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＜前へ 1 2 .... 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 次へ＞- The piezoelectric actuator is provided with base layers (31, 20) of SiO_2 or Si ((100) orientation or (110) orientation), a buffer layer (41) constituted of strontium ruthenate (SRO), and the piezoelectric layer (44) constituted of a relaxation dielectric (PMN-PT) of (001) orientation, which belongs to the rhombohedral system or pseudo-isometric system at room temperature.
本圧電アクチュエータは、ＳｉＯ_２またはＳｉ（（１００）配向または（１１０）配向）の基層（３１、２０）、ルテニウム酸ストロンチウム（ＳＲＯ）で構成されるバッファ層（４１）、リラクサ系誘電体（ＰＭＮ−ＰＴ）で構成された（００１）配向で室温で菱面体晶系または疑似立方晶系の圧電体層（４４）を備えている。 - 特許庁 - To compensate an oxygen defect in a Ta2O5 film and to minimize the formation of an oxide film at the interface between the Ta2O5 film and an Si substrate during a heat treatment process for crystallizing the Ta2O5 film, and to minimize the diffusion of impurity elements in a channel doped region in a semiconductor device having the Ta2O5 film as a gate insulating film.
Ｔａ_2 Ｏ_5 膜をゲート絶縁膜として有する半導体装置において、前記Ｔａ_2 Ｏ_5 膜中の酸素欠損を補償し、またこれを結晶化させる熱処理工程の際に前記Ｔａ_2 Ｏ_5 膜とＳｉ基板との界面において生じる酸化膜の形成を最小化し、またチャネルドープ領域中の不純物元素の拡散を最小化する。 - 特許庁 - A non-humidified high-speed proton conductor contains a reaction product (a hybrid compound) of (A): a heteropolyacid which is a solid acid (H_mXM_12O_40)*nH_2O (X is a hetero element of P or Si; M is a poly-element of W or Mo; m is the number of H), and B: an ionic liquid.
（Ａ）固体酸であるヘテロポリ酸（Ｈ_ｍＸＭ_１２Ｏ_４０）・ｎＨ_２Ｏ（ここで ＸはＰ又はＳｉのヘテロ元素、ＭはＷ又はＭｏのポリ元素、ｍはＨの数である）と、（Ｂ）イオン性液体と、との反応物（ハイブリッド化合物）を含んでなる無加湿高速プロトン伝導体で、これは次の三つの工程を経て製造できる。 - 特許庁 - That is, a structure where the Ni layer 14 is interposed between the base material 12 and the Al layer 16 as a barrier layer is attained, and at heat treatment for forming an Si thin film for a solar battery, for instance, mutual diffusion occurring between the Al layer 16 and the substrate 12 is prevented, and generation of a weak intermetallic compound, based on the mutual diffusion, is suppressed.
即ち、基材１２とＡｌ層１６との間にＮｉ層１４がバリア層として介在している構造となり、例えば太陽電池用のＳｉ薄膜を形成する熱処理の際に、Ａｌ層１６と基材１２との間で生起する相互拡散を防止し、その相互拡散に基づく脆弱な金属間化合物の生成を抑制している。 - 特許庁 - A method of manufacturing a self-supported group GaN semiconductor substrate is provided including a step of forming a thick GaN film composed of an Si-doped GaN layer 714 and undoped GaN layer 715 on a sapphire substrate 711, and a step of separating and removing the sapphire substrate 711 without applying any external force by generating cracks in the thick GaN film by cooling the substrate 711 and thick GaN film.
サファイア基板７１１の上部に、ＳｉドーピングＧａＮ層７１４と、アンドープＧａＮ層７１５と、からなるＧａＮ厚膜を形成する工程と、サファイア基板７１１およびＧａＮ厚膜を冷却することにより、ＧａＮ厚膜中にクラックを発生させ、外力を加えることなしにサファイア基板７１１を分離除去する工程と、を含む、自立ＧａＮ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - This integrated SI contract document managing system is provided with a contract information storage part 1a for unitarily storing the information of a support contract documents related to the plurality of components of an enterprise information system and a contract managing processing part 1d for providing a view for unitarily retrieving the information on the support contract documents stored in the contract information storage part 1a to a manager terminal.
統合ＳＩ契約書管理システムに、企業情報システムの複数の構成要素に関するサポート契約書の情報を一元的に蓄積する契約情報蓄積部１ａと、契約情報蓄積部１ａに蓄積されるサポート契約書の情報を一元的に検索するビューを管理者端末に提供する契約管理処理１ｄを備えた構成とする。 - 特許庁 - The austenitic high-Mn stainless steel has a composition consisting of, by mass, 0.01 to 0.10% C, 0.01 to 0.40% N, 0.1 to 1% Si, 10 to 20% Cr, 6 to 20% Mn, 2 to 5% Cu, 1 to 6% Ni and the balance Fe with inevitable impurities.
質量％で、Ｃ：０．０１〜０．１０％，Ｎ：０．０１〜０．４０％，Ｓｉ：０．１〜１, Ｃｒ：１０〜２０％，Ｍｎ：６〜２０％，Ｃｕ：２〜５％，Ｎｉ：１〜６％，残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなり、オ−ステナイト安定度の指標Ｍｄ３０値が−１２０＜Ｍｄ３０＜２０を満足するように成分設計されている。 - 特許庁 - By performing anisotropic etching from one substrate surface 3 to the other substrate surface 5 facing one substrate surface 5 of the semiconductor substrate 1, particularly an Si semiconductor substrate 1, an annular recess 15 is formed on the one substrate surface side 5, and the diaphragm 18 is formed at the bottom 17 of the recess 15.
半導体基板１または特にＳｉ半導体基板の一方の基板面３から該一方の基板面５と対向する他方の基板面５に向かって異方性エッチングを施すことにより、一方の基板面側５に開口する環状の凹部１５を形成して凹部１５の底部１７にダイアフラム１８を形成する。 - 特許庁 - This curable composition comprising (A) a room temperature curable resin curing at room temperature and (B) a silicate oligomer is characterized in that the silicate oligomer (B) is a condensation product of an alkyl silicate and at least a part of the alkoxy groups bonded with Si atoms is ≥3C and ≤18C silicate oligomers.
本発明の組成物は、室温で硬化する室温硬化性樹脂（Ａ）と、シリケートオリゴマー（Ｂ）と、を含み、前記シリケートオリゴマー（Ｂ）は、アルキルシリケートの縮合物であり、Ｓｉ原子に結合しているアルコキシ基の少なくとも一部が炭素数３以上１８以下のシリケートオリゴマーであることを特徴とする硬化性組成物である。 - 特許庁 - In the ceramics/metal composite material excellent in high temperature strength, ceramic powder or fiber is used as a reinforcement and aluminum or aluminum alloy is used as a matrix and the aluminum or aluminum alloy is composed of an aluminum alloy containing 5-10 wt.% Si and 0.5-4 wt.% Fe.
セラミックス粉末または繊維を強化材とし、アルミニウムまたはアルミニウム合金をマトリックスとする金属−セラミックス複合材料であって、該アルミニウムまたはアルミニウム合金が、Ｓｉを５〜１０重量％、Ｆｅを０．５〜４重量％含むアルミニウム合金であることとした高温強度に優れた金属−セラミックス複合材料。 - 特許庁 - Cr as a principal constituent of the arc resistant constituent comprises both of Cr grain containing Al and Cr grain containing no Al and both of Cr grain containing Si and Cr grain containing no Si.
例えばＡｌをほとんど含有していない（５ｐｐｍ以下の）Ｃｒ粉末とＡｌを１０００ｐｐｍ程度含んだＣｒ粉末を同量使用してＣｕ−５０ｗｔ％Ｃｒ接点を製造すると、接点中のＡｌ含有率は２５０ｐｐｍ程度、更に接点材料中の多数のＣｒ粒子はＡｌを含んでいないＣｒ粒子とＡｌを含んだＣｒ粒子が同重量ずつ存在し、表面が酸化し易いＡｌ粉末という形態で添加していないので接点中の酸素量が抑制でき、Ａｌを２５０ｐｐｍ含有していることで遮断特性は向上し、更に巨視的にはＡｌは均一に分布しているが、微視的にはＡｌは偏在しているので導電率の低下を抑制出来る。 - 特許庁 - The method for producing hexafluoropropylene oxide comprises reacting hexafluoropropylene with oxygen and purifying the resultant reaction product containing hexafluoropropylene oxide by bringing it into contact with at least one absorbent selected from among active carbon and metal oxides including oxides of group I metals, group II metals, Zr, and Si.
ヘキサフルオロプロピレンと酸素を反応させて得たヘキサフルオロプロピレンオキシドを含む反応生成物を、活性炭および下記金属酸化物から選ばれる少なくとも１種の吸着剤に接触させて精製する方法であって、上記金属酸化物が、周期表の１族、周期表の２族、ＺｒおよびＳｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物であることを特徴とするヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法。 - 特許庁 - The black composite magnetic particulate powder has 0.08-1.0 μm average particle diameter and contains one or more fine particulate powders selected from among fine particulate powders of oxides or hydrous oxides of Si, Zr, Ti, At and Ce between the particulate surface of magnetite particulate powder and methyl hydrogen polysiloxane coating the particulate surface.
マグネタイト粒子粉末の粒子表面と該粒子表面を被覆しているメチルハイドロジェンポリシロキサンとの間にＳｉ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ａｌ及びＣｅの各元素の酸化物微粒子粉末又は含水酸化物微粒子粉末から選ばれた１種又は２種以上の微粒子粉末が存在している平均粒子径０．０８〜１．０μｍの黒色複合磁性粒子粉末からなることを特徴とする黒色磁性トナー用黒色複合磁性粒子粉末。 - 特許庁 - The objective Si-containing glassy carbon material is produced by mixing an organic silane compound to a thermosetting resin to obtain a raw material resin liquid, forming and thermally curing the liquid and baking and carbonizing the cured product in a non-oxidizing atmosphere.
熱硬化性樹脂に有機シラン化合物を混合して調製した原料樹脂液を成形し、加熱硬化したのち、非酸化性雰囲気下で焼成炭化して得られたＳｉ含有ガラス状カーボン材であって、含有される原子レベルのＳｉがガラス状カーボンの組織中に０．５〜１５wt％の割合で均一に分布し、かつ存在する酸素原子の含有量（ｙ）wt％が、Ｓｉ原子の含有量（ｘ）wt％と下記 (1)式の関係にあることを特徴とするＳｉ含有ガラス状カーボン材。 - 特許庁 - The toner for electrostatic latent image development is used in an image forming apparatus including an electrophotographic photoreceptor and a developing sleeve disposed near the electrophotographic photoreceptor, and the toner is obtained by externally adding at least silica particles as inorganic fine particles and a titanium oxide to toner particles containing magnetic powder.
電子写真感光体と、当該電子写真感光体と近接して配置された現像スリーブと、を含む画像形成装置に用いられるとともに、磁性粉を含むトナー粒子に対して、少なくとも無機微粒子としてのシリカ粒子及び酸化チタンを外添処理したトナーであって、蛍光Ｘ線分析装置を用いて測定したときのトナーにおけるＳｉ強度をＩ_Siとし、Ｔｉ強度をＩ_Tiとし、Ｆｅ強度をＩ_Feとしたときに、下記関係式（１）〜（２）を満足することを特徴とする静電潜像現像用トナー。 - 特許庁 - The silicone resin composition is for adhering a minute electrical equipment system chip having a movable part to a substrate, and includes an one pack addition-type silicone resin that contains an organo polysiloxane having at least one vinyl group in the molecule, organo-hydrogenpolysiloxane having at least one H-Si bond in the molecule and platinum compound, and a porous filler.
本発明に係るシリコーン樹脂組成物は、可動部を有した微小電気機器システムチップを基板に接着させるためのシリコーン樹脂組成物であって、分子中に少なくとも１つのビニル基を有するオルガノポリシロキサンと、分子中に少なくとも１つのＨ−Ｓｉ結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンと、白金化合物とを含有する一液付加型シリコーン樹脂と、多孔質フィラーとを含有する。 - 特許庁 - The photoresists contain the adhesion promotion component including the Si containing group, exhibit good resolution and adhesion to underlying inorganic surfaces such as SiON, silicon oxide, silicon nitride and other inorganic surfaces, and particularly useful for the ion lithography applications and are useful for sub 300 nm, sub 200 nm, and a short wavelength image formation such as 248 nm, 193 nm, and EUV.
本発明のフォトレジストは、Ｓｉ含有基を含む接着促進成分を含有するフォトレジストであり、これを用いることでＳｉＯＮ、酸化ケイ素、窒化ケイ素および他の無機表面のような下地無機表面に対して良好な解像度、接着性を示し、イオン注入リソグラフィ用途に特に有用であり、サブ３００ｎｍ、および２００ｎｍ、例えば２４８ｎｍ、１９３ｎｍおよびＥＵＶをはじめとする短波長像形成に有用である。 - 特許庁 - The cold-rolled steel sheet has: a chemical composition containing, by mass, 0.01 to 0.15% C, 0.01 to 1.5% Si, 1.5 to 3.5% Mn, ≤0.1% P, ≤0.01%
質量％で、Ｃ：0.01〜0.15％、Ｓｉ：0.01〜1.5％、Ｍｎ：1.5〜3.5％、Ｐ：0.1％以下、Ｓ：0.01％以下、Ａｌ：0.005〜0.10％、およびＮ：0.010％以下を含有し、下記式(１)で規定されるα値が１.９以上である化学組成を有し、鋼板表面から板厚の１／４深さ位置におけるフェライトの体積率が40％以上かつマルテンサイトの体積率が３％以上である鋼組織を有し、降伏比ＹＲが70％以下であり、引張強度ＴＳ（MPa）と穴拡げ率ＨＥＲ（％）とが下記式(２)を満足する機械特性を有することを特徴とする冷延鋼板。 - 特許庁 - The etching method includes the steps of forming the antireflective film (Si-ARC film) on an etched layer, forming the resist film (ArF resist film) patterned on the antireflective film, and etching the antireflective film with an etching gas containing CF_4 gas, COS gas and O_2 gas using the resist film as the mask to form a desired pattern on the antireflective film.
被エッチング層上に反射防止膜（Ｓｉ−ＡＲＣ膜）を形成する工程と、前記反射防止膜上にパターン化されたレジスト膜（ＡｒＦレジスト膜）を形成する工程と、前記レジスト膜をマスクとして、ＣＦ_４ガスとＣＯＳガスとＯ_２ガスとを含むエッチングガスを用いて前記反射防止膜をエッチングすることにより、前記反射防止膜に所望のパターンを形成する工程と、を含むことを特徴とするエッチング方法が提供される。 - 特許庁 - The hot-dip zinc coated cold-rolled steel sheet has: a chemical composition containing, by mass, 0.01 to 0.15% C, 0.01 to 1.5% Si, 1.5 to 3.5% Mn, ≤0.1% P, ≤0.01%
質量％で、Ｃ：0.01〜0.15％、Ｓｉ：0.01〜1.5％、Ｍｎ：1.5〜3.5％、Ｐ：0.1％以下、Ｓ：0.01％以下、Ａｌ：0.005〜0.10％、およびＮ：0.010％以下を含有し、下記式(1)で規定されるα値が1.9以上である化学組成と、鋼板表面から板厚の1/4深さ位置におけるフェライトの体積率が40％以上かつマルテンサイトの体積率が3％以上である鋼組織と、降伏比ＹＲが70％以下であり、引張強度ＴＳ(MPa)と穴拡げ率ＨＥＲ(％)が下記式(2)を満たす機械特性を有する溶融めっき冷延鋼板。 - 特許庁 - The polyhedral structural polysiloxane-based modified body is a polyhedral structural polysiloxane-based compound having an alkenyl group, and is obtained by modifying a polysiloxane compound (A) having the alkenyl group directly or indirectly bonded to the Si atom forming the polyhedral structure, and a polysiloxane compound (B) containing alkenyl groups having at least two kinds or more of linear chain structures, with a compound (C) having a hydrosilyl group.
アルケニル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物であって、多面体骨格を形成するＳｉ原子上に直接、または間接的にアルケニル基が結合したポリシロキサン化合物（Ａ）、および、少なくとも２種以上の直鎖構造を有するアルケニル基含有ポリシロキサン化合物（Ｂ）に、ヒドロシリル基を有する化合物（Ｃ）を変性して得られることを特徴とする、多面体構造ポリシロキサン系変性体。 - 特許庁 - The steel has a composition containing, by mass, ≤0.06% C, 0.1 to 1.0% Si, >4.0 to 7.0% Mn, ≤0.05% P, ≤0.005% S, 20.0 to 23.0% Cr, 1.0 to 4.0% Ni, ≤1.0%
質量％で、Ｃ≦０．０６％、Ｓｉ：０．１〜１．０％、Ｍｎ：４．０％超〜７．０％、Ｐ≦０．０５％、Ｓ≦０．００５％、Ｃｒ：２０．０〜２３．０％、Ｎｉ：１．０〜４．０％、Ｍｏ≦１．０％、Ｃｕ：０．５〜３．０％、Ｖ：０．０５〜０．３５％、Ａｌ：０．００３〜０．０５０％、Ｏ≦０．００７％、Ｎ：０．１５〜０．３０％を含み、残部がＦｅからなり、γ相面積率が４０〜７０％、かつ（２）式、（３）式のＮpre，γpreが（１）式を満し、更にγpreが１３７０〜１４５０の鋼である。 - 特許庁 - The toner contains at least a binding resin, toner particles containing a coloring agent, and at least alumina, the alumina having 0.40-0.90 μm of volume-based median diameter (D50), 0.940-0.970 of average circularity measured by a flow type particle image analyzer and 100-500 ppm of Si content, the toner particles containing 30-1,000 ppm of Ti content.
少なくとも結着樹脂、着色剤を含むトナー粒子と、少なくともアルミナを含むトナーであって、前記アルミナは、体積基準のメジアン径（D５０）が０．４０μｍ以上０．９０μｍ以下であり、フロー式粒子像分析装置によって測定される平均円形度が０．９４０以上０．９７０以下であり、且つ含有量が１００ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下のＳｉ元素を含有しており、前記トナー粒子は、含有量が３０ｐｐｍ以上１，０００ｐｐｍ以下のＴｉ元素を含有していることを特徴とするトナー。 - 特許庁 - This method of manufacturing a semiconductor device includes processes of: supplying a hydrogen chloride gas into a reaction chamber simultaneously with supply at least a B source out of a material gas including the B source containing Cl and a Si source containing H when growing a polysilicon film doped with B on a semiconductor substrate by supplying the material gas into the reaction chamber; and supplying a purge gas into the reaction chamber to discharge the material gas and the hydrogen chloride gas.
Ｃｌを含むＢ源と、Ｈを含むＳｉ源を有する原料ガスを反応室内に供給して、半導体基板上にＢがドープされたポリシリコン膜を成長させる際に、前記原料ガスのうち、少なくともＢ源の供給と同時に塩化水素ガスを前記反応室内に供給する工程と、パージガスを前記反応室内に供給して、前記原料ガス及び前記塩化水素ガスを排出する工程と、を具備してなることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - The method for forming a stacked structure including the amorphous carbon film on the underlayer, includes steps of: supplying an organic silicon gas on the underlayer to form an initial layer including a Si-C bond on the underlayer (t4); and forming the amorphous carbon film on the underlayer with a heating film formation (t6) supplying a film forming gas containing hydrocarbon gas on the underlayer on the surface of which the initial layer is formed.
アモルファスカーボン膜を含む積層構造を下地層上に形成する方法は、前記下地層上に有機系シリコンガスを供給し、前記下地層の表面にＳｉ−Ｃ結合を含む初期層を形成する工程（ｔ４）と、前記初期層が表面に形成された前記下地層上に炭化水素化合物ガスを含む成膜ガスを供給し、前記下地層上に前記アモルファスカーボン膜を熱成膜で形成する工程（ｔ６）と、を具備する。 - 特許庁 - In the resist composition containing (A) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation, and (B) a resin increasing solubility to an alkali developer due to the action of the acid having a repeating unit having at least one alicyclic structure, the resin of (B) components is one having a perfuluoroalkyl group or an Si atom on the main chain terminal.
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）少なくとも１つの脂環構造を有する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、その主鎖末端にパーフルオロアルキル基又はＳｉ原子を有する基を有する樹脂であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - This polyorganosiloxane contains a group containing an oxetane ring bonded to silicon atom and an oxirane ring-containing group and has 2-5,000 number of silicon atoms, and the method for producing the organopolysiloxane is to react a polyorganosiloxane containing Si-H bond with an oxetane ring- containing compound having a carbon-carbon aliphatic unsaturated bond and an oxirane-ring containing compound having a similar bond in the presence of a hydrosilylation catalyst.
ケイ素原子に結合したオキセタン環含有基とオキシラン環含有基を有し、ケイ素原子数が２〜５，０００であるポリオルガノシロキサン；ならびにＳｉ−Ｈ結合含有ポリオルガノシロキサンに、炭素−炭素脂肪族不飽和結合を有するオキセタン環含有化合物と、同様の結合を有するオキシラン環含有化合物とを、ヒドロシリル化触媒の存在下に反応させることを含む、上記のポリオルガノシロキサンの製造方法。 - 特許庁 - The formed parts contains C, Si, Mn, Cr, V, S, Al and N, and the balance Fe with impurities, and contents of Ti, O and P in impurities are ≤0.003%,
Ｃ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｖ、Ｓ、Ａｌ、Ｎを含有し、残部はＦｅおよび不純物からなり、不純物中のＴｉが０．００３％以下、Ｏが０．００１５％以下、Ｐが０．０２０％以下である成形部品であって、表層領域における初析フェライトの平均短径が８μｍ以下で、下記の（１）式で表されるＡ値が０．８０以上であり、アスペクト比が３以下で、且つ短径が１０μｍ以上であるＭｎＳ以外の介在物の個数が２個／ｍｍ^２以下であることを特徴とする高周波焼入れ用成形部品。 - 特許庁 - In this sheet, the area occupancy of Al-Fe-Mn crystals and that of Mg-Si crystals at sheet surface are made to >1.0 to <3.0% and <0.2%, respectively, and also 45° earing ratio and 0 to 180° earing ratio at drawing are made to <4.0%, respectively.
Ｍｇ：２．０％を越え３．４％以下、Ｍｎ：０．２０〜０．５０％、Ｆｅ：０．２８％以上０．６０％未満、Ｓｉ：０．０４〜０．２０％を含有し、且つＦｅとＭｎの合計含有量が０．６〜１．０％であり、残部Ａｌおよび不純物からなるアルミニウム合金硬質板であって、板表面におけるＡｌ−Ｆｅ−Ｍｎ系晶出物の面積占有率が１．０％を越え３．０％未満、Ｍｇ−Ｓｉ系晶出物の面積占有率が０．２％未満であり、絞り成形時の４５°耳率が４．０％未満、０−１８０°耳率が４．０％未満であることを特徴とする。 - 特許庁 - The martensitic stainless steel having excellent corrosion resistance has a steel composition comprising, by mass, 0.03 to 0.25% C, 0.25 to 0.60% Si, ≤2.00% Mn, ≤0.035% P, ≤0.01%
質量％で、Ｃ：０．０３〜０．２５％、Ｓｉ：０．２５〜０．６０％、Ｍｎ:２．0０％以下、Ｐ：０．０３５％以下、Ｓ：０．０１%以下、Ｃｒ：１１．０〜１５．５％、Ｎｉ：０．６０％以下、Ｃｕ：０．８０％以下、Ｓｎ：０．０３〜０．１５％、Ｖ：０．０６０％以下、Ａｌ：０．０３％以下、Ｎ：０．０１〜０．０８％、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる鋼組成を有し、かつ、ＳｎとNの範囲が下記（Ａ）式を満たすと共に、焼入れ或いは焼入れ焼戻しにより硬度が３００〜６００HVであることを特徴とする耐食性に優れたマルテンサイト系ステンレス鋼。 - 特許庁 - The organic photoconductor for positive charging contains a conductive substrate component, a hydroxyl-containing binder component forming a layer having a thickness of about 1 μm or more on a substrate, a phthalocyanine pigment component uniformly distributed in the entire binder component and having formula (A), and a reactive stabilizer component selected from the group comprising polysiloxanes, organosilane compounds and Si-containing porous fillers and uniformly dispersed in the entire binder component.
導電性基材成分と、該基材上に約１μｍ以上の厚みの層を形成する水酸基含有結合剤成分と、該結合剤成分全体に均一に分布され、下記の一般式（Ａ）を有するフタロシアニン顔料成分と、ポリシロキサン、オルガノシラン化合物およびケイ素原子を有する多孔性充填剤よりなる群から選ばれ、上記結合剤成分全体に均一に分散される反応性安定剤成分とを含む。 - 特許庁 - The dispersion compensation device 40 is used for an optical transmission system having a single mode optical fiber to compensate a dispersion value and a dispersion slope of the single mode optical fiber at the same time and provided with a dispersion compensation optical fiber where two optical fiber components DCF or over whose dispersion value Di per unit length and whose dispersion slope Si per unit length differ from each other are connected in series.
シングルモード光ファイバを有する光伝送システムに用いられ、シングルモード光ファイバの分散値及び分散スロープを同時に補償する装置であって、単位長さ当たりの分散値Ｄｉ及び単位長さ当たりの分散スロープＳｉがそれぞれ異なる二つ以上の光ファイバコンポーネントＤＣＦを、直列に結合した分散補償光ファイバを備えることを特徴とする分散補償器４０。 - 特許庁 - In an insulator with forsterite and cordierite as the main crystalline phases, the surface and/or the inside of the insulator is provided with a metallized layer containing tungsten and/or molybdenum in 50-99.5vol.% and containing at least one sort of Al, Si and alkaline earth metal in 0.5-50vol.% by oxide conversion and particularly, it is preferable that the metallized layer contains alumina.
フォルステライト及びコーディエライトを主結晶相とする絶縁体に対し、前記絶縁体の表面及び／又は内部に、タングステン及び／又はモリブデンを５０〜９９．５体積％含有すると共に、Ａｌ、Ｓｉ、アルカリ土類金属のうち少なくとも１種を酸化物換算で０．５〜５０体積％の割合で含有してなるメタライズ層を具備することを特徴とするものであり、特に、前記メタライズ層に、アルミナを含有することが好ましい。 - 特許庁 - In this manufacturing method of a high silicon steel rapid cooled belt, a molten high silicon steel with Si content of 4.0 wt.% or more is jetted on the surface of a single cooling roll rotating at high speed via a nozzle having a slit-like opening, and is rapidly cooled/solidified into a target thickness.
Ｓｉ含有率が４．０ｗｔ％以上の高珪素溶鋼を、高速回転する単一の冷却ロールの表面に、スリット状開口を有するノズルを介して噴射し、目標とする板厚に急冷凝固させる高珪素鋼急冷薄帯の製造方法において、前記板厚ｔを８０μｍ≧ ｔ ＞３０μｍにすると共に、前記高珪素溶鋼を噴射する領域の雰囲気を、該雰囲気の酸素濃度Ｃ（ｖｏｌ％）と板厚ｔ（μｍ）との関係が下記式を満足するように、不活性ガスで調整するようにした。 - 特許庁 - The case hardening steel having excellent crystal grain coarsening resistance and exhibiting excellent cold workability even without being subjected to softening annealing is composed of a rolled steel in which the contents of C, Si, Mn or the like are specified, and further, the contents of Nb, Ti, N or the like are specified.
Ｃ，Ｓｉ，Ｍｎなどの含有率が特定される他、Ｎｂ，Ｔｉ，Ｎなどの含有率が特定された圧延鋼材からなり、横断面内に下記（１）式を満足する炭化物及び／又は炭窒化物が２．０×１０^7個／ｍｍ^2以上存在すると共に、横断面内のビッカース硬さの平均値が１８０以下で、同硬さの標準偏差の最大値が５以下である、耐結晶粒粗大化特性に優れ、且つ軟化焼鈍なしでも優れた冷間加工性を示す肌焼用鋼である。 - 特許庁 - The method of producing the galvannealed steel sheet excellent in appearance and processability, in which after pre-metal-plating containing at least one element among elements selected from Ni, Co, Cu, and In is applied to a steel sheet containing at least, by mass%, Si:0.01-2%,
質量％で少なくともＳｉ：０．０１〜２％、Ｍｎ：０．０１〜３％、Ｐ：０．０１〜０．２％を含有する、鋼板に、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｉｎの中から選ばれる元素の少なくとも１種の元素を含有するプレめっきを金属分換算値で下記式（１）に従う量付与した後、還元雰囲気中で焼鈍し、Ａｌを０．１０〜０．２０％含有したＺｎ浴を用いて合金化溶融亜鉛めっきをすることを特徴とする、外観、加工性の良好な合金化溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法。 - 特許庁 - [R^1SiO_3/2]_n is a polyorganosilsesquioxane having cage structures in the structural unit, and has m structures in which Si of a position where a part of the cage structure cleaves is bonded with R^2_2R^3Si through O.
［Ｒ^1ＳｉＯ_3/2］_n・ｍ［Ｒ^2_2Ｒ^3ＳｉＯ_1/2］ （１）（但し、Ｒ^1は炭素数１〜１２の炭化水素基であり、ｎは８、１０又は１２であり、Ｒ^2はメチル基又はフェニル基であり、Ｒ^3はビニル基又は（メタ）アクリロキシプロピル基を有する有機官能基であり、ｍは０〜４の整数である。［Ｒ^1ＳｉＯ_3/2］_nは構造単位中に篭型構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンであり、篭型構造が一部開裂した箇所のＳｉとＲ^2_2Ｒ^3ＳｉがＯを介して結合した構造をｍ個有する） - 特許庁 - A main metal element as a polycondensation catalyst is a binuclear oxide composed of zirconium and silicon and the molar ratio of Zr:Si of the composition is (90:10) to (10:90), in a method for producing a polyester by polycondensing a product obtained by esterification or transesterification of an aromatic dicarboxylic acid or its ester-forming derivative with a diol or its ester-forming derivative.
芳香族ジカルボン酸またはそのエステル形成性誘導体及びジオールまたはそのエステル形成性誘導体とのエステル化反応またはエステル交換反応により得られた生成物を重縮合せしめてポリエステルを製造する方法において、重縮合触媒として主たる金属元素がジルコニウムとケイ素からなる複核酸化物であり、かつその組成モル比がＺｒ：Ｓｉ＝９０：１０〜１０：９０であることを特徴とする、ポリエステル用重合触媒及びそれを用いたポリエステルの製造方法。 - 特許庁 - The steel has a composition which contains, by mass, 0.03 to 0.3% C, 0.01 to 3.0% Si, 3.0 to 10.0% Mn, ≤0.03% P, ≤0.01%
質量％でＣ：０．０３〜０．３ ％以下、Ｓｉ：０．０１ 〜３．０ ％、Ｍｎ：３．０ 〜１０．０％、Ｐ：０．０３％以下、Ｓ：０．０１％以下、Ｃｒ：４〜９％、Ａｌ：０．１ 〜５％、Ｎ：０．０２％を含有し、更に、選択的にＣｕ：０．０１ 〜９％、Ｎｉ：０．０１ 〜９％、Ｍｏ：０．０１ 〜０．５ ％、Ｖ：０．０１〜０．２ ％、Ｎｂ：０．００５〜０．０５０ ％、Ｔｉ：０．００４〜０．２ ％、Ｂ：０．０００５〜０．０１０ ％、Ｃａ：０．０００５ 〜０．０５％、Ｍｇ：０．０００５ 〜０．０５％、ＲＥＭ：０．００１ 〜０．１ ％の１種または２種を含有し、次式で示されるＴｐ値が１１５０以上１４００以下となる成分を有する。 - 特許庁 - The membrane electrode assembly for the fuel cell has the catalyst electrode layer including an electrolyte material for the catalyst electrode layer comprising an organic silicon polymer having proton conductivity and a conductive material carried with a catalyst, and the solid electrolyte membrane interposed between the catalyst electrode layers and including the electrolyte material for the solid electrolyte membrane, and the solid electrolyte membrane contains an Si-based compound.
上記目的を達成するために、本発明は、プロトン伝導性を有する有機ケイ素ポリマーから構成される触媒電極層用電解質材料および触媒を担持した導電性材料を含有する触媒電極層と、前記触媒電極層に挟持され、固体電解質膜用電解質材料を含有する固体電解質膜とを有する燃料電池用膜電極複合体であって、前記固体電解質膜が、Ｓｉ系化合物を含有することを特徴とする燃料電池用膜電極複合体を提供する。 - 特許庁 - The steel sheet for ultrahigh heat input welding has a composition comprising, by mass, 0.001 to 0.15% C, 0.05 to 0.8% Si, ≤0.01%
Ｃを０．００１ 〜０．１５質量％、Ｓｉを０．０５〜０．８ 質量％、Ａｌを０．０１質量％以下、Ｍｎを０．５ 〜２．０ 質量％、Ｏを０．０００５〜０．０１００質量％、Ｓを０．０００５〜０．０１００質量％、ＲＥＭ を０．００１０〜０．０１００質量％含有し、かつ、Ｏの含有量、Ｍｎの含有量およびＲＥＭ の含有量が（１）式を満足し、Ｓの含有量およびＭｎの含有量が（２）式を満足し、残部が鉄および不可避的不純物からなる組成を有することを特徴とする超大入熱溶接用鋼板。 - 特許庁 - The electrostatic charge image developing toner has toner particles manufactured through a step for fusing resin particles comprising a polymer having a polymerizable monomer A containing Si or F as a polymer component A and a polymerizable monomer B having an acidic polar group as a polymer component B on the surfaces of colored particles containing a bonding resin and a colorant by a salting out-fusion method and a step for adding metal oxide particles subjected to hydrophobic processing.
珪素原子またはフッ素原子を有する重合性単量体Ａの重合成分Ａと酸性極性基を有する重合性単量体Ｂの重合成分Ｂを有する重合体を有する樹脂粒子を、結着樹脂と着色剤を含む着色粒子の表面に、塩析・融着法によって融着させた後、疎水化処理した金属酸化物粒子を添加する工程を経てトナー粒子が作製されたことを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁 - The invention relates to the polyurethane/urea comprising (A) at least one alkoxysilane groups expressed by formula: -N-[-A-X-CO-NR^2-Y-Si-(Z)_3]_2 (I), and (B) a hydrophilic moiety.
Ａ）式：-Ｎ-[-Ａ-Ｘ-ＣＯ-ＮＲ^2-Ｙ-Ｓｉ-(Ｚ)_3]_2 （I）〔式中、ＡはＣ_1〜Ｃ_6直鎖、環式及び分枝アルキレン、置換Ｃ_1〜Ｃ_6直鎖、環式及び分枝アルキレン並びにアリーレンから選ばれる結合基であり、ＸはＯ、Ｓ及びＮＲ^2から選ばれ、各Ｒ^2は、独立にＨ、Ｃ_1〜Ｃ_6アルキル、置換Ｃ_1〜Ｃ_6アルキル、シクロアルキル、アリール及びベンジルから選ばれ、ＹはＣ_1〜Ｃ_8の直鎖及び分枝アルキレンから選ばれ、各Ｚは、独立に、１００℃未満でイソシアネート基に対して不活性である有機基から、少なくとも１つの基が１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ基であることを条件として選ばれる。 - 特許庁 - The sealing material for optical elements are substituent-containing silsesquioxanes with a ladder or a cage structure or their partially cleaved structures (structures with a partially deleted silicon atom or a partially cleaved silicon-oxygen bonding in the cage structure) having at least two functional groups selected from the group consisting of an aliphatic unsaturated binding group, an epoxy ring and an optionally substituted silyl group having an Si-H bond.
脂肪族不飽和結合基、エポキシ環、及び、Ｓｉ−Ｈ結合を有する置換されていてもよいシリル基からなる群から選択された少なくとも１種の官能基を少なくとも２つ有するラダー構造体、又は籠型構造体、若しくはその部分開裂構造体（籠型構造からケイ素原子のうちの一部が欠けた構造や籠型構造の一部のケイ素−酸素結合が切断された構造のもの）の、置換基含有シルセスキオキサンからなる光素子用封止材。 - 特許庁 - Then, a spin-on glass 7 is applied to the recessed and projecting surface of a first substrate 2, and a number of spherical Si consisting of an n-type layer 52 and a p-type part 51 are arranged.
すなわち、球状または棒状の複数の半導体結晶を、周期的な凹凸構造を持つ第一の基板上に配置された構造を持たせ、該第一の基板に構成された周期的な凹凸構造上に第一の導電層を配置し、該第一の導電層に対し、上記球状または棒状の半導体結晶の一部を電気的に接触させ、該第一の導電層と接触した、球状または棒状の半導体結晶の一部とは異なる部分の半導体結晶の一部に電気的に接触した第二の導電層を配置した構成としている。 - 特許庁 - This reflectionproof film comprises the reflectionproof layer 3 which is formed of a dry cured film of a solution containing (A) a siloxane oligomer obtained by condensation-polymerizing a hydrolyzable alkoxysilane composed mainly of a tetraalkoxysilane represented by formula (1): Si(OR)_4 (wherein, R is a methyl group or an ethyl group) after partial hydrolysis and (B) a chemical compound having a fluoroalkyl structure and a polysiloxane structure.
反射防止層３が、一般式（１）：Ｓｉ（ＯＲ）_４（式中Ｒは、メチル基またはエチル基を示す）で表されるテトラアルコキシシランを主成分する加水分解性アルコキシシランを部分的に加水分解後縮重合させたシロキサンオリゴマー（Ａ）と、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有する化合物（Ｂ）を含有する溶液の乾燥硬化膜により形成されたものであることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁 - This high-strength steel sheet comprises, by mass%, 0.02% or more but less than 0.07% C, 0.01-0.5% Si, 0.5-2% Mn, 0.05-0.5% Mo, 0.005-0.04%
質量％で、Ｃ：０．０２以上、０．０７％未満、Ｓｉ：０．０１〜０．５％、Ｍｎ：０．５〜２％、Ｍｏ：０．０５〜０．５％、Ｔｉ：０．００５〜０．０４％、Ａｌ：０．０１〜０．０８％を含有し、残部が実質的にＦｅからなり、原子％でのＣ量とＭｏ、Ｔｉの合計量の比であるＣ／（Ｍｏ＋Ｔｉ）が０．５〜３であり、（１）式で表されるＣｅｑが０．３８以下であり、金属組織が実質的にフェライトとベイナイトの２相組織であり、Ｔｉと、Ｍｏとを含む粒径１０ｎｍ未満の炭化物が分散析出していることを特徴とする、溶接熱影響部靭性に優れた高強度鋼板を用いる。 - 特許庁 - In the inkjet recording method, in which recording is performed with the core shell type colored resin fine particle dispersoid, which is formed by covering colored resin fine particles made of resin including no coloring material on the recording medium having the porous ink absorbing layer formed on the support, the core shell type colored resin fine particle includes no Si atom in a molecular structure.
支持体上に空隙を有するインク吸収層を形成して有する記録媒体上に、色材を含有する樹脂からなる着色樹脂微粒子を、色材を含有しない樹脂にて被覆したコアシェル型着色樹脂微粒子分散物を用いて記録を行うインクジェット記録方法において、前記コアシェル型着色樹脂微粒子分散物が分子構造内にケイ素原子を含まないことを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁 - Then an organic silicon compound gas including an Si-C combination in molecules is directly supplied to near a surface of a silicon thermal oxide film substrate which is heated up to 700 to 800°C to decompose by the hydrogen radical, by which crystal growth of the cubic silicon carbide film with orientation (100) on the surface of a silicon thermal oxide film is obtained.
水素ガスを熱分解させるホットワイア触媒体を１４００〜１８００℃に加熱して水素ガスを熱分解させて水素ラジカルを生成させるとともに、分子内にＳｉ−Ｃ結合を有する有機珪素化合物ガスを７００〜８００℃に加熱したシリコン熱酸化膜基板の表面近傍に直接供給して該水素ラジカルで分解することによってシリコン熱酸化膜表面に（100）配向の立方晶炭化珪素膜を結晶成長させることを特徴とする(100)配向した立方晶炭化珪素結晶膜の作製方法。 - 特許庁 - This ferritic stainless steel for conducting electrical parts small in contact electric resistance has a compsn. contg., by weight, 0.01 to 0.15% C, 0.01 to 1.5% Si, 0.01 to 1% Mn, ≤0.035% P, ≤0.01%
重量％で、Ｃ：０．０１〜０．１５％、Ｓｉ：０．０１〜１．５％、Ｍｎ：０．０１〜１％、Ｐ：０．０３５％以下、Ｓ：０．０１％以下、Ｃｒ：１０〜３５％、Ｎｉ：０．０１〜１％、Ｃｕ：０．０１〜１％を含有し、かつＣｒ＋３Ｍｏが１３〜４３％であり、Ｃｒ含有炭化物として析出しているＣ量および鋼中の全Ｃ量が、下記式を満足している接触電気抵抗の小さい通電電気部品用フェライト系ステンレス鋼、このステンレス鋼からなるセパレータおよびこのセパレータを用いた燃料電池。 - 特許庁
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