「SCRATCHES」を含む例文一覧(916)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 18 19 次へ＞- To provide transmittable sheet roll goods for an optical information recording medium, on the transmittable sheet of which indentations and scratches can be prevented from being generated.
透過性シートに圧痕や擦り傷が発生することを防止することができる光情報記録媒体用の透過性シート原反を提供する。 - 特許庁 - To provide a disk cartridge which assures reliable holding and removal of an optical disk and prevents recorded data loss due to stains or scratches.
光ディスクを確実に保持して取り出すことができ、汚れや傷等による記録データの損失を防ぐことが可能なディスクカートリッジを提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of restricting generation of rubbing scratches in a heat receiving part when the heat receiving part is brought into press-contact with a developing unit.
受熱部を現像ユニットに圧接させるときの受熱部の摺擦傷の発生を抑制することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a low-priced Fresnel lens which is hardly deformable and free from scratches on a projecting part formed on the surface of the lens and its manufacturing method.
変形し難く且つレンズ表面に形成された凸部に損傷のない、しかも安価なフレネルレンズ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an aqueous dispersing element for polishing a chemical machine capable of suppressing the occurrence of scratches even on an interlayer insulating membrane having a small elastic modulus.
弾性率の小さい層間絶縁膜であってもスクラッチの発生が抑えられる化学機械研磨用水系分散体を提供する。 - 特許庁 - To provide a composite material tool plate for polishing, which tool plate does not give a fear of causing scratches on a workpiece, and has a wearless working surface and a long life.
被加工物にスクラッチが入るおそれがなく、かつ加工面の摩耗がなく長寿命な研磨用複合素材工具プレートを提供する。 - 特許庁 - To reduce scratches to occur on a surface of a polysilicon film even if the polysilicon film is used as a stopper film of CMP.
ＣＭＰのストッパ膜として多結晶シリコン膜を用いた場合においても、多結晶シリコン膜の表面に発生するスクラッチを低減させる。 - 特許庁 - To provide a polishing method for enabling highly uniform polishing by considerably reducing scratches, damages and waviness, and also enabling high speed polishing.
スクラッチや傷、うねりを大幅に低減して均一性の高い研磨を可能とすると共に、高速研磨を可能とする研磨方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent scratches from being made on a disk due to contact with a disk guide immediately after start of conveyance of the disk that is inserted from an insertion slot.
挿入口から挿入したディスクの搬送開始直後に、ディスクガイドとの接触によりディスクに擦り傷が生じることを防止する。 - 特許庁 - To prevent the generation of scratches of a fixing belt, while securing the separability of a sheet, in a fixing device adopting a contact type separation member.
接触タイプの分離部材が採用された定着装置において、シートの分離性を担保しつつ、定着ベルトのキズ発生を防止する。 - 特許庁 - By applying stable heat to the surface of the decorative surface layer 32 of the moving handrail 3 made of thermoplastic elastomer, the scratches on the decorative surface layer 32 are repaired.
また、熱可塑性エラストマー移動手摺の化粧層表面に安定した熱を与えることによって、化粧層表面の傷を修復する。 - 特許庁 - To provide a polishing pad for chemomechanical polishing having recesses of a prescribed form on the polishing surface side to be capable of restricting generation of scratches in a subject surface.
研磨面側に所定形状の凹部を有し、被研磨面におけるスクラッチの発生が抑えられる化学機械研磨用の研磨パッドを提供する。 - 特許庁 - To provide a polishing pad capable of heightening the polishing efficiency through movement of abrasive particles, performing a uniform polishing, and suppressing generation of scratches on the surface polished.
研磨剤粒子の移動により研磨効率を高め，研磨を均一に行い，研磨した面におけるスクラッチの発生を抑える研磨パッドを提供する。 - 特許庁 - Since the cushioning material is fitted for protecting the parts from scratches generated by vibration at the time of transporting, it is possible to eliminate the need of individual packaging.
また、上記クッション材を装着することにより、輸送時の振動による擦り傷から部品を守ることができ、個別包装の必要がなくなる。 - 特許庁 - To provide a disk reproducing device which can prevent scratches from being generated on the surface of a disk by unnecessary rotation of a roller with simple constitution.
簡易な構成により、ローラの不必要な回転によってディスク表面に傷が生じるのを防止することができるディスク再生装置を提供する。 - 特許庁 - To prevent scratches of a face polishing tool for a glass panel for a cathode-ray tube with a lot of columnar diamond grinding wheels spaced at some intervals in the support body.
多数の円柱状ダイヤモンド砥石を支持体に間隔を設けて配置したブラウン管用ガラスパネルのフェース面研磨具による引っかき傷を防止する。 - 特許庁 - To provide a conditioning method for preventing deterioration of a polishing rate in a CMP step, and reducing scratches on a wafer surface.
ＣＭＰ工程におけるウェハの研磨レートの低下を防止し、且つウェハの表面に発生するスクラッチを低減させるコンディショニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a fixing device capable of prolonging the durable life of an external heating belt and a fixing member by reducing image defects caused by rubbing scratches.
摺擦傷による画像不良を低減させて、外部加熱ベルト及び定着部材の耐久寿命を延ばすことができる定着装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an abrasive composition powder and an abrasive composition slurry that hardly generate scratches even when containing a clay mineral powder.
粘土鉱物粉末を含有していても研摩傷の発生が少ない研摩材組成物粉末、及び、研摩材組成物スラリーの提供を目的とする。 - 特許庁 - To obtain a film having high transparency and blocking-resistance by suppressing the generation of fine scratches in a film deposition process and optimum as a base film for a lens sheet.
製膜工程で発生する微小キズを抑制し、透明性が高く、耐ブロッキング性を有し、レンズシート用ベースフィルムとして最適なフィルムを得る。 - 特許庁 - To provide a polishing liquid composition for an aluminum alloy substrate plated by Ni-P for reducing scratches and nano projection defect on the surface of the substrate after being polished.
研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減を実現できるＮｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物の提供。 - 特許庁 - To suppress scratches caused by a mask on a barrier plate when applying mask deposition, and to prevent the mask itself from being damaged.
本発明は、マスク蒸着する際にマスクによって隔壁でのスクラッチの発生を抑制すること、ならびにマスク自体の損傷を防止すること目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for packing tapes which packs tapes without damages/scratches, and by which the tapes is smoothly takes out without tangle with a simple structure.
テープ類の損傷のない梱包ができるとともに、テープ類のもつれのない円滑な引き出しが簡単な構成でできるテープ類の梱包方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an electropolishing pad, which is excellent in flattening characteristics, can suppress the occurrence of scratches, and is high in a polishing rate.
平坦化特性に優れ、スクラッチの発生を抑制でき、研磨速度が大きい電解研磨パッドの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To prevent a cellular phone from being scratched by using a bag-like carry strap for the purpose of protecting a newly bought cellular phone against scratches.
本発明は新しく買った携帯電話が傷がつかないように袋状の携帯ストラップを使用することにより携帯電話の傷を防ぐことを提供する。 - 特許庁 - To solve the problem that the electrode of electronic parts cannot be connected to a metallized wiring layer appropriately due to occurrence of scratches and adhesion of foreign objects in the metallized wiring layer.
メタライズ配線層に傷や異物の付着が発生して、電子部品の電極とメタライズ配線層とを良好に接続することができない。 - 特許庁 - Also, by adopting the intermediate value of the results of multiple amplitude measurement, the influence of prepits and the influence of dust and scratches on the optical disk are eliminated.
また、複数回の振幅測定結果の中間値を採用することにより、プリピットの影響や、光ディスクのごみや傷の影響を排除することができる。 - 特許庁 - This arrangement prevents the occurrence of dust from the peripheral chamfer portion 3 or peripheral side face 4, making it possible to mirror wafers without producing scratches.
これにより、プレート周縁面取り部３または周側面４からの発塵を防止し、スクラッチを発生させずにウェーハを鏡面研磨することができる。 - 特許庁 - To provide a polishing apparatus capable of reducing scratches on the surface of an object to be polished by preventing dropping-off of abrasive grain from a dressing member.
ドレッシング部材からの砥粒の脱落を防止して研磨対象物の表面のスクラッチを低減することができるポリッシング装置を提供する。 - 特許庁 - To reduce dust deposited on a surface of an object to be polished and scratches thereon and achieve a planarization characteristic at the same time.
被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させることをその課題とする。 - 特許庁 - To provide a steel strip coil annealing method capable of preventing occurrence of scratches caused by horizontal deviation of a steel strip coil, and an annealing spacer.
鋼帯コイルの横ズレによるスクラッチ疵の発生を防止することが可能な鋼帯コイルの焼鈍方法及び焼鈍用のスペーサーを提供する。 - 特許庁 - To provide a polishing method which effectively lessens defects (scratches) on a polishing surface for various works, thereby realizing high- quality polishing.
種々の研磨対象に対して、研磨面に発生する欠陥（スクラッチ）を有効に低減し、高品位の研磨を行なうことができる研磨方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a tin composition for manufacturing a polishing pad (polishing layer) which is excellent in planarization characteristics, is capable of suppressing the generation of scratches and has a high polishing speed.
平坦化特性に優れ、スクラッチの発生を抑制でき、研磨速度が大きい研磨パッド（研磨層）を製造するための錫組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a mirror finishing method of a chamfered part of a semiconductor crystal wafer capable of batch processing without causing scratches nor chipping, and to provide the wafer obtained by the method.
キズ、カケを発生させず、バッチ処理が可能な半導体結晶ウェハの面取部の鏡面加工方法およびその方法で得られるウェハを提供する。 - 特許庁 - To produce a CMP slurry having the satisfactorily small number of coarse particles with which a semiconductor wafer can be polished without generating scratches from a CMP slurry waste liquid.
粗大粒子数が十分に少なく半導体ウェハをスクラッチの発生無く研磨できるＣＭＰスラリーを、ＣＭＰスラリーの廃液から製造する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of manufacturing an aluminum tube which is free from surface defects like white scratches and is superior in surface quality, with high production efficiency.
白ムシレ等の表面欠陥を生じることがなくて、表面品質に優れたアルミニウム管を生産効率良く製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁 - On the other hand, when recording on the defective area where there is dirt such as fingerprints or scratches, the lower part of the laser beam pulse does not drop as much as on the normal area.
一方指紋などの汚れ、或いは傷のある欠陥領域ではレーザ光のパワーが低い部分が通常領域のそれに比べ、下がりきらない。 - 特許庁 - To provide a socket for a semiconductor device capable of retaining the semiconductor device without giving scratches on an outer peripheral surface of an IC package of the semiconductor device when holding the semiconductor device.
半導体装置を保持する場合、半導体装置のＩＣパッケージの外周面に擦り傷を与えることなく半導体装置を保持できること。 - 特許庁 - To provide a cellulose acylate-based optical film produced without using a halogen-based solvent having a high environmental load, and forming the less scratches and wrinkles.
環境負荷の高いハロゲン系溶剤を用いずに製膜することができて、擦り傷、皺の発生量が少ないセルロースアシレート系光学フィルムを提供する。 - 特許庁 - To prevent waste toner from dropping by preventing a contact member, which scratches toner off a magnetic body roll, from being turned over by the pressure of toner.
磁性体ローラからトナーを掻き落とす当接部材のトナーの圧力によるめくれを防止することによって、廃トナーがこぼれることを防止する。 - 特許庁 - To provide a developing roller that will not causes scratches on the surface of a roller, such as a developing roller with a resin layer directly formed on a shaft, even if it is subjected to stress.
シャフト上に樹脂層を直接配置する現像ローラ等で、応力を受けた時にローラ表面にキズを発生させない現像ローラを提供する。 - 特許庁 - To provide a shaft manufacturing method and a form rolling device that can prevent or reduce generation of scratches on the outer circumference of a workpiece (shaft) and that also facilitate setting of the workpiece (shaft).
ワーク（シャフト）の外周部での傷の発生を防止又は軽減でき、しかも、ワーク（シャフト）のセットが容易なシャフト製造方法及び転造加工装置を得る。 - 特許庁 - To provide an ornament having high hardness, high resistance to scratches, and high corrosion resistance, prevented from being scratched and corroded when it is used, and having a gold color tone.
使用中に傷が発生しない高硬度、高耐傷性で腐蝕が発生しない高耐蝕性の金色色調の装飾部品を提供すること。 - 特許庁 - To provide a new image forming method which diminishes dust and scratches by adjusting the lighting system of a light source and to provide an image forming apparatus used in the method.
光源の照明方式を調整することにより、ゴミ、傷を低減させる新規な画像形成方法及びこれに用いる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive material processing device which does not cause flaws, such as scratches and pushing flaws, on photosensitive materials when transporting the photosensitive materials.
感光材料を搬送する際に感光材料にスリキズや押しキズ等のキズが付かない感光材料処理装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a double-sided optical inspecting system for detecting and classifying particles, pits, or scratches on a thin-film disk or on a wafer, with a single scan on the surface.
表面の単一走査で薄膜ディスクまたはウェハー上の粒子、ピットまたはスクラッチを検出・分類する両面光学検査システムを提示する。 - 特許庁 - To provide a polishing liquid for metal which has high polishing speed in an interlayer insulation film, prevents polishing scratches from occurring on the surface to be polished, and has the surface to be polished having high flatness.
層間絶縁膜の研磨速度が大きく、被研磨面に研磨傷を発生させず、被研磨面の平坦性が高い金属用研磨液を提供する。 - 特許庁 - To provide a wafer evaluation method capable of evaluating scratches, crystal defects or particles and the like on a wafer surface in a simple, accurate and short-term manner.
ウェーハ表面のキズ、結晶欠陥またはパーティクル等を簡便かつ正確に短時間で評価できる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a stringed instrument protective cover for protecting prescribed parts of a stringed instrument such as a violin, where particularly fingers, arms, or the like touch, from scratches, sweat, or the like.
バイオリン等の弦楽器の特に手指及び腕などが当たる特定の個所等を、傷、汗等から保護するための弦楽器保護カバーを提供する。 - 特許庁 - To realize a production method of a display panel by which production of scratches on the back face of a substrate which damage the display performance can be prevented as much as possible.
表示性能を損なう基板裏面の傷の発生を極力防止することのできる表示用パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁
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