「SCRATCHES」を含む例文一覧(916)

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  • To provide a disk storage body which can reduce the formation of scratches and stains on a surface of an optical disk, and which can prevent an ink receiving layer from sticking fast on the inside of the storage body.
    光ディスク表面のキズや汚れが付くことを低減すること、収納体の内側にインク受理層が貼りつくトラブルを防止することが可能なディスク収納体を提供する。 - 特許庁
  • The protective layer is easy to remove using standard cleaning method, while providing satisfactory surface protection against particle contamination and scratches, at a very low coating thickness.
    保護層は、きわめて薄いコーティング厚で、粒子汚染および引っかき傷に対する十分な表面保護をもたらす一方、標準的なクリーニング法を用いて容易に除去される。 - 特許庁
  • To provide a technique for removing regions of 'missing data' on a film which may include date regions, or may be the result of spots, scratches or folds on the film.
    走査されたフィルムから、データ領域を含むような又はフィルム上のシミ、掻き傷若しくは折れ目の結果であるような“喪失データ”の領域を除去する技術を提供する。 - 特許庁
  • Next, scratches or polishing distortion slightly generated on the wafer by the polishing part 12, are removed on the polishing part 13 by a polishing pad 15 of two-layer structure, and thus finish-polishing is performed.
    次に、研磨部１３において、２層構造の研磨パッド１５によって、研磨部１２でウェハーに軽度に発生したスクラッチや研磨歪が除去され、研磨の仕上げがなされる。 - 特許庁
  • To provide a contact type charging/discharging conductive sheet that prevents scratches from being formed on the surface of a photoreceptor, also, prevents toner components from sticking on the surface of the photoreceptor, and also, prevents the toner from firmly sticking on its own surface.
    感光体表面のキズの発生およびトナー成分の付着を防止し、自己の表面へのトナー固着を防止する接触式帯電／除電用導電シートを提供すること。 - 特許庁
  • By feeding a polishing pad of a double-sided polisher the obtained dilute solution, a gallium arsenide wafer is polished to obtain a polished surface with little surface roughness (Ra) and less scratches/flaws.
    得られた希釈液を両面研磨機の研磨パッドに供給しながらヒ化ガリウムウェーハを研磨したところ、表面粗さ（Ｒａ）が低くスクラッチ・傷の少ない被研磨面が得られた。 - 特許庁
  • The electrolytic polishing liquid having good dispersion of the abrasive grains is used, thus the abrasive brains are not allowed to remain and defects such as scratches are not caused after polishing.
    また、本発明の電解研磨方法では、研磨砥粒の分散状態が良好な電解研磨液を用いるので、研磨後に砥粒残りやスクラッチ等の欠陥の発生がない。 - 特許庁
  • To stably and precisely correct displacement at a low cost by preventing scratches and foreign matter on a transfer belt and recesses and projections on its surface from being erroneously recognized as displacement correction patterns.
    転写ベルト上の傷や異物や表面の凹凸を、位置ずれ補正用パターンと誤認識しないようにして、低コストで安定して正確な位置ずれ補正ができるようにする。 - 特許庁
  • To obtain a glass-polishing abrasive which can give a clean ground surface with no deposits attached to the surface and with no defects such as pits and scratches and a polishing method using the same.
    ガラス表面に付着物がなく、かつピットやスクラッチなどの欠陥のない清浄な研磨面を得ることができるガラス研磨用研磨材およびその研磨方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a composition for forming a polishing layer of a chemical mechanical polishing pad having polishing properties, such as high polishing speed, giving excellent flatness and less scratches to a workpiece.
    研磨速度が高く、被研磨物の平坦性に優れ、被研磨物のスクラッチが少ないなどの研磨特性を有する化学機械研磨パッドの研磨層形成用組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To prevent the deterioration of image quality and the scratches of a fixing roller due to the shortage of oil by eliminating an erroneous detection of remaining oil quantity due to a foreign matter such as toner and paper powder, mixed into an oil storage part.
    オイル貯留部内に混入したトナーや紙粉等の異物によるオイル残量検知ミスをなくし、オイル切れによる画質劣化や定着ローラ傷つきを防止する。 - 特許庁
  • To suppress impact scratches to a driving means, when a process cartridge is attached to an apparatus main body by easily replacing the process cartridge in an image forming apparatus, using a simple constitution.
    画像形成装置内のプロセスカートリッジを、簡易な構成により容易に交換可能とし、プロセスカートリッジが装置本体に装着される際に駆動手段が受ける衝突傷を抑制する。 - 特許庁
  • To provide a biaxially stretched polyethylene terephthalate-based resin film which is excellent in dimensional stability and is extremely less in thickness unevenness, and in which scratches causing optical defects hardly exist on its surface.
    寸法安定性が良好で、厚み斑がきわめて小さく、光学欠点となり得るキズが表面にほとんど存在しない二軸延伸ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a water-based dispersion to be used for mechanochemical polishing of copper, having excellent stability and a high polishing rate, causing little scratches or the like, and useful for the production of a semiconductor device.
    銅の化学機械研磨に用いられ、安定性に優れ、研磨速度が大きく、且つスクラッチ等の発生が少ない、半導体装置の製造において有用な水系分散体を提供する。 - 特許庁
  • But it did mean something to you: Those chicken scratches were the explanation of an idea that you might dedicate the next two years of your life to seeing realized.
    しかし、自分にとっては何らかの意味があります。 その判読不能な絵は、それを実現するために、自分の人生の次の 2 年を捧げるかもしれないアイデアを表現したものです。 - NetBeans
  • To prevent connection loss and reflection attenuation being important features of optical connectors from lowering, by preventing scratches from generating on the tip end face of a ferrule through vibration in transit.
    輸送中の振動によるフェルールの先端面にキズの発生を防止することにより、光コネクタとして重要な特性である接続損失、反射減衰量を悪化させない。 - 特許庁
  • According to this method, the rear surface of printing paper P can be prevented from being slipped on the paper discharging unit 7 or from generating scratches or creases whereby the stabilized discharging of the paper can be effected.
    これにより、印刷用紙Ｐの裏面が排紙部７上でスリップすることを防止でき、印刷用紙Ｐ裏面の傷やシワの発生を防止して安定した排紙を行えるようになる。 - 特許庁
  • To provide a notebook computer capable of increasing the buying inclination of a purchaser by removing stains, odors and scratches, etc., stuck to a used notebook computer and recycling it finely.
    中古のノート型パーソナル・コンピュータに付着した汚れ、悪臭、傷などを除去して綺麗に再生し、購入者の購買意欲を高めることができるノート型パーソナル・コンピュータを提供する。 - 特許庁
  • To provide a crosslinked polyoelfin resin foam having excellent performance as a shock absorbing material for members which easily get scratches by controlling expansion ratio, gel fraction, and resin species.
    発泡倍率、ゲル分率、樹脂種を制御することにより傷の付きやすい部材への緩衝材として優れた性能を有する架橋ポリオレフィン系樹脂発泡体を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of suppressing generation of scratches due to a stage on a back surface of a wafer while suppressing the decline of productivity of the semiconductor device.
    半導体装置の生産性が低下することを抑制しつつ、ウェハの裏面に、ステージに起因した傷が発生することを抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To prevent a display part of an ultrasonic tomographic image from becoming dirty due to fingerprints and scratches when the ultrasonic tomographic image displayed on a display device with a touch panel is dragged for operation.
    タッチパネル付き表示装置に表示されている超音波断層画像をドラッグ操作する場合に、超音波断層画像の表示部分に指紋や傷が付いて汚れることを防止する。 - 特許庁
  • When the metallic carrier comprising a honeycomb body obtained by stacking or winding metallic flat foil and corrugated foil is produced, the flat foil and corrugated foil are disposed in such a way that scratches on the surface of the flat foil and scratches on the surface of the corrugated foil make an angle at the contact parts of the flat foil and corrugated foil and the contact parts are bonded by diffusion bonding.
    金属製平箔と波箔とを積層し又は巻き回したハニカム体よりなるメタル担体の製造方法であって、前記平箔と波箔との接触部において平箔表面のスクラッチ疵と波箔表面のスクラッチ疵とを相互に角度をなして配置し、該平箔と波箔との接触部を拡散接合によって接合することを特徴とするメタル担体およびその製造方法。 - 特許庁
  • To provide a colloidal silica abrasive to be used for polishing and flattening a surface wherein a metal film and an insulation film coexist which can reduce the generation of scratches and has a long shelf life.
    メタル膜及び絶縁膜が共存する表面の平坦化研磨の際に使用されるコロイダルシリカ研磨剤であって、スクラッチの発生が低減され、シェルフライフの長い研磨剤を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a sheet-fastening bar material locking a sheet without producing scratches regardless of how tensibility is, and enabling an operation of so-called multiple stretching for a sheet with high tensibility.
    伸性の如何に拘らず疵を生じさせることなくシートを係止することができると共に、伸性の大きいシートでは所謂多重張りを実施することができるシート止用条材を提供する。 - 特許庁
  • To produce an air clad optical fiber having a large light accepting angle which can transmit a larger quantity of light without decreasing the optical transmission efficiency due to scratches on the core material.
    受光角が大きくより多くの光を伝送することができる空気クラッド光ファイバを、コア材に傷が付いて光伝送効率が低下するようなことなく製造することができるようにする。 - 特許庁
  • To provide a CMP abrasive which enables a highly planarized polishing surface and polishes a surface of a silicon oxide insulation film, etc., at a high rate, without scratches, and is improved in store stability.
    研磨面の高平坦化が可能で、酸化珪素絶縁膜等の被研磨面を傷なく、高速に研磨することが可能なことに加えて、保存安定性を改良したＣＭＰ研磨剤を提供する。 - 特許庁
  • By the above method and product, the sufficient adhesion between the films and the base material is maintained, the composite hardness is increased, scratches are prevented, the brightness of the base material metal is retained, and the discoloration thereof can be prevented.
    上記方法及び製品によれば、膜と基材の十分な密着性を維持して、複合硬度を高め、擦過傷を防止し、基材金属の輝きを保ち、変色を防止することができる。 - 特許庁
  • To provide a pneumatic tire reducible in weight and respectively suppressed in the generation of standing waves, the occurrence of the cut and peel-off caused by scratches and the generation of separation at both ends of an outer belt.
    軽量化を図ると共に、スタンディングウェーブの発生、外傷によるカットやピールオフの発生、及び外側ベルトの両端でのセパレーションの発生を夫々抑制できる空気入りタイヤを提供する。 - 特許庁
  • To provide abrasive grains for polishing, aqueous dispersion for polishing and an abrasive material, which are excellent in dispersion stability and polishing ability and suitable for fine polishing by chemical machine polishing without generating polishing scratches.
    分散安定性と研磨能力に優れ、かつ研磨傷の発生せず、化学的機械研磨による精密研磨に適した研磨用砥粒、研磨用水性分散液、及び研磨剤を提供する。 - 特許庁
  • When a germanium wafer is polished while supplying the obtained wafer polishing liquid composition to a polishing pad of a one-sided polisher, a polishing surface is obtained with low surface roughness (Ra) and few scratches and flaws.
    得られたウェーハ研磨液組成物を片面研磨機の研磨パッドに供給しながらゲルマニウムウェーハを研磨したところ、表面粗さ（Ｒａ）が低くスクラッチ・傷の少ない被研磨面が得られた。 - 特許庁
  • To provide a coated paper having excellent luster, preventing dusting at a smoothing apparatus, and also preventing the generation of coating defects such as streaks or scratches in a coating operation.
    平滑化処理装置のダスティングの発生を防止すると共に、塗工操業時におけるストリークやスクラッチ等の塗工欠陥の発生を防止し、また優れた光沢感を有する塗工紙を提供する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method that prevents scratches from being generated in CMP processing and short circuit with an adjacent plug from being generated when forming a contact plug in a semiconductor element using a low temperature silicide film.
    低温シリサイド膜を使用する半導体素子において、コンタクトプラグ形成時に、ＣＭＰ処理でスクラッチが発生し、隣接のプラグとの短絡が生じるのを防止する製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To make even a bent part extending lengthwise and crosswise by laser welding or traces of spot welding inconspicuous without post-finish after welding in a sheet film capable of coping with the unremovable stain or scratches by re-sticking.
    除去できない汚れや傷には貼り替えにて対応できるシートフィルムにて、溶接後の後仕上げなしに、レーザ溶接による縦横に走る屈曲部やスポット溶接痕であっても、目立ちにくくする。 - 特許庁
  • The durability of a magnetic disk is evaluated, based on a criterion on whether there are not less than a number of permitted scratches on the surface of a disk after the seek operation in a scratch observation/evaluation processing (step S105).
    そして、傷の観察／評価処理（ステップＳ１０５）で、そのシーク動作後のディスク表面に許容以上の多数の傷が付いているか否かの判定に基づいて磁気ディスクの耐久性が評価される。 - 特許庁
  • To provide slurry for CMP that reduces defects, such as erosion and scratches, as much as possible, and at the same time, can moreover polish a desired layer having conductivity, such as metals at sufficiently large polishing speed.
    エロージョンやスクラッチといった欠陥を極力低減し、しかも十分に大きな研磨速度で、メタル等の導電性を有する所望の層を研磨可能なＣＭＰ用スラリーを提供する。 - 特許庁
  • A copper or copper alloy material is manufactured, whose surface roughness is ≤0.1 μm in the arithmetic average roughness (Ra) and ≤1 μm in the maximum height (Rz), and on whose surface roll scratches do not exist.
    表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）で０．１μｍ以下、かつ最大高さ（Ｒｚ）で１μｍ以下であり、さらに材料表面にロールスクラッチが存在しない銅または銅合金材を製造する。 - 特許庁
  • Since cerium is an ion in the diammonium cerium nitrate (VI) solution and it does not contact the object 2 to be polished in a form of an abrasive grain, there will be no scratches on a surface of the object 2 to be polished.
    硝酸二アンモニウムセリウム（VI）水溶液では、セリウムがイオンとなっており、砥粒の形態で被研磨物２と接触しないため、被研磨物２の表面にスクラッチが発生することがなくなる。 - 特許庁
  • To provide an infrared-ray transmissive structural body having improved infrared transmittance ratio, simultaneously, having improved environment-resistance without peeling of an antireflection film or scratches on the film, even in when used under a severe environment.
    優れた赤外線透過率を有すると同時に、過酷な環境下での使用に対しても反射防止膜の剥離や傷の発生のない、耐環境性に優れた赤外線透過構造体を提供する。 - 特許庁
  • The sheet P can be separated without producing scars and scratches on the surface by forming curved surfaces on all end parts 19a-19e abutting on the sheet P of the slant member 19.
    そして、この斜面部材１９のシートＰと当接する端部１９ａ〜１９ｅを全て曲面とすることにより、表面に傷や擦れが生じることなくシートＰを分離することができるようにする。 - 特許庁
  • To provide an electrolytic treatment apparatus which can prevent generation of scratches in a belt-like body and does not cause transfer failure of the belt-like body even if the interval between an electric insulating plate and the belt-like body is narrowed; and to provide an electrolytic treatment method.
    電気絶縁板と帯状体との間隔を狭めても帯状体の傷付きや搬送不良が生じることのない電解処理装置および電解処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To obtain a metal product, especially a noble metal product which is almost free from scratches and is capable of preventing formation of damages and degeneration by imparting flexibility, resistance to damages, corrosion resistance, fire resistance and antibacterial activity to the surface of the metal product body.
    金属製品体の表面に可撓性、耐傷性、耐食性、耐火性及び抗菌性を付与して、傷が付き難く、損傷や変質を防止できる金属製品、特に貴金属製品を得る。 - 特許庁
  • To provide a chemical mechanical polishing pad, capable of suppressing occurrence of scratches on the surface of a polished object in a chemical mechanical polishing process and capable of giving the surface of a polished object having superior surface flatness.
    化学機械研磨工程における被研磨面のスクラッチ発生を抑制でき、かつ表面平坦性に優れた被研磨面を与えることができる化学機械研磨パッドを提供すること。 - 特許庁
  • To provide a dust collecting device which prevents the appearance from being spoiled by preventing scratches on the inner surface of a dust box and prevents the odor production and an electric vacuum cleaner using it.
    ダストボックス内面の傷付きを防止して美観の低下を防ぐことができると共に、悪臭の発生を抑制することができる集塵装置及びそれを用いた電気掃除機を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing an aligned film of which the rate of change of the film width is kept low and the scratches, etc., on the film are reduced in the method for manufacturing the aligned film with a dry-stretching method.
    乾式延伸法による配向フィルムの製造方法であって、フィルム幅の変化率を低く抑え、かつフィルムの傷等の低減された配向フィルムを製造しうる方法を提供すること。 - 特許庁
  • To stably and efficiently provide a workpiece holding board protecting the bottom surface of the workpiece from scratches or stains and capable of polishing the top surface of the workpiece to excellent flatness and demon mirror image when polishing the workpiece.
    ワークを研磨する際、ワーク裏面に傷や汚れを付けない上、ワーク表面を非常に良好な平坦度および魔鏡像とすることができるワーク保持盤を安定かつ効率的に提供する。 - 特許庁
  • To provide a copper plate scratch-inspecting apparatus that is capable of detection even under string inspection environment, and in particular can reliably detect scratches that are generated in parallel with the running direction of the steel plate.
    本発明は、厳しい検査環境でも検出可能で、特に鋼板の走行方向に平行に生じる疵を確実に検出することのできる鋼板疵検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide an optical disk device, in which error correction capability can be improved, even when more errors than supposed is produced for some cause, such as excessive dust, scratches, and the like on a disk of large capacity.
    大容量化されたディスク上で、極端なゴミ、傷など何らかの原因により想定以上のエラーが生じた場合でも、誤り訂正能力を向上できる光ディスク装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a structure of a partition wall for a kitchen which can retain an aesthetic appearance for a long period of time because of a surface which hardly gets stains and scratches and is fireproof in case of a fire in the kitchen.
    表面に汚れや傷が付き難いことから長期的な美的外観が得られ、キッチン内部で火災などが生じた際における防火性を備えたキッチンの隔壁構造を提供する。 - 特許庁
  • To suppress production of scratches, particles and the like caused by substrate deformation, suppress a decrease in substrate holding force due to the substrate deformation, when conveying the substrate, and achieve stable high-speed carriage.
    基板の搬送にあたり、基板変形によるキズやパーティクル等の発生を抑制するとともに、基板変形に伴う基板保持力低下を抑制して安定した高速搬送を実現可能とする。 - 特許庁
  • To provide an ink composition which can suppress generation of scratches on a recording image, especially marks of a paper feed roller of a printer (jagged traces) while maintaining color development properties of the recording image.
    本発明の目的は、記録画像の発色性を維持しつつ、記録画像上の傷、特にプリンタの紙送り用ギザローラ痕（ギザ跡）の発生を抑制することのできるインク組成物を提供することにある。 - 特許庁
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