸のベンゼンスルホン酸塩及びその製造法の提供。 - 特許庁
  • In this process, the substrate S is tilted against the ion beam while the injection energy by the accelerator 16 is maintained to change the infiltration depth of ions in accordance with the tilt.
    その際、加速器での注入エネルギーを保持した状態で、イオンビームに対して基板Ｓを傾け、当該傾きに応じてイオンの浸透深さを変化させる。 - 特許庁
  • To provide a sulfur trioxide decomposition catalyst, particularly, a sulfur trioxide decomposition catalyst capable of lowering the temperature required when producing hydrogen by an I-S cycle process.
    三酸化硫黄分解触媒、特にＩ−Ｓサイクル法で水素を生成する際に必要とされる温度を低下させることができる三酸化硫黄分解触媒を提供する。 - 特許庁
  • Then, by turning the crucible furnace 11 along the turning route T, film formation process is carried out selectively through a mask 32 on the substrate S mounted on the substrate board 31.
    続いて、旋回経路Ｔに沿ってルツボ１１を旋回させることにより、基板台３１上に載置された基板Ｓにマスク３２を介して選択的に成膜処理を施す。 - 特許庁
  • A force sensor 40 detects working resistance varying in response to increase of incising amount of the whetstone from a contact starting time of the whetstone S with the workpiece W by in-process.
    力センサ４０は、砥石Ｓと工作物Ｗの接触開始時点から砥石の切込み量が増加するに従って変化する加工抵抗をインプロセスで検出する。 - 特許庁
  • To provide a practical gas cleaning apparatus improved in efficiency of removing S components, a process for the gas cleaning, and a gasification system and a gasification power generation system employing the apparatus.
    実用的であると共に、Ｓ成分の除去効率の向上したガス浄化装置、及び方法、それを用いたガス化システム、ガス化発電システムを提供する。 - 特許庁
  • The digital modulator DM can process a digital signal S(TA) including a symbol SYMB having a clock frequency Fclk and sampled by a symbol frequency Fsy.
    ディジタル変調器ＤＭはクロック周波数Ｆｃｌｋを含み、シンボル周波数ＦｓｙでサンプリングされたシンボルＳＹＭＢを含むディジタル信号Ｓ（ＴＡ）を処理することができる。 - 特許庁
  • Subsequently, an impurity implanting process is performed, and the source region S and the drain region D of the thin film transistor are formed by selectively implanting impurities.
    続いて注入工程を行い、半導体薄膜２に不純物を選択的に注入して薄膜トランジスタのソース領域Ｓ及びドレイン領域Ｄを形成する。 - 特許庁
  • A manufacturing plan formulating a manufacturing schedule for ordered articles in each process of a manufacturing line S is made in accordance with order acceptance information and manufacturing constraints.
    受注情報及び製造制約条件に基づき、受注された物品について、製造ラインＳの各工程での製造予定を策定する製造計画をする。 - 特許庁
  • In the firing process 4, a firing temperature and a firing time of the lumber P with the flame of the firing device S can be set voluntarily so as to adjust a color of the surface of the lumber P.
    焼成工程４は、木材Ｐ表面の色の調整を可能にすべく焼成器Ｓの炎による木材Ｐの火燃温度、火燃時間を任意に設定可能とする。 - 特許庁
  • To provide a method for producing a low-S-containing gas, by making reduced iron absorb sulfur in a reducing gas and thereby removing sulfur from the reducing gas, in a process of producing the reduced iron.
    還元ガス中硫黄分を還元鉄製造プロセスにおいて還元鉄に吸収しガスから硫黄を除去する低濃度Ｓガスの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Further, a low-molecular-weight component which is equal to vapor amount of a low-molecular-weight component in the sealing process is discharged as a second droplet D2 to the discharge region S.
    また、封止工程における低分子量成分の蒸発量と同じ量の低分子量成分を第二液滴Ｄ２にして吐出領域Ｓに吐出する。 - 特許庁
  • A saddle stitched book is manufactured though a printing process, in which a pasted-up signature S formed by pasting the back portions of respective pages together with paste, and a bookbinding process, in which a plurality of signatures are gathered under the condition that a paste is applied to the back portion of each pasted-up signature S with a pasting nozzle 31 and then pressed with a press roller 32 for binding with paste.
    印刷されて折り畳まれた各ページが背の部分で互いに糊で貼り合わせられてなる糊付け折丁Ｓを作製する印刷工程と、糊付け折丁Ｓの背の部分に糊付けノズル３１で糊を塗布しつつ複数の折丁を丁合し、プレスローラ３２で押圧して糊で綴じ合わせる製本工程とにより中綴本を製造する。 - 特許庁
  • (4) For the purposes of this section, if the patent has been granted in respect of a process for obtaining a product, the same product produced by a person other than the owner of the patent or his licensee shall, unless the contrary is proved, be taken in any proceedings to have been obtained by that process. [Ins. Act A648: s.20]
    (4)本条の適用上，特許が製品を取得する方法に関して付与されている場合は，特許所有者又はその実施権者以外の者により生産された同一の製品は，その逆の証明がされた場合を除き，如何なる法的手続においても，その方法により取得されたものとみなす。 法律A648:s.20による挿入］ - 特許庁
  • In the pattern forming method comprising a process for forming the thick film resist layer 25 with a pattern on a substrate 10 by using a mask 30, the thick film resist layer 25 is formed, and then the side faces S of the thick film resist layer 25 are hardened by irradiating the side faces S with an electromagnetic wave.
    マスク３０を用いて基板１０上にパターン付き厚膜レジスト層２５を形成する工程を含むパターン形成方法において、厚膜レジスト層２５を形成した後、厚膜レジスト層２５の側面Ｓに電磁波を照射して側面Ｓを硬化させた。 - 特許庁
  • The invention relates to crystalline S-(-)-9-fluoro-6, 7-dihydro-8-(4-hydroxypiperidin-1-yl)-5-methyl-1-oxo-1H, 5H-benzo[i, j]quinolizine-2-carboxylic acid L-arginine salt tetrahydrate, a production process therefor, and a pharmaceutical formulation containing the same as an active ingredient for use in treating infection with a microorganism.
    結晶性S-(-)-9-フルオロ-6,7-ジヒドロ-8-(4-ヒドロキシピペリジン-1-イル)-5-メチル-1-オキソ-1H,5H-ベンゾ〔i,j〕キノリジン-2-カルボン酸L-アルギニン塩四水和物、その調製方法及び微生物感染症を治療するのに使用するためのそれを活性成分として含む医薬製剤に関する。 - 特許庁
  • In the scroll expansion machine, a rotating shaft 36 is connected to a generator 16; high-pressure steam (s) is introduced to an expansion chamber (b) through a guide passage 66; and when the energy of the high-pressure steam (s) during expansion process revolves a revolving scroll 18, the generator 16 regenerates electric power.
    回転軸３６には発電機１６が接続され、導入路６６から高圧蒸気ｓが膨張室ｂに導入され、高圧蒸気ｓの膨張時のエネルギーにより旋回スクロール１８が旋回されると、発電機１６で回生電力が発生する。 - 特許庁
  • The apparatus comprises an image carrier F, a developing means G and a transfer means H, a fixing means I, a guide plate 24 having a plurality of ventilation holes 16c, an exhaust duct 18 having an opening 18a, and the process cartridge N for housing at least the image carrier F and attachable/detachable to the body case S.
    本発明は、像担持体F 、現像手段G と転写手段H 、定着手段I 、複数の通気口16c を有するガイド板24、開口18a を有する排気ダクト18、少なくとも像担持体F を収容して前記本体ケースS に着脱可能なプロセスカートリッジN を備えている。 - 特許庁
  • In a process of forming a peel-cut-hook part on a wafer W by the wafer processing device 1 and peeling a protection sheet S from the wafer W thereafter, the protection sheet S can be reliably peeled only by drawing the peel-cut-hook part at the start of the peeling.
    ウェハ加工装置１によってウェハＷに剥離切掛け部を形成することで、その後にウェハＷから保護シートＳを剥離する工程において、剥離開始時に剥離切掛け部を引っ張るだけで、確実に保護シートＳを剥離することができる。 - 特許庁
  • Since a magnetizing process is started as a polarity (S-pole) to which magnetic sensors 5a-5c do not operate at the initial polarity with an end including the blank part 14 as a reference, the magnetic sensor 5c corresponding to the blank part 14 outputs a detection signal having the same as the S-pole.
    着磁処理は、空白部１４を含む、端部を基準として最初の極性を、磁気センサ５ａ〜５ｃが動作しない極性（Ｓ極）として開始されるから、空白部１４に対応する磁気センサ５ｃはＳ極と同一の検出信号を出力する。 - 特許庁
  • The error derivation process obtains a data error between the calculated actual position data and the position data on the comparison point S of the three-dimensional model, and the correction process corrects teaching data for specifying a tool position corresponding to shape data of the three-dimensional model from the data error.
    誤差導出工程で算出された実位置データと三次元モデルの比較対象点Ｓの位置データとのデータ差を求め、補正工程で前記データ差から三次元モデルの形状データに対応した工具の位置を示す教示データを補正する。 - 特許庁
  • In a coating/developing system 10, a space NS of courtyard which is surrounded by a cassette station (C/S) 14 and the process line A of a going route, and an interface station (I/F) 18 and the process line B of a returning route is formed to extend straight in the X direction.
    この塗布現像処理システム１０においては、カセットステーション（Ｃ／Ｓ）１４と往路のプロセスラインＡとインタフェースステーション（Ｉ／Ｆ）１８と復路のプロセスラインＢとに囲まれてＸ方向にまっすぐ延びる中庭のスペースＮＳが形成される。 - 特許庁
  • The method comprises a process of obtaining a cuttlefish formed product produced by heating a cuttlefish kneaded product containing cuttlefish crushed meat and saccharides at 30-70°C to form it, a process of drying the cuttlefish formed product, and a process of soaking the dry formed product in 70-150°C edible oil for 1-120 s.
    イカ乾製品の製造方法は、イカ粉砕肉および糖類を含有するイカ混練物を３０℃〜７０℃の範囲で加温して成形したイカ成形品を得る工程、イカ成形品を乾燥する工程、および乾燥した成形品を７０℃〜１５０℃の食用油中に１〜１２０秒間浸漬する工程、を包含する。 - 特許庁
  • In the thin film formation method for forming a thin film in a surface of a processing object S by sputtering, a prevention film formation process for forming a charging damage prevention film 80 for preventing charging damage in the surface of the processing object by sputtering is carried out as a preceding process of a thin film formation process for forming a thin film 82.
    被処理体Ｓの表面にスパッタリングにより薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記薄膜８２を形成する薄膜形成工程の前工程として、前記被処理体の表面にチャージングダメージを防止するためのチャージングダメージ防止膜８０をスパッタリングにより形成する防止膜形成工程を行う。 - 特許庁
  • The output value of the planar antenna 6, obtained prior to the toner sealing member S for the process cartridge B is removed, is stored by a storing means 20 for the process cartridge B, then the toner quantity is measured after the process cartridge B is loaded to the device main body 14, and the toner quantity detection value by the planar antenna 6 is corrected by using the two values.
    プロセスカートリッジＢのトナーシール部材Ｓを除去する前の平面アンテナ６の出力値をプロセスカートリッジＢの記憶手段２０に記憶させておき、装置本体１４にプロセスカートリッジＢを装着後にトナー量測定を実施し、この２つの値を用いて平面アンテナ６によるトナー量検出値を補正する。 - 特許庁
  • A method of manufacturing a ZnO-based semiconductor device includes a process (a) of preparing a substrate; a process (b) of growing a well layer made of a ZnO-based compound semiconductor above the substrate; and a process (c) of growing a barrier layer made of a ZnO-based compound semiconductor above the substrate, while supplying sulfur S as a surfactant.
    ＺｎＯ系半導体装置の製造方法は、（ａ）基板を準備する工程と、（ｂ）基板の上方に、ＺｎＯ系化合物半導体からなる井戸層を成長する工程と、（ｃ）基板の上方に、ＺｎＯ系化合物半導体からなる障壁層を、サーファクタントとしてＳを供給しながら成長する工程とを有する。 - 特許庁
  • In a reclaiming process for crosslinked polyethylene resin by means of a kneader, the reclaiming process for crosslinked polyethylene resin features comprising a plasticizing process where pressurizing force of ≥1.0 MPa and a shear rate of ≥1,000 s-1 are applied at a reclaiming temperature of 120-400°C to the crosslinked polyethylene resin to obtain reclaimed polyethylene.
    混練機を用いた架橋ポリエチレン樹脂の再生方法であって、前記架橋ポリエチレン樹脂に対して１２０〜４００℃の再生温度で１．０ＭＰａ以上の加圧力及び１０００ｓ^-1以上のせん断速度を加え再生ポリエチレン樹脂を得る可塑化工程を含むことを特徴とする架橋ポリエチレン樹脂の再生方法。 - 特許庁
  • In the thin-film solar cell manufacturing system, a plurality of pieces of process equipment are provided on a substrate conveyance path and a thin film is formed on the substrate through the process equipment as a thin-film solar cell panel, the respective process equipment are connected in series, and further a path (S-shaped snake line) having a turn is formed.
    基板搬送路上に複数の工程機器を設け、これら工程機器を経ることで基板に薄膜を形成して薄膜太陽電池パネルとする薄膜太陽電池製造システムにおいて、前記各工程機器を直列につなげ、さらに折り返しのある経路（Ｓ字状のスネークライン）となるようにする。 - 特許庁
  • By using solutions S1 to Sm (wherein, m is ≥2 integer) containing the monomers but having different monomer compositions with each other, a main process of feeding each of the solutions S1 to S(m-1) into the reaction vessel and a post process of feeding the solution Sm into the reaction vessel after completing the main process are performed.
    単量体を含有し単量体の組成が互いに異なる溶液Ｓ１〜Ｓｍ（ｍは２以上の整数）を用い、溶液Ｓ１〜Ｓ（ｍ−１）をそれぞれ反応器内へ供給する主工程と、該主工程が終了した後に溶液Ｓｍを反応器内に供給する後工程とを行う。 - 特許庁
  • A finger that is put on a handle 132 is made to abut to a pull out restriction part 26 of the opening and closing cover 20 when the process cartridge C is pulled out from the cartridge attaching part S and in this state the cover is kept apart from a transfer roll 10, a carrying guide 21, a photosensitive drum 101 on the process cartridge side and other process means.
    カートリッジ装着部ＳからプロセスカートリッジＣを引き出した際、把手１３２に掛た指が開閉カバー２０の引き出し制限部２６に当たるようにし、この状態で転写ローラ１０、搬送ガイド２１とプロセスカートリッジ側の感光ドラム１０１その他のプロセス手段と離間しているようになっている。 - 特許庁
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