「To process」を含む例文一覧(50000)

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  • Works in from a second process 9b to a tenth process 9q are done on the basis of the pallet.
    第２工程９ｂ〜第10工程９ｑにおける作業を、該パレットを基準として行なう。 - 特許庁
  • To prevent data written at the manufacturing process from vanishing at the subsequent heating process.
    製造工程において書き込まれるデータがその後の熱工程で消失することを防止する。 - 特許庁
  • A plurality of semiconductor substrates of continuous length are obtained, by performing a process A to a process C in this order.
    順次下記Ａ工程〜Ｃ工程を経ることで複数の長尺状半導体基板を得る。 - 特許庁
  • A control terminal 1 executes installation process storing processing to store an installation process.
    制御端末１でインストール手順記憶処理を実行することによりインストール手順を記憶させる。 - 特許庁
  • Describes the FreeBSD boot process and explains how to control this process with configuration options.
    FreeBSD の起動プロセスを解説し、このプロセスを設定オプションで制御する方法を説明しています。 - FreeBSD
  • PROCESS/DESIGN METHODOLOGY TO ENABLE HIGH PERFORMANCE LOGIC AND ANALOG CIRCUITS USING SINGLE PROCESS
    単一のプロセスを用いて高性能ロジックおよびアナログ回路をイネーブルするプロセス／設計方法論 - 特許庁
  • To prevent a process liquid discharged from a rotating process vessel from being scattered around.
    回転している処理容器から排液される処理液が周囲に撒き散らかることを防止する。 - 特許庁
  • To predict and determine normality/abnormality in a subsequent process based on a measurement value in a preceding process.
    前工程における測定値から後工程における正常異常を予測して判定する。 - 特許庁
  • The related invention of the process of field assembly pertains to the process of manufacturing the equipment, the specified invention.
    関連発明の現場組立法は、特定発明の装置を生産する方法に該当する。 - 特許庁
  • After finishing the photolithography process, move on to an etching process (treatment S4) wherein a wiring pattern is formed.
    フォトリソグラフィ工程終了後、エッチング工程に移行し（処理Ｓ４）、配線パターンを形成する。 - 特許庁
  • To provide an adaptive image enhancing filter that can process a signal characterized in a marking process.
    マーキングプロセスの特徴を処理することができる、適合画像強調フィルターを提供すること。 - 特許庁
  • The calculated correction value is fed back to a unit process apparatus where the process has been previously carried out (S16).
    計算された補正値を以前に工程を実施した単位工程装置にフィードバックする（Ｓ１６）。 - 特許庁
  • To provide a process flow checking equipment which can express a flexible checking rule for a process flow.
    プロセスフローに対して、柔軟なチェックルールの表現が可能なプロセスフローチェック装置を提供する。 - 特許庁
  • Bactriolyzed solution 14 obtained in the bacteriolytic process can be recycled to the microbe treatment process.
    溶菌工程で得られた溶菌液１４は前記 微生物処理工程に循環することができる。 - 特許庁
  • Approximately simultaneously with completion of an ice making process, an ice removing process is started to effect removal of ice.
    そして、製氷工程終了とほぼ同時に除氷工程を開始させて除氷を行う。 - 特許庁
  • To simplify a process and improve the reliability of the process when manufacturing a display substrate.
    表示基板の製造において工程の単純化及び工程の信頼性を向上させる。 - 特許庁
  • To shorten the time of a coating process when the coating process requires a plurality of scanning periods.
    塗布工程が複数の走査期間を要する場合に、塗布工程の時間を短縮すること。 - 特許庁
  • A dummy process generation part 112 generates a dummy process A' which refers to pages P101 and P102.
    ダミープロセス生成部１１２は、ページＰ１０１、Ｐ１０２を参照するダミープロセスＡ’を生成する。 - 特許庁
  • To reduce cost of a TFT array by reducing a photolithographic process and shortening a manufacturing process.
    写真製版工程を削減し、製造工程を短くし、ＴＦＴアレイのコストを低減すること。 - 特許庁
  • The position is set for each process chamber, corresponding to processing position in each process chamber.
    このポジションは、各プロセスチャンバ内での処理位置に対応して、各プロセスチャンバ別に設定される。 - 特許庁
  • PROCESS FOR PRODUCTION OF ALIPHATIC POLYESTER COMPOSITION, PULP TO BE USED THEREIN, AND PROCESS FOR MICROFIBRILLATION THEREOF
    脂肪族ポリエステル組成物の製造方法とそれに用いるパルプ並びにそのミクロフィブリル化方法 - 特許庁
  • To perform a calculation process within a trapping area with higher speed while maintaining an effect of a trapping process.
    トラッピング処理の効果を保ちつつ、トラッピング領域の計算処理をより高速に行う。 - 特許庁
  • In the following communication from the process B to the process A, it is performed through the socket descriptor 705.
    以後のプロセスＢからプロセスＡに対する通信は、ソケット記述子７０５を介して行う。 - 特許庁
  • To manufacture a sputtering target without performing a positioning process and a joining process of a target material.
    ターゲット材の位置合わせ工程及び接合工程を行うことなくスパッタリングターゲットを製造する。 - 特許庁
  • Also, the method includes a process of using diamond of a nanosize as a seed crystal prior to the CVD process.
    また、ＣＶＤ工程の前にナノサイズのダイヤモンドを種結晶として用いる工程を含む。 - 特許庁
  • The replacement of the reticle R is not required when the first exposure process proceeds to the second exposure process.
    第１露光工程から第２露光工程へ移行する際にレチクルＲの交換が不要になる。 - 特許庁
  • To perform a process that performs a remote service by starting the process without limiting a communicating method.
    通信方法を限定することなく、リモートサービスを実行するプロセスを起動して実行する。 - 特許庁
  • The preparing process is a process for preparing a plurality of objects to be coated at a time or sequentially.
    上記準備過程は、複数の被塗布物を一度にあるいは順次に準備する過程である。 - 特許庁
  • From the process gas head 3, a process gas is supplied to the semiconductor substrate 1 on the tray 2.
    プロセスガスヘッド３からトレー２上の半導体基板１に対してプロセスガスが供給される。 - 特許庁
  • To use process identifiers effectively and restart processes reliably by virtualizing process identifiers.
    プロセス識別子を仮想化し、プロセス識別子を有効に利用してプロセスのリスタートを確実にする。 - 特許庁
  • As the drying process must be finished within a short period of time, part-time workers to engage in the drying process are often recruited.
    コンブ干しは短期決戦のため、干し方専門のアルバイトが募集されることもある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Because the step of process is simple, it is possible to process and cook from fresh fish personally.
    加工工程が単純であるため、生鰹から個人で加工、調理することも可能である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a paper container of the mode that the assembly process and the content filling and packaging process are suitable for mechanization.
    組み立てて内容物を充填、包装する工程が機械化に適した形態の紙容器。 - 特許庁
  • At this time, the process liquid discharged from the chamber 2 is returned to a process-liquid supplying part.
    この際に、チャンバー２から排出される処理液を処理液供給部に戻すようにする。 - 特許庁
  • To provide a heat pipe free from impairing of heat pipe performance even in a bending process and a crushing process.
    曲げ加工および圧潰加工に対してもヒートパイプ性能が低下しないヒートパイプを提供する。 - 特許庁
  • METHODS AND APPARATUS TO CREATE PROCESS CONTROL GRAPHICS BASED ON PROCESS CONTROL ALGORITHM INFORMATION
    プロセス制御アルゴリズム情報に基づいてプロセス制御グラフィックを作成する方法および機器 - 特許庁
  • To support learners to acquire the process of thinking to find answers for practice problems.
    演習問題の解答を見つける思考過程を身につけるのを支援する - 特許庁
  • To provide a unique process to transmit information to an operator using a tool.
    工具を使用する操作者に情報を伝える独特な手段を提供する。 - 特許庁
  • To reduce various problems due to providing contacts to a process cartridge.
    プロセスカートリッジに接点を設けることに起因する種々の問題も緩和する。 - 特許庁
  • The image forming apparatus for forming a color image of at least a CMK color process by using the electrophotography method forms a K color process by a rational number net, C color process and M color process by supercells so as to form the K color process, the C color process, and the M color process respectively at an interval of 30 degrees.
    電子写真方式により少なくともＣＭＫ色版のカラー画像を形成する画像形成装置において、Ｋ色版を有理数網で形成し、Ｃ色版とＭ色版をスーパーセルで形成し、Ｋ色版とＣ色版とＭ色版とをそれぞれ３０゜間隔に形成する。 - 特許庁
  • When a process requests a self-end, a process end function 12 replaces the self-process information cell 21 from an operation process information list 21 to a standby process information list 22 in the case where the slave process exists in a self-process, and an alternate processing part 3 executes alternate waiting processing.
    プロセスが自身の終了を要求したときに、プロセス終了ラッパ関数１２は、自プロセスに子プロセスがあれば、自プロセス情報セル２１を稼動プロセス情報リスト２１から待機プロセス情報リスト２２に付け替え、代替処理部３により代替の待ち処理を実行させる。 - 特許庁
  • To set the authority to refer to a process history about an operation, so that the process history that is unnecessary for security is not displayed when an entrusting user refers to the process history.
    業務にかかる処理履歴の参照権限を設定可能とすることで、委任元ユーザーが処理履歴を参照する場合に、セキュリティー上不要な処理履歴を表示させない。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing method which reduces to the utmost an influence of time required for a temperature adjusting process on decrease of throughput, and to provide a substrate processing apparatus which achieves temperature control accurately in a process unit for conducting a liquid process to the substrate.
    基板の温調処理に要する時間がスループットの低下に与える影響を極力減らすことができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an arrangement that makes it possible to efficiently process an interrupt request with respect to process control that is based on partition setting which is a process adaptable to a plurality of operating systems (OS).
    複数のオペレーティングシステム（ＯＳ）に対応する処理であるパーティション設定に基づく処理制御において、割り込み要求を効率的に処理可能とする構成を実現する。 - 特許庁
  • Then, a color data generating process execute conversion opposite to that executed to the area 42 in the virtual color area leading out process to third color data led out in the color data changing process to generate second color data.
    カラーデータ生成過程は、第３カラーデータに対して、仮想色域導出過程で第２色域に対して行われた変換と逆になる変換を行って第２カラーデータを生成する。 - 特許庁
  • A process controller that may be used to control a process having a set of process outputs comprises a multiple-input/multiple-output controller that uses the process outputs to develop a set of process control input signals, and a process model, which may be a nonlinear process model, that receives the set of process control input signals to produce a prediction signal for one or more of the process outputs.
    一組のプロセス出力を有するプロセスの制御に用いられうるプロセスコントローラは、前記一組のプロセス制御入力信号を生成すべく前記プロセス出力を用いる多重入力多重出力コントローラと、前記プロセス出力のうちの一または複数に対して予測信号を生成すべく前記一組のプロセス制御入力信号を受信する、非線形プロセスモデルでありうるプロセスモデルとを備えている。 - 特許庁
  • This process management device has: a main processing part applying the main processing to the product in a certain process; and a sub processing part applying the sub processing in the process.
    或る工程で生産品に対してメイン処理を施すメイン処理部と、その工程でサブ処理を施すサブ処理部とを備える。 - 特許庁
  • To actualize a process control method which can control a continuous process without any switching pattern, and a process controller which uses the method.
    切り換えパターン無しで連続プロセスを制御することが可能なプロセス制御方法及びこれを用いたプロセス制御装置を実現する。 - 特許庁
  • A manufacturing method according to the present invention is a laminate structure manufacturing method which comprises a process (a), a process (b) and a process (c).
    本発明に係る製造方法は、積層構造体を製造する方法であって、工程（ａ）、工程（ｂ）、及び工程（ｃ）を有している。 - 特許庁
  • A photosensitive glass paste applied on the conductor pattern in the application process S11 of a via hole formation process S2 is exposed to light in an exposure process S22.
    ビアホール形成工程Ｓ２の塗布過程Ｓ１１で導体パターン上に塗布した感光性ガラスペーストを露光過程Ｓ２２で露光する。 - 特許庁
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