「SCRATCHES」を含む例文一覧(916)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 18 19 次へ＞- Since an image is formed by the photoreceptor 1 having the always clean surface, stable image formation can be obtained for a long period without generating scratches and image quality deterioration.
常に清浄な表面を有する感光体１によって画像形成されるので、長期間安定して傷および画質低下を生じることがない。 - 特許庁 - To provide a CMP method and apparatus which can suppress a decline in yield of a product by reducing scratches on a polished surface of a semiconductor substrate.
半導体基板被研磨面のスクラッチを低減し、製品歩留の低下を抑制することの可能なＣＭＰ法及びＣＭＰ装置を提供すること。 - 特許庁 - To upgrade the durability of a protecting layer formed on the surface of a laminated card used for an IC card and the like and make scratches inconspicuous as the structural advantages of the laminated card.
ＩＣカードなどに用いられるラミネートカード表面の保護層の耐久性を向上し、傷がついた場合でも目立たない構造を提供すること。 - 特許庁 - To develop a glass container which can be easily manufactured at a low cost and is excellent in resistance to scratches, cushioning ability and performance to prevent glass pieces from scattering, and a method of manufacturing it.
低コストで容易に製造でき、耐擦り傷性、クッション性、ガラス片飛散防止性能に優れたガラス容器及びその製造方法を開発する。 - 特許庁 - To safely, accurately, and efficiently perform alignment of a substrate, without causing flaws or scratches or generating particles on the substrate to be processed.
被処理基板に傷や擦り跡をつけることなく、またパーティクルを生じることなく基板の位置合わせを安全かつ正確に、さらには効率よく行うこと。 - 特許庁 - To prevent scratches from remaining on the surface of a coil material even if the coil material is a conductor, a non-conductive material, or light weight during loop-detecting the coil material.
コイル材のループ検知時に、コイル材が導体、不導体材質或いは軽量であってもコイル材表面に擦り傷などを残さないようにする。 - 特許庁 - To provide a method for polishing an organic insulating film on a semiconductor substrate at a high polishing speed while suppressing the generation of cracks, scratches, peelings, etc., of the film.
半導体基板上の有機絶縁膜をクラック、スクラッチ、膜剥がれなどの発生を抑制し、大きい研磨速度にて研磨する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a chemical-mechanical polishing pad that sufficiently suppresses the generation of scratches on the polished surface of a polished object and is excellent in polishing speed.
被研磨物も被研磨面におけるスクラッチの発生が十分に抑制され、かつ研磨速度に優れる化学機械研磨パッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent occurrence of scratches due to foreign matters stuck to a polishing pad without altering a conventional method and apparatus for polishing.
従来行われている研磨方法や研磨装置を変更することなく研磨パッドに付着した異物に起因するスクラッチの発生を防止すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a high capacity magnetic recording medium which does not generate scratches and wrinkles on the medium, has high performance and high reliability and moreover, is low in cost.
媒体にキズやシワが発生せず、高性能で高信頼性を有し、且つ、安価な高容量磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To read an excellent image by detecting dust and scratches existing on a transmission original and performing necessary corrector in an image reader for reading the transmission original.
透過原稿を読み取る画像読取装置において透過原稿上に存在するゴミやキズを検知して補正を行うことによって良好な画像を読み取る。 - 特許庁 - To provide a coating material composition that forms a coating film excellent in resistance to scratches or mars as occur during a car wash, acid resistance and weatherability, to provide a method of finish coating and to provide a coated article.
耐洗車傷性、耐酸性、耐候性に優れた塗膜を形成する塗料組成物、塗装仕上げ方法及び塗装物品を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of automatically examining scratches, etc., of transparent or translucent film having protection films formed on both the surfaces thereof, for example, a polarization film used for liquid crystal.
両面に保護膜を貼付した透明若しくは半透明膜、例えば液晶用に用いられる偏光膜の傷などの自動検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a holder mechanism capable of preventing scratches, cracks, and the like, on the back side (lower side) of a processing object, when the processing object, such as, a semiconductor wafer is supported.
半導体ウエハ等の被処理体を支持する際に、この裏面（下面）にスクラッチや傷等が付くことを防止することが可能な保持体機構を提供する。 - 特許庁 - To prevent the generation of bruises and scratches or the like when a wire rod in coil is transferred between processing units as well as to encourage labor-saving and improve the efficiency.
各処理設備間で線材コイルを運搬する際に打ち疵や摺り疵等が発生するのを防止し得ると共に、省力化と高能率化を図る。 - 特許庁 - To provide an abrasive cloth superior in smoothness which suppresses agglomeration of abrasive grains and grinding waste thereby performing grinding nearly free from a defect such as scratches.
砥粒や研磨屑の凝集を抑制し、スクラッチなどの欠点の非常に少ない研磨を行うことができる、平滑性に優れた研磨布を提供する。 - 特許庁 - To provide a light diffuser with a linear polarization splitting layer, which sufficiently prevents scratches and sufficiently secures luminance in the direction of the front.
傷付きを十分に防止できると共に正面方向の輝度を十分に確保できる直線偏光分離層付き光拡散板を提供する。 - 特許庁 - To provide an ornament having high hardness, high resistance to scratches, and high corrosion resistance, prevented from being scratched and corroded by impact, and having a gold color tone.
衝撃による傷が発生しない高硬度、高耐傷性でかつ腐蝕が発生しない高耐蝕性の金色色調の装飾部品を提供すること。 - 特許庁 - To obtain an optical apparatus that effectively reduces damage to or scratches on a cam when the optical apparatus receives an impact due to falling or the like.
光学機器が落下などで衝撃を受けるときに、カムが破損したり、傷がついたりすることを効果的に低減することができる光学機器を得ること。 - 特許庁 - To provide a double-side grinding device and a method which can suppress the generation of scratches at both sides of an wafer caused by a contact-type thickness sensor.
ウェーハの両面に接触式の厚みセンサに起因するキズが付くことを抑制できる半導体ウェーハの両面研削装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which scratches on a substrate reverse surface are reduced by eliminating production of particles at contact portions of a port column and the substrate.
ボート柱部と基板の接触部のパーティクルの発生をなくし、基板裏面の傷を低減できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a LSI testing probe and an IO pad that can implement a LSI probe test without making scratches that can be a cause of wire bonding failures.
ワイヤボンディング不良の原因となる傷を生じることなくＬＳＩをプローブ検査できるＬＳＩ検査用プローブおよびＩＯパッドを提供する。 - 特許庁 - When the first bearing member 231 is assembled on the second bearing member, there is no case that the end face of the hinge supporting shaft 241 scratches the second bearing member.
第一軸受部材２３１が第二軸受部材に組み付けられるときに、ヒンジ支持軸２４１の端面が第二軸受部材を擦過することもない。 - 特許庁 - To provide a winding method whereby wrinkles, distortion or scratches are prevented when a continuous band-shaped film is wound up in a shape of a roll to be kept for a long time.
連続した帯状のフイルムをロール状に巻いて長期保存する場合、フイルムにしわや歪み、傷が発生しない巻き取り方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a mold in which projecting defects existing on the surface of a protective film can be removed and scratches will not be produced on the surface of the protective film.
保護膜の表面に存在する凸欠陥を除去することができ、保護膜の表面にスクラッチを生じることのない成形用金型を提供すること。 - 特許庁 - To provide a polishing agent for a semiconductor device and a manufacturing method thereof using the same that reduces a scratches and also suppress the deterioration of a polishing rate.
スクラッチの発生を低減でき、さらに研磨レートの低下を抑制できる半導体装置の研磨剤及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To reover the motor from tripping, without generating scratches on the surface of a plate or fracture therein by restraining excessive tension changers at the time of recovering the motor from tripping.
電動機トリップからの復帰時の過大な張力変動を抑制して、板面の擦傷や板破断を発生させることなく、電動機トリップを復帰させる。 - 特許庁 - To suppress scratches at the time of peeling and to uniformize the surface roughness of a layer in a method of cleaving the layer of a wafer material such as SOI.
ＳＯＩなどのウェハ材料の層を劈開する方法において、剥離の際のすり傷を抑制するとともに、その層の表面粗さを均質にする。 - 特許庁 - To provide a vacuum tweezer with which stable absorption and maintenance are realized without the occurrence of cracks and scratches in a wafer, especially in a thin wafer with low mechanical strength.
ウェーハ、特に機械的強度の低い薄ウェーハに割れや傷を発生させることなく、安定して吸着保持することができる真空ピンセットを提供する。 - 特許庁 - To provide an optical sheet that prevents scratches on the surface of another optical sheet or the like piled up on the rear-surface side while preventing sticking with the another optical sheet or the like, and a high-quality backlight unit that prevents the occurrence or the like of luminance unevenness and interference fringes due to scratches by using the optical sheet.
裏面側に積層される他の光学シート等とのスティッキングを防止しつつ、この他の光学シート等表面への傷付きを防止できる光学シート、及びこの光学シートを用いて傷付きによる輝度ムラ、干渉縞の発生等を防止し、高品質なバックライトユニットを提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a production method for a cold rolled steel sheet which suppresses surface defects such as pressed dents, rolling scratches, scratches or the like by removing minute foreign matters or making impressions caused with minute foreign matters harmless through cold rolling even when the minute foreign are stuck on a surface of a steel sheet on the inlet side of a cold rolling mill.
冷間圧延機入側の鋼板表面に微小な異物付着があっても、冷間圧延においてその微小な異物を除去し、あるいは微小な異物による圧痕を無害化して、押疵、圧延疵、スリ疵等の表面欠陥を抑制することができる冷延鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a metallic carrier used chiefly in a catalytic converter for cleaning automobile exhaust gas and obtained by diffusion bonding using foil with scratches of conventional level on the surface thereof without reducing such scratches on the surface of the foil and to provide a method for producing the carrier and metallic foil supplied to the production.
主に自動車排気ガス浄化用触媒コンバータに用いられるメタル担体において、箔表面のスクラッチ疵を低減することなく、現行レベルのスクラッチ疵を有する箔を用いて拡散接合によって構成するメタル担体及びその製造方法並びに該製造に供する金属箔を提供する。 - 特許庁 - To provide a floor polishing machine capable of uniformly polishing a floor and coping with big and small recesses and projections and a floor polishing method capable of completely removing even the deep scratches and stains of the floor.
床を均一に研磨して大小の凹凸に対応できる床磨き機と、床の深い傷や汚れも完全に取り除くことができる床磨き方法を提案する。 - 特許庁 - Moreover, since the gaps are hermetically sealed, scratches and foreign matters are surely prevented from sticking on the outer surface of the liquid crystal panel 30 and the radiation of heat is satisfactorily performed with the gaps.
また、空隙が密閉されているため、液晶パネル３０の外面に傷や異物が付くのを確実に防止でき、かつ放熱をその空隙を介して良好に行える。 - 特許庁 - Furthermore, since the glass substrate 20, 21 are depressed by providing roundness at the contact part 1b of the spring clamper 1, scratches are avoided to be brought about on the surface of the glass substrate 20, 21.
また、ばねクランパ１の当接部１ｂに丸みをもたせてガラス基板２０，２１を押さえるので、ガラス基板２０，２１の表面にキズを付けることが避けられる。 - 特許庁 - To increase capacity, enhance productivity of a negative electrode, reduce cost, and prevent the generation of scratches on the inner wall of a battery can.
巻回構造の電極体を有する電池において、容量増加、負極の生産性の向上、コストの低減をはかり、かつ電池缶の内壁の傷付きを防止する。 - 特許庁 - To provide an annealing apparatus and an annealing method for a glass substrate which can suppress the occurrence of scratches, cracks, internal stresses or the like at an end portion of the substrate.
基板端部での疵、クラック、内部応力等の発生を抑制することが可能なガラス基板のアニール装置、及びアニール方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To prevent the occurrence of scratches on a photoreceptor and an electrifying roller, regarding an image forming apparatus wherein the photoreceptor that is rotated at high speed is electrified by the electrifying roller.
高速で回転する感光体を帯電ローラにより帯電させる画像形成装置において、感光体および帯電ローラに傷が発生することを防止する。 - 特許庁 - Thereby, determination of the body division grain can be accurately performed without receiving an adverse influence by the embryonic portion and the surface scratches and a yield of a product is enhanced.
よって、胚芽部分及び肌ずれ部分による悪影響を受けることなく胴割粒の判別が正確に行えるようになり、かつ、製品歩留まりが向上する。 - 特許庁 - To provide a polishing pad and a polishing apparatus, capable of less providing scratches to the surface of a substrate which is a member to be polished, and the polishing state during polishing can be measured optically and measured.
被研磨材の基板表面にスクラッチが少なく、研磨中に研磨状態を光学的に良好に測定できる研磨パッド及び研磨装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device and a video camera in which deterioration in picture quality is suppressed by reducing dust attached to an EVF panel surface and scratches on the EVF panel surface,.
ＥＶＦパネル表面に付着するダストやＥＶＦパネル表面のキズを低減し、画質の劣化を抑制することができる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - When scratches are detected, an alarm is outputted and is outputted to a recording paper, flaw detection is made again, circumferential marking striding over the welded section is executed, and X-ray photographing is executed.
きずを検出すると、警報を出力し、記録紙に出力し、再探傷を実施し、溶接部を跨ぐ周方向マーキングを施し、Ｘ線撮影を実施する。 - 特許庁 - To provide a method for correcting a curl generated in composite foil without rendering damage such as contamination with oil and scratches, and the composite foil the curl of which is corrected.
複合箔に発生したカールを油分の付着や擦り傷等のダメージを与えずに矯正する方法とカールが矯正された複合箔を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a touch panel which prevents scratches on a surface thereof, ensures strength, and allows soft touch, and to provide a display device with a touch detection function, an adapter for touch panels and electronic equipment.
表面の傷の防止や強度の確保ができ、かつ、軽いタッチを実現可能なタッチパネル、タッチ検出機能付き表示装置、タッチパネル用アダプタおよび電子機器を得る。 - 特許庁 - Emitted light 72a, 72b of the light sources 70a, 70b can reduce the luminance distribution unevenness caused by scratches of the light guide plates 71a, 71b since they include green light.
光源７０ａ，７０ｂの出射光７２ａ，７２ｂは、緑色の光を含むことで導光板７１ａ，７１ｂの傷などによる輝度分布むらを低減する。 - 特許庁 - At this time, the upper layer polycrystalline silicon film 5b can be utilized as the stopper film capable of suppressing the generation of scratches to form a structure requiring no silicon nitride film or the like.
この時、上層多結晶シリコン膜５ｂがスクラッチの発生を抑制できるストッパ膜として利用でき、シリコン窒化膜などを不要とした構成とすることができる。 - 特許庁 - To provide a rolling roll scratch inspection apparatus for accurately detecting roll scratches in a rolling process of a steel sheet from a light degree to a heavy degree.
鋼板の圧延プロセスにおけるロール疵を軽度なものから重度のものまで精度よく検出する圧延性ロール疵検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an inexpensive thermal transfer receiving sheet having high printing density and excellent image uniformity and hard to generate scratches and recession thereon even if it receives pressure and heat from outside.
高い印画濃度と良好な画像均一性を有し、外部からの圧力や熱を受けても傷や凹みが付きにくい、低コストの熱転写受容シートを提供する。 - 特許庁 - To provide a polishing pad for chemicomechanical polishing of a semiconductor wafer that does not cause scratches due to separating of an abrasive particle from a polishing pad during polishing.
研磨中に研磨パッドからの研磨粒子の離脱に起因するスクラッチの発生がない半導体ウエハの化学的−機械的研磨用研磨パッドを提供する。 - 特許庁 - To provide a cleaning unit capable of suppressing deterioration in cleaning performance, damage and scratches on the circumferential surface of an electrostatic latent image carrier even when a reversal phenomenon of a cleaning blade occurs.
クリーニングブレードが反転現象を起こした場合でも、クリーニング性能の低下及び静電潜像担持体の周面の損傷を抑制できるクリーニングユニットを提供する。 - 特許庁
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