「SCRATCHES」を含む例文一覧(916)
＜前へ 1 2 .... 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 次へ＞- To provide a film which, when used as a liquid crystal component part such as a liquid crystal polarizing plate and a retardation plate or as a PDP component part, is less in scratches on the film surface and surface defects of oligomers and the like and shows good transparency, good optical performances and superior adhesion.
液晶偏光板、位相差板等の液晶構成部材、ＰＤＰ部材として用いた際に、フィルム表面キズやオリゴマー等の表面欠陥が少なく、透明性良好であり、光学的性能の良好で接着性に優れたフィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure mask capable of forming a normal pattern, without being affected by foreign matters, even if foreign matters such as very fine dust within a predetermined size range are interposed between the mask and a photosensitive material, in addition to prevention of scratches of the mask body.
マスク本体への傷付き防止に加えて、万一、マスクと感光剤との間に微小なごみ等の異物が介在した場合でも所定範囲内の大きさであれば異物の影響を受けることなく正常なパターンを形成できるような露光用マスクを提供する。 - 特許庁 - To provide an aqueous repairing coating for topcoat in repairing scratches and the like on the surface of a decorative material of furniture, fittings and the like which is free from a solvent odor and permits an amateur to coat neatly to attain a finished state of high qualities with neither uneven coating nor uneven luster.
家具、建具等の化粧材表面の傷等の補修時の仕上げ用塗料について、溶剤臭が無く、素人でも綺麗に塗れて塗装ムラや艶ムラ等も無い高品位の仕上り状態が得られる、補修用の水性塗料を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of producing a magnetic disk substrate, by which the number of scratches occurring on a surface of a glass substrate is reduced, the yield of an inspection machine of the glass substrate is improved, and further the yield of an inspection machine of a magnetic disk produced form the glass substrate is improved.
ガラス基板表面に発生する傷（スクラッチ）を低減させ、ガラス基板の検査機歩留まりを向上させ得、さらにはそのガラス基板より得られる磁気ディスクの検査機歩留まりを向上させ得る、磁気ディスク用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The present coatings curtail the growth of microcracks that can otherwise result from surface cracks or scratches on coated substrates, which provides improved wear characteristics, scratch resistance, and prevent the penetration of corrosive fluids to the substrate material.
本発明のコーティングは、別の方法で表面の亀裂又はコーティングされた表面上のスクラッチから生じる恐れのあるマイクロ亀裂の成長を抑え、これにより向上した摩耗特徴、耐スクラッチ性、基材材料への腐食性流体の浸透の防止をもたらす。 - 特許庁 - As a result, the foreign substances do not accumulate on the inner peripheral surface 8f and the outer peripheral surface 8g, and the generation of the scratches on the polished surface of a wafer caused by the foreign substances and the sticking of the foreign substances (debris) can be suppressed, and the proper polishing results can be achieved.
内周面８ｆや外周面８ｇに外部物質が堆積することがなく、ウエハの被研磨面に外部物質によるスクラッチや外部物質（異物）の付着などが発生することが抑制され、適正な研磨結果を得ることが可能となる。 - 特許庁 - To provide a surface treatment method of a conductive base material for packaging a semiconductor which allows for good adhesion to a sealing material or the like, minimization of degradation in electrical characteristics and heat dissipation, low temperature processing, excellent productivity, and reduction of marks such as scratches or rubbing.
封止材等との接着性が良好であり、電気特性及び放熱性の低下を抑制することができ、低温処理可能であって、生産性に優れ、キズやコスレなどの痕が付きにくい、半導体実装用導電基材の表面処理方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent occurrence of an unspecified number of linear scratches on a non-adhesive heat-resistant film caused by a nearly doughnut-like flat surface part of a rotating table hitting against the bottom part of a rotative mounting base in mounting the rotative mounting base on the rotating table.
回転載置台を回転テーブルに載せる時に、回転テーブルの略ドーナツ状の平面部が回転載置台の底部に当たることになり、非粘着性の耐熱被膜に線状の不特定多数の擦り傷の発生を防止することを課題とするものである。 - 特許庁 - To provide a polishing cloth capable of suppressing the occurrence of a defect (e.g., flaws or scratches or the like caused after mirror polishing) on the surface of a silicon wafer due to grooves of the polishing cloth which may be caused at the mirror polishing by contriving the shape of the grooves.
溝形状を工夫することにより、鏡面研磨時に発生する恐れのある、溝に起因するシリコンウェーハ表面の欠陥（たとえば、鏡面研磨後に発生するキズやスクラッチ等）の発生を抑制することができるシリコンウェーハ研磨布を提供する。 - 特許庁 - To provide an aqueous dispersion element for chemical mechanical polishing which suppresses generation of polishing scratches without decelerating polishing speed, and to provide a method for removing extra insulation film in a minute element separation process.
研磨速度を低下させることなく、研磨傷の発生が抑制された化学機械研磨用水系分散体及び当該水系分散体を用いて微細化素子分離工程における余分の絶縁膜の除去を行う化学機械研磨方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a wrist-watch for which a band can be easily attached and detached to/from a body without using an exclusive tool, the sufficient attaching strength of the band to the body can be secured, scratches accompanying the attaching/detaching operation of the band can be suppressed as well and a using feeling is excellent.
専用工具を用いることなくバンドを胴に容易に着脱できるとともに、胴に対するバンドの十分な取付け強度を確保でき、しかも、バンドの着脱操作に伴う傷付きを抑制できるとともに、使用感が良い腕時計を提供する。 - 特許庁 - To provide a polishing device which is capable of polishing the required layer of a target substrate at a sufficiently high polishing rate as defects caused by corrosion or scratches are reduced to the utmost while a slurry is kept high in stability and long in service life without providing an annexed feed unit.
供給付帯設備を設けることなくスラリの安定性および寿命を維持しつつ、エロージョンやスクラッチといった欠陥を極力低減し、しかも十分に大きな研磨速度で被処理基板の所望の層を研磨可能な研磨装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a decorative material which can easily be handled without receiving any scratches on the surface upon loading or unloading, allows no possibility of load collapse when stacked, and has a durable surface staining resistance in the decorative material having a pattern layer.
絵柄層を有する化粧材において、荷の積み降ろし際には、表面に傷を付けてしまうこと無く容易に取り扱うことが可能であるとともに積み重ねた際の荷崩れのおそれがなく、また、持続した耐表面汚染性を有する化粧材を提供する。 - 特許庁 - To provide a polishing pad which can make high speed polishing, restrains the generation of scratches and etchings on polished surfaces providing excellent machined surfaces and scarcely generates waste including abrasives, and a polishing device comprising the polishing pad used and a polishing method using the pad.
研磨速度が速く、研磨表面への傷やエッチングを抑制し、優れた加工表面を得ることができ、研磨終了後にも研磨剤を含む廃棄物がほとんど発生しない金属用研磨パッド、それを用いてなる研磨装置、及び研磨方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method which enables a continuous laminated sheet (A) to be manufactured by laminating a continuous film (F) on a continuous sheet (S) by heat seal, without making scratches on surfaces of laminating rolls (21 and 22) transferred onto the continuous film (F), and without causing damage to a surface treatment layer (Fh) of the continuous film (F).
貼合ロール(21、22)の表面の傷が連続フィルム(F)に転写されることがなく、また連続フィルム(F)の表面処理層(Fh)を損なうことなく、連続シート(S)に連続フィルム(F)を熱融着により貼合して連続貼合シート(A)を製造し得る方法を提供する。 - 特許庁 - The optical disk 11, when inserted or discharged, passes while being held between the dustpoof doors 2 due to an elastically energizing force, but scratches are not generated because the outer peripheral part 11a of the optical disk 11 is abutted on the dustproof doors 2 and are not in contact with flat surface parts.
挿入時や排出時に光ディスク１１は、弾性付勢力により防塵扉２に挟まれた状態で通過するが、光ディスク１１の外周部１１ａが防塵扉２に当接し、平面部には接触しないため、擦過傷は発生しない。 - 特許庁 - To significantly reduce scratches generated on a polished face of a material to be polished such as a wafer, to permit a chemical mechanical polish at a low cost not by using a consuming material such as a filter and to minimize contamination caused by the chemical mechanical polishing.
ウェハーなどの被研磨物の研磨面に生じるスクラッチの大幅な低減を図り、フィルターなどの消耗材を利用しないことにより化学的機械研磨を低コストで行うことを可能とし、しかも化学的機械研磨の際のコンタミネーションを最小限に抑える。 - 特許庁 - A dividing apparatus comprises a cutting device 20, which makes scratches on nearly entire perimeter surface where a cathode ray tube is to be divided, and rolling devices 30, which bring one heating wire 15 into a close contact with nearly entire perimeter surface of each of the cathode ray tubes.
陰極線管の分割しようとする位置の外周面上に、ほぼ全周にわたってキズを付ける切削装置２０と、１本の電熱線１５を陰極線管の外周面のほぼ全周にわたって密着させる巻き付け装置３０，３０とを有する。 - 特許庁 - To improve a conveyance tray storing an optic filter for reducing the influence of scratches and breakage on a principal plane of the optic filter due to a crack or the like from a corner or the whole of the filter to the principal plane and capable of serving both during a manufacturing process and delivery to a customer.
光学用フィルタの角部や全体からのカケなどによるフィルタ主面部のキズ破損などの主面へ影響を軽減し、製造工程でも客先への出荷にも共用できる光学用フィルタを収納する搬送トレーの改善を目的とする。 - 特許庁 - To provide a repairing material to repair scratches, if any, on genuine leather so as not to show hardness significantly different from that of genuine leather to be used for manufacturing a genuine leather product and prevent deterioration in touch of the repaired genuine leather.
傷があっても修復して本革製品に用いることができる本革材となるよう、その傷を本革材との硬さの違いが大きくならないように修復して、修復を行った本革材の触感の低下を防止できる革傷の修復材を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface washing and modification method and a surface washing and modification apparatus, wherein a plastic optical part can be polished with an abrasive and washed without leaving dirt on its surface and without forming deep scratches thereon.
研磨剤を介してプラスチック光学部品を研磨し、洗浄する際に、プラスチック光学部品の表面に汚れを残さずに、なおかつ深いキズをつけないようにすることができる表面洗浄改質方法及び表面洗浄改質装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a working tool with enhanced life by preventing a dent or the like on a metal mold or the like, abrasion, and troubles resulted from degradation such that inclusion and sticking of foreign substances such as rubbish or dust causes scratches.
金型等にあっては打痕等の発生を防止するとともに、また、擦り傷の発生を防止し、さらには、ゴミやホコリなどの異物混入や付着により傷が入るなどの不良化によるトラブルの発生を防止し、耐用寿命を増した加工用工具を提供する。 - 特許庁 - To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing used in manufacture of a semiconductor device, which provides a sufficiently high polishing speed and does not impart scratches on a surface to be polished, and a method for polishing a film to be polished by the aqueous dispersion and manufacturing a semiconductor device.
十分な研磨速度が得られ、且つ被研磨面に傷が付くことがない半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体、及びこの水系分散体によって被加工膜を研磨し、半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - When a wafer W is suction held by forming a negative pressure region X at a position on the surface of a protrusion WB by air blown outward from an outlet 7, the wafer W can be supported by non-contact and scratches on the wafer W can be prevented.
吹出口７から外方に吹き出した空気によって凸部ＷＢ表面位置に負圧領域Ｘを形成してウェハＷを吸引保持することで、ウェハＷを非接触で支持することができ、ウェハＷへの傷付きを防止することができる。 - 特許庁 - To provide an anode roller capable of maintaining stable production at low cost and forming a film having a plating film with few abnormal particulate protrusions, dent-like defects and scratches, and an apparatus and a method for forming the film having the plating film.
低コストで安定した生産を維持でき、異常突起粒状物や凹み状欠陥、傷の少ないめっき被膜付きフィルムの製造を行うことができる陰極ローラおよびめっき被膜付きフィルムの製造装置および製造方法を提供すること。 - 特許庁 - Therefore, base material-supporting force by the backup roll 16 is increased, and the slippage between the aluminum web and the backup roll 16 is prevented to cause no qualitative defect due to scratches on the surface of the aluminum web, and a photosensitive printing plate is excellently coated.
このため、バックアップロール１６による支持体の保持力を増大させることができ、アルミウェブとバックアップロール１６との間のスリップを防止することができ、アルミウェブの表面のキズによる品質故障がなく、感光性印刷版を良好に塗布することができる。 - 特許庁 - To provide a resin sheet for an automobile good in embossing processability and wear resistance, and when used as a floor sheet of an automobile, hard to have scratches on the surface and hard to slip because the coefficient of dynamic friction is large, and good in the interlayer adhesion even at high temperatures.
エンボス加工性と耐摩耗性が良好であり、自動車のフロアシートとして使用したとき、表面に傷が付きにくく、動摩擦係数が大きいために滑りにくく、高温においてもシートの層間密着性が良好である自動車用樹脂シートを提供する。 - 特許庁 - To provide a cleaning device for an electrophotographic device in which rise of friction force of a rubber blade which scratches off toner on a bias roller is effectively prevented even during image creation, generation of insufficient cleaning and abnormal noise is prevented and an image with stable image quality is obtained.
バイアスローラ上のトナーを掻き落とすゴムブレードの摩擦力上昇を画像作成中にも効果的に防ぎ、クリーニング不良・異音の発生を防ぎ安定した品質の画像を得ることができる電子写真装置用クリーニング装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a white electroconductive core-sheath structure monofilament reducing abrasion of metal components in contact with the monofilament in a case in which the monofilament receives scratches and abrasion, and having excellent conductive performance; and an industrial woven fabric using the electroconductive conjugate monofilament as a constituent material.
擦過や摩耗を受けた場合において、接触する金属部品の摩耗を軽減し、優れた導電性能を有する白色の導電性芯鞘構造モノフィラメントおよびこの導電性複合モノフィラメントを構成素材に使用した工業用織物の提供。 - 特許庁 - To provide a method capable of simply manufacturing a solar battery module wherein generation of problems such as increase of cost and decrease of strength which are to be caused by working a transparent insulating substrate and generation of scratches of the transparent insulating substrate are prevented, and optical environmental pollution due to a reflected light from a surface can be prevented.
透明絶縁基板の加工に伴うコスト増や強度低下など問題、および透明絶縁基板の傷を防止し、かつ表面からの反射光による光公害を防止できる太陽電池モジュールを簡便に製造できる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a cleaning sheet capable of removing unnecessary projections formed on the surface of a workpiece and foreign matter and stain adhered to the surface and reducing scratches formed on the surface of the workpiece without cutting the surface of the workpiece too much.
ワークの表面に形成されている不要な突起、及び表面に付着している異物や汚れを除去でき、ワークの表面を削りすぎず、ワークの表面に形成されているスクラッチを低減できるクリーニングシート及びその製造方法を提供することである - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an epitaxial wafer, the method enabling a reduction in occurrence of particles due to friction of a back surface edge portion and a susceptor caused by warpage of the wafer when carried into a reactor vessel and occurrence of scratches on the silicon wafer back surface edge portion without requiring a complicated apparatus.
複雑な装置を必要とせずに、反応容器内への搬入時に起こるウェーハの反りに起因する裏面エッジ部とサセプタとの擦れから発生するパーティクル、及びシリコンウェーハ裏面エッジ部における傷の発生を低減することが可能なエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a polishing pad and a polishing device, little causing scratches on the surface of a board and optically favorably measuring the polishing state during polishing in the polishing pad used for forming a flat surface on glass, a semiconductor, a dielectric substance/metal composite substance and an integrated circuit.
ガラス、半導体、誘電／金属複合体及び集積回路等に平坦面を形成するのに使用される研磨用パッドにおいて、基板表面にスクラッチが生じにくく、研磨中に研磨状態を光学的に良好に測定できる研磨パッドおよび研磨装置を提供する。 - 特許庁 - To provide the manufacturing method of a semiconductor wafer, capable of grinding a metal film at a high speed on a semiconductor substrate under a low grinding pressure, controlling etchability which causes dishing at a low level, and also suppressing the occurrence of defects on a ground surface, such as scratches or erosion.
低研磨圧力下においても半導体基板上の金属膜を高速に研磨でき、かつディッシングの原因となるエッチング性も低いレベルに制御され、同時にスクラッチやエロージョン等の被研磨面の欠陥発生も抑制することのできる半導体ウェハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To directly remove dust and toner in a vibration part, to eliminate contamination and scratches on the inner periphery of an image carrier, to stabilize characteristics of the image carrier with lapse of time, and to also suppress deterioration of vibration efficiency, in a method for assisting toner transfer by vibration.
加振印加によりトナー転写をアシストする方式において、加振部のゴミやトナーなどを直接取り除くことができ、これにより像担持体の内周の汚れやキズを無くして像担持体の特性を経時に安定させることができるとともに、振動効率の低下も抑制できるようにする。 - 特許庁 - Also, accompanying the detailed inquiry or a service request from the purchase desiring person side, digital images (enlarged photos) of scratches 31 and 32 or the like and detailed digital images (enlarged photos) of a pertinent part in the case of changing or adding a basic machine kind or a damaged part are distributed.
また、購入希望者側からの詳細な問い合わせ又はサービス要求に伴い、傷３１，３２等のデジタル画像（拡大写真）、及び損傷部分又は基本機種を変更又は追加した場合については、該当部分の詳細なデジタル画像（拡大写真）が配信される。 - 特許庁 - Alternatively, the light collected by the collectors 38, 52 is filtered by a spatial filter having a circular gap of an angle related to angle difference of expected pattern scattering, and the signals obtained from a narrow angle and a wide angle collection channels may be compared to distinguish between micro-scratches and particles.
あるいは、集束器３８，５２によって集束された光線は、予測されるパターン散乱の角度差に対応する角度の環状ギャップを有する空間フィルタによって濾波され、狭角および広角集束経路から得た信号は比較され、マイクロスクラッチと粒子との間を識別する。 - 特許庁 - To provide a system for minor repairing of vehicles devised so that it can go to an optional place such as a parking lot and a gas station where vehicles are usually parked, other than a repair shop, and carry out easily and sanitarily repairing work of comparatively minor scratches and dents of vehicles.
車両の比較的軽微なキズやへこみ等の軽補修を、当該車両が置いてある駐車場やガソリンスタンドといった専門工場以外の任意の場所に出向いて、簡単に且つ衛生的に行うことができるように工夫した車両用軽補修システムを提供する。 - 特許庁 - To decrease dust adherence to a surface of a polishing object, to reduce scratches, to simultaneously realize a flatting property, and to eliminate microscopic irregurality of a semiconductor wafer itself before uneven part machining, namely defects expressed as waviness or nanotopology, by a simple polishing method.
被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、即ちwavinessや、nanotopologyなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁 - A rear drive unit 4 is provided with a motor generator 100, the casing 200 storing oil inside, a counter gear 300 which is arranged in the casing 200 and scratches up oil by rotation by the power of the motor generator 100, and a catch tank 920 receiving oil scratched up by the counter gear 300.
リア駆動ユニット４は、モータジェネレータ１００と、内部にオイルが貯留されたケーシング２００と、ケーシング２００の内部に設けられ、モータジェネレータ１００の動力により回転してオイルを掻き上げるカウンタギヤ３００と、カウンタギヤ３００に掻き上げられたオイルを受け入れるキャッチタンク９２０とを備える。 - 特許庁 - To provide a long sheet draining treatment device which performs a proper draining treatment to a long sheet while suppressing the occurrence of meandering of the long sheet and that of wrinkles, scratches and the like to the long sheet even when the long sheet is accelerated in the carrying speed.
長尺状シートの搬送速度を高めた場合であっても、長尺状シートの蛇行の発生や長尺状シートのシワやキズ等の発生を抑制しつつ、長尺状シートに対して適切な水切処理を行うことが可能な長尺シート水切処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method in which a predetermined shape of products made of magnesium material can be produced by a plastic processing of a plate of magnesium material without any cracks or any scratches on the surface of products therein, even though minimum chamfer R on the surface of products is small.
マグネシウム材製品表面の最小Ｒが小さくても、製品に割れが生じたり、製品の表面に傷が生じたりすることなしで、マグネシウム材板の塑性加工によって所定形状のマグネシウム材製品を製造することができる製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a torque limiter which prevents slipping between an inspecting shaft and an insertion hole of a shaft member in release torque inspection, requires not many man hours for repairing scratches on the shaft member or removing the inspecting shaft without impairing commercial value, and a method for inspecting release torque of the torque limiter.
リリーストルク検定において、検定用軸と軸部材の嵌合穴との間の滑りを防止することで、軸部材の傷の修復や検定用軸の取り外しに多大の工数を費やすことなく、かつ商品価値が損なわれないトルクリミッタおよびトルクリミッタのリリーストルク検定方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent a failure in the gripping of a resin molded article, scratches caused by a suction part and the like, and also make compatible a variety of resin molded articles with three-dimensionally complicated surface shapes, in a device for gripping a resin molded article, and to reduce the size and cost of the device.
樹脂成形品の把持装置において、樹脂製形品の把持不良を抑止し、かつ吸着部品による擦り傷等の発生を抑止すると共に、三次元的に複雑な表面形状の多種類の樹脂成形品にも対応可能とし、かつ当該装置の小型化及びコストダウンを図る。 - 特許庁 - To effectively suppress the generation of scratches of a transparent cover caused by the contact with an extension reflector even in the case where the extension reflector is temporarily fixed to the transparent cover in a lighting fixture for a vehicle formed so that the transparent cover and the extension reflector are wrapped around the rear part.
透明カバーおよびエクステンションリフレクタが後方側へ回り込むように形成された車両用灯具において、エクステンションリフレクタを透明カバーに仮止めするようにした場合においても、エクステンションリフレクタとの接触による透明カバーのキズ発生を効果的に抑制する。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor which forms a photosensitive layer having a crosslinked surface layer which is superior in resistance to abrasion, resistance to scratches, electrical characteristics, uniformity, smoothness and transparency; has excellent cleaning characteristics and high durability and which provides high-quality images over a long period of time.
耐摩耗性、耐傷性、電気的特性に優れ、均一で平滑性、透明性に優れた架橋表面層を有する感光層を形成し、クリーニング特性が良好で、高耐久性を有し、かつ長期間にわたり高画質化を実現した電子写真感光体の提供。 - 特許庁 - In the method for producing the aerosol can, a hair line 1a composed of many scratches having concavities and convexities, is formed on a surface, and partial coating is conducted to the hair line to partially conceal the hair line, and consequently the surface of a container is divided into a hair line part and a specular face 5a part.
表面に、多数の凹凸状の引っ掻き傷よりなるヘアライン１ａの加工を施し、その上に部分的に塗装を施して、部分的にヘアラインを隠すことにより、容器表面をヘアライン部と鏡面５ａ部とに分けることを特徴とするエアゾール缶の製造方法。 - 特許庁 - To provide an optical recording device which is capable of holding the distance between the end face of an SIL and an optical recording medium constant and is capable of preventing the focus from being deviated and also is capable of performing a high-density recording even when scratches and recesses exist on the surface of the optical recording medium and whose manufacturing is also easy.
光記録媒体表面に傷や凹みが存在する場合でも、ＳＩＬ端面と光記録媒体間の距離を一定に保持し、フォーカスがはずれるのを防ぎ、また高密度の記録を可能とし、製造も容易で優れた光記録装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation curable conductive composition which, using a radiation curable material soluble in water or soluble in a water-soluble organic solvent and an organic conductive material, is freed from causing the separation of the composition and can form a conductive film excellent in heat resistance/abrasion resistance/transparency and hard to take scratches.
水溶性または水可溶性有機溶剤に可溶な放射線硬化材料と有機導電性材料を用い、組成物の分離がなく、耐熱性・耐磨耗性・透明性に優れ、傷が付きにくい導電膜を形成することができる放射線硬化型導電性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor free from defects, such as, wear or scratches due to repeated use of the photoreceptor, the defects relating to the output image quality of an image forming apparatus, as well as, being less apt to cause uneven image density, and is capable of forming an image of high image quality over a long period of time.
感光体の繰り返し使用による摩耗や傷などの、画像形成装置の出力画質に関わる欠陥が生じないとともに、画像濃度ムラが生じにくい、長期に亘って高画質画像を形成することができる電子写真感光体を提供することを目的とする。 - 特許庁
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