「compound pattern」を含む例文一覧(916)
＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 18 19 次へ＞- The pattern forming material has at least a photosensitive layer on a support, wherein the photosensitive layer contains a chain transfer compound having a plurality of substituents to chain transfer, a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.
支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、連鎖移動可能な置換基を複数有する連鎖移動化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤とを含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which can form a pattern efficiently with high precision that is formed using a photosensitive layer including a cationic polymerizable compound which is general as a photopolymer based sensitive material by suppressing the distortion of an image formed on the photosensitive layer.
感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、フォトポリマー系感材として一般的なカチオン重合性化合物を含む感光層を用いて形成させるパターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - A thin plate B made of artificial marble having the same pattern as the surface of an artificial marble main body A is bonded to the side surface of the plate-shaped artificial marble main body A obtained by molding a resin compound for manufacturing the artificial marble prepared by mixing a pattern material 1 and a base resin.
柄材１とベース樹脂とを混合した人造大理石製造用樹脂コンパウンドを成形して得た板状をした人造大理石主体Ａの側面に、人造大理石主体Ａの表面と同じ模様をした人造大理石製の薄板Ｂを貼着する。 - 特許庁 - To provide a resist composition improving lithographic characteristics and forming a resist pattern of an excellent shape, a method for forming a resist pattern, a photobase generator for use in the resist composition, and a new compound useful as the photobase generator.
リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の光塩基発生剤および当該光塩基発生剤として有用である新規な化合物の提供。 - 特許庁 - To provide a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent and high sensitivity and can obtain a resist pattern having a good shape, a process for producing the same, a radiation-sensitive composition including the same, and a resist pattern-forming method using the radiation-sensitive composition.
安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好な環状化合物、その製造方法、それを含む感放射線性組成物、および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - After a GaN group compound semiconductor film 2 is formed on the surface of a substrate 1, an SiO2 pattern 3 is formed over it, then the pattern 3 is evaporated in an atmosphere containing hydrogen so that an anti- surfactant region (Si residue part 4) is selectively formed.
基板１表面にＧａＮ系化合物半導体膜２を形成した後、ＳｉＯ２パターン３をその上に形成し、次いでこのパターン３を水素を含む雰囲気で蒸発させることによりアンチサーファクタント領域(Ｓｉ残留部４)を選択的に形成する。 - 特許庁 - To provide a positive-type resist composition which has superior lithographic characteristics and forms a roughness-reduced resist pattern, a resist pattern-forming method using the positive-type resist composition, and a high-molecular compound which can be utilized as a base material component for the positive-type resist composition.
良好なリソグラフィー特性で、ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、およびポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物を提供する。 - 特許庁 - To provide: a positive resist composition which, in resist pattern formation, exhibits excellent lithography characteristics and can diminish defects; a method of forming a resist pattern using the positive resist composition; and a polymeric compound useful as a base component of the positive resist composition.
レジストパターン形成において、優れたリソグラフィー特性を示し、ディフェクトを低減できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁 - The method for forming the pattern comprises the steps of developing a pattern-exposed resist film 11 with an alkaline developing liquid, obtained by dissolving a tetramethyl ammonium hydroxide (amine compound) in isopropyl alcohol (first alcohol), and then rinsing the film with a rinsing liquid made of isopropyl alcohol (second alcohol).
パターン露光されたレジスト膜１１に対して、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（アミン化合物）がイソプロピルアルコール（第１のアルコール）に溶解してなるアルカリ性現像液により現像を行なった後、イソプロピルアルコール（第２のアルコール）よりなるリンス液によりリンスを行なう。 - 特許庁 - The pattern forming material has on a support a pattern forming layer comprising a high molecular compound having a functional group whose hydrophilicity or hydrophobicity is varied by light and having a structure which can directly be bonded to the top of the support by a chemical bond, wherein the pattern forming layer is irradiated with light of ≤700 nm to vary the hydrophilicity or hydrophobicity of the surface of the pattern forming layer.
支持体上に、光により親疎水性が変化する官能基を有し、かつ、該支持体上に直接化学結合により結合されうる構造を有する高分子化合物からなるパターン形成層を備え、該パターン形成層に、７００ｎｍ以下の光照射を行って、パターン形成層表面の親疎水性を変化させることを特徴とするパターン形成材料、及びそれを用いた画像形成材料。 - 特許庁 - The compound machine is provided with a storage means for storing an operation conducted by a user by turns, a first control pattern generating means for generating the first control pattern for specifying a content of the operation by reading the operation stored in the storage means, and a control sheet printing means for printing the control sheet, containing the first control pattern generated by the first control pattern generating means.
本発明に係る複合機は、ユーザの行った操作を順次記憶する、記憶手段と、前記記憶手段に記憶されている操作を読み出して、その操作内容を特定することのできる第１制御パターンを生成する、第１制御パターン生成手段と、前記第１制御パターン生成手段で生成された第１制御パターンを含む制御シートを印刷する、制御シート印刷手段と、を備えている。 - 特許庁 - A film or a laminated film formed of simple substance or composite compound of Si oxide, AlN, or Al_2O_3 is formed as an electrical insulating inorganic compound film 6 on both the upper and lower surface of a polyimide film 1, respectively, a Cu layer 4 is formed at least on the upper inorganic compound film 6, and the Cu layer 4 is formed into a prescribed interconnect line pattern.
ポリイミドフィルム１の両側の表面に、電気絶縁性の無機化合物膜６として、Ｓｉの酸化物、ＡｌＮ、Ａｌ_2Ｏ_3単体又はこれらの複合化合物あるいは積層膜を形成し、その少なくとも片面側の上記無機化合物膜６上にＣｕ層４を形成し、該Ｃｕ層を所定の配線パターンに形成する。 - 特許庁 - This phosphorus-containing compound containing a vinyl monomer having a phosphorus compound structure in its side chain, a vinyl monomer having a carboxyl group in its side chain and a vinyl monomer having an aryl or ester group in its side chain as structural units, the resin composition containing the compound, the photosensitive film 1 obtained by using the resin composition, the method for forming the resist pattern and the printed wiring board are provide.
側鎖にリン化合物構造を有するビニルモノマー、側鎖にカルボキシル基を有するビニルモノマー、側鎖にアリール基又はエステル基を有するビニルモノマーを構造単位として含むリン含有化合物、該化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム１、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板。 - 特許庁 - The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, the binder has an I/O value of 0.35-0.65 and the polymerizable compound contains a compound having three or more polymerizable groups per molecule.
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を少なくとも含み、該バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５〜０．６５であり、かつ前記重合性化合物が、分子中に重合性基を３つ以上有する化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, the binder has an I/O value of 0.35-0.65 and the polymerizable compound contains at least a compound having one polymerizable group per molecule.
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を少なくとも含み、該バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３５〜０．６５であり、かつ前記重合性化合物が、分子中に重合性基を１つ有する化合物を少なくとも含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁 - The characteristic of this electrophotographic photoreceptor is to use a photosensitive layer comprising a dihydroxysilicon phthalocyanine compound having 9.3, 13.4, 20.0, 23.9 and 27.4° Bragg angles 2θ(±0.3°) in an X-ray diffraction pattern with Cu-Kα radiation on an electrocoductive support.
Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折パターンにおいて、ブラッグ角２θ（±０．３°）９．３，１３．４，２０．０，２３．９，２７．４°にピークを有するジヒドロキシシリコンフタロシアニン化合物、およびそれを含有する電子写真感光体。 - 特許庁 - The radiation-sensitive resin composition comprises a resin, a radiation-sensitive acid generator, a nitrogen-containing compound and a solvent, wherein the resin has a glass transition temperature not over a preapplication bake temperature in the formation of a resist pattern.
樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、且つ、前記樹脂のガラス転移温度が、レジストパターンを形成する際のプレアプリケーションベーク温度以下である。 - 特許庁 - To provide a photomask manufacturing method and a charged particle beam lithography system, which suppress a reduction in pattern dimensional accuracy by absorption of an amine compound of a resist film in blanks.
ブランクスにおけるレジスト膜のアミン性化合物の吸着によるパターン寸法精度の低下を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having excellent lithography characteristic or defect reduction effect, and to provide a method for forming a resist pattern and a polymeric compound useful for the positive resist composition.
リソグラフィー特性やディフェクト低減効果に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、ならびに該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMERIZABLE COMPOUND FOR USE IN PRODUCTION OF THE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される樹脂、該樹脂の製造に使用される重合性化合物及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL display in which a position shift after positioning of a mask and a substrate is controlled and a pattern deposition of an organic compound layer of an organic light emitting element can be made in a high resolution.
有機ＥＬディスプレイの製造において、マスクと基板とを位置合わせした後の位置ずれを抑制し、有機発光素子の有機化合物層を高解像度でパターン成膜する。 - 特許庁 - The bis-maleic acid salt (a mixture of bis-maleic acid salt form I and bis-maleic acid salt form III) and free base forms of the compound have peaks at specific diffraction angles in a powder X-ray diffraction pattern.
粉末Ｘ線回折図において、特定の回折角にピークを有するビスマレイン酸塩（ビスマレイン酸塩Ｉ型、ビスマレイン酸塩ＩＩＩ型）及び遊離塩基型化合物。 - 特許庁 - NEW OXIME ESTER COMPOUND, RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR CONTAINING THE SAME, POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE TYPE RESIST BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING IMAGE PATTERN BY USING THE SAME
新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法 - 特許庁 - When the polymer compound is used for forming a resist film, the film has the increased adhesion to the substrate, has the excellent solubility in the developing solution, without having a swelling effect, and forms a good resist pattern.
レジスト膜に当該高分子化合物を用いた場合、基板密着性が高くなると共に、該レジスト膜は膨潤性が無くて現像溶解性に優れレジストパターンの形状が良好。 - 特許庁 - POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMER COMPOUND USED FOR POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a pattern forming method of a metal film by which a lamination amount of metal is optionally controlled using a polymer compound having superior heat resistance and durability by small number of processes.
少ない工程数で、耐熱性、耐久性が優れる高分子化合物を使用し、金属の積層量を任意に制御できる金属膜のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The photosensitive composition contains a compound which generates a specific alkane sulfonic acid by irradiation with active rays or radiation, and the method for forming a pattern is carried out, using the photosensitive composition.
活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - The multi function peripheral which processes images and a general pattern/text is connected with the photography studio via a control device, the control device is used for controlling actions of the photography studio and the digital compound machine.
画像、及び、一般のパターン／テキストを処理するデジタル複合機は、制御装置により、フォトグラフィスタジオと連接し、制御装置は、フォトグラフィスタジオ、及び、デジタル複合機の作動を制御する。 - 特許庁 - To provide an ink suitable to the formation of a circuit pattern such as an electroconductive circuit, which contains an electroconductive substance capable of conducting accurate printing and also contains a compound polymerizable with an active energy ray.
導電回路などの回路パターンの形成に適しており、精細な印刷の可能な導電物質および活性エネルギー線重合性化合物を含む導電性インキの提供。 - 特許庁 - A basic metallic compound in which the pH of the aqueous solution or water-dispersed solution is ≥7.5 at 25°C such as calcium carbonate and calcium oxide is added to a lost pattern using foamed plastics.
炭酸カルシウム、酸化カルシウム等の水溶液又は水分散液のｐＨが２５℃で７．５以上である塩基性の金属化合物を、発泡プラスチックを用いた消失模型用に添加する。 - 特許庁 - To provide a novel photopolymerizable polysilane compound which has both photosensitivity and high transparency, and enables pattern formation of high accuracy having a high refractive index and good stability.
感光性を有するとともに高透明性を有し、高屈折率かつ熱安定性が良好な高精度のパターン形成を可能とする新規な光重合性ポリシラン化合物を提供すること。 - 特許庁 - This method for producing the polyester-based fiber material having the uneven pattern is characterized by using a mixture of an alkali metal salt, a sizing agent, a clay mineral, and a chelate effect-having compound.
金属アルカリ塩、糊剤、粘土鉱物、及びキレート効果を有する化合物の混合物を使用することを特徴とする、凹凸柄を有するポリエステル系繊維材料の製造方法。 - 特許庁 - Provided are a positive resist composition comprising a polynuclear phenol compound having groups each having a sulfonate or sulfone bond and a pattern formation method using the composition.
（Ａ）スルホネート結合若しくはスルホン結合を有する基を有する多核フェノール化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a CNT array manufacturing method for immobilizing a CNT onto a metal catalyst nano-pattern formed using self-aggregation of an organic supermolecule and staining of a metal compound.
有機超分子の自己集合及び金属化合物の選択的ステイニングを用いて形成された金属触媒ナノパターンにＣＮＴを固定するＣＮＴアレイの製作方法を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - NEW COMPOUND, METHOD FOR SYNTHESIZING THE SAME, INK, INK CARTRIDGE, RECORDING UNIT, INKJET RECORDING APPARATUS, RECORDING METHOD, LIQUID COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, ARTICLE, ENVIRONMENTAL HISTORY-DETECTING METHOD AND RECORDING MEDIUM
新規化合物とその合成方法、インク、インクカートリッジ、記録ユニット、インクジェット記録装置、記録方法、液体組成物、パターン形成方法、物品、環境履歴検知方法及び記録媒体 - 特許庁 - The ink for forming the conductor pattern is an ink for forming the conductor pattern for forming the conductor pattern on a substrate by a liquid drop delivery method, and includes a metal particle, a water based dispersion medium dispersed with the metal particle, xylitol and a poly-glycerine compound having a poly-glycerine skeleton.
本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基板上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、金属粒子と、前記金属粒子が分散した水系分散媒と、キシリトールと、ポリグリセリン骨格を有するポリグリセリン化合物とを含み、下記式（Ｉ）で示されるＨが０．１０〜０．７０であることを特徴とする。 - 特許庁 - In the method for forming a pattern comprising the steps of: pattern-stacking resist ink for wet etching on a metal-deposited layer provided on a base material; thermally drying the resist ink; and forming a pattern composed of a metal-deposited layer by wet etching, the resist ink comprises a binder resin and a compound (A) having a specified fundamental skeleton.
基材上に設けた金属蒸着層上に、ウェットエッチング用レジストインクをパターン積層し、次いで、該レジストインクを熱乾燥させ、しかるのち、ウェットエッチングにより金属蒸着層からなるパターンを形成させるパターン形成方法において、該レジストインクが、バインダー樹脂と、特定の基本骨格を持つ化合物（Ａ）を含有するパターン形成方法。 - 特許庁 - The patterned retardation film is characterized in that a sidewall angle of each pattern: SWA is 16° or more in a cross-sectional surface of each pattern of the patterned retardation film having the pattern formed from a cured product of the polymerizable liquid crystal composition and the polymerizable liquid crystal composition contains 92.35 to 96.84 mass% of specified polymerizable compound.
重合性液晶組成物の硬化物により構成されパターンを有するパターン化位相差フィルムの各パターンの断面において、各パターンの側壁角：ＳＷＡが16°以上であり、該重合性液晶組成物が特定の重合性化合物を92.35質量％から96.84質量％含有することを特徴とするパターン化位相差フィルム。 - 特許庁 - The covering formation agent for the pattern minuteness used for forming the minute pattern by being coated on a substrate having the photoresist pattern contains: (a) water-soluble polymer; and (b) a carboxyl group-containing compound or its salt or at least one selected from an esterified matter, peroxide and peracid.
本発明のパターン微細化用被覆形成剤は、ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、（ａ）水溶性ポリマーと、（ｂ）カルボキシル基含有化合物又はその塩類若しくはエステル化物、過酸化物、及び過酸の中から選ばれる少なくとも１種とを含有することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a polymer compound which can constitute a photoresist composition having an excellent resolution, forming a fine pattern with a good rectangularity, obtaining favorable resist characteristics even when acid strength of an acid generated from an acid generator is weak, and having favorable sensitivity, the photoresist composition using the polymer compound and a resist pattern formation method using the photoresist composition.
優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In this manufacturing method of an organic luminescent device, a process of forming the organic compound layer is characterized by arranging the deposition mask having a predetermined mask pattern on a pixel barrier rib and a contact film in a state of being faced to a deposition object surface of the substrate, and forming the organic compound layer on the deposition object surface on the substrate to transfer the mask pattern of the deposition mask.
有機発光装置の製造方法において、有機化合物層を形成する工程は、所定のマスクパターンを持つ蒸着マスクを基板の被蒸着面に対面させた状態で、画素隔壁及び接触膜の上に配置し、前記蒸着マスクのマスクパターンを転写するように、基板の上の被蒸着面に有機化合物層を形成することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape and is capable of obtaining good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak, to provide a photoresist composition using such a polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern using such a photoresist composition.
優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In this method, (a) a patterned and colored plating film having the colored pattern of the compound surface color consisting of the color specific to the noble metal plating film and the interference color by the metal oxide film of at least one kind of a compound film of the metal oxide film/precious metal plating film can be obtained.
このような方法により、（ａ）少なくとも１種の金属酸化膜／貴金属めっき膜の複合膜の貴金属めっき膜特有の色と金属酸化膜による干渉色とが複合した表面色からなる着色模様を有する模様付け発色めっき膜が得られる。 - 特許庁 - To provide a compound having a sulfonyl structure, giving excellent resist pattern and useful as an acid generating agent sensitive to active radiation such as far ultraviolet radiation, a radiation-sensitive acid generating agent produced by using the compound and a positive-type or negative-type chemical- amplification radiation-sensitive resin composition.
遠紫外線等の活性放射線に感応する酸発生剤として有用で、優れたレジストパターンを可能にするスルホニル構造を有する化合物、それを用いた感放射線性酸発生剤並びに化学増幅型のポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In the method for forming the refractive index pattern, a hybrid material comprising a polysilane compound and an inorganic compound is irradiated with an active energy line via a mask, a polysilane decomposition product of the irradiated part is removed, and then the whole hybrid material is hardened by heating.
ポリシラン化合物と無機化合物からなるハイブリッド材料にマスクを介して活性エネルギー線を照射し、この照射部分のポリシラン分解物を除去した後に、ハイブリッド材料全体を加熱して硬化させることを特徴とする屈折率パターンの形成方法。 - 特許庁 - A silicon compound layer 102 composed of silicon carbide is formed on the whole exposed face of a silicon substrate 101, a resist pattern 104 with a groove part 104a and a groove part 104b is formed on the silicon compound layer 102 on the side of the main surface of the silicon substrate 101.
シリコン基板１０１の露出している全面に、炭化シリコンからなるシリコン化合物層１０２が形成された状態とし、シリコン基板１０１の主表面側のシリコン化合物層１０２の上に、溝部１０４ａ，溝部１０４ｂを備えるレジストパターン１０４が形成された状態とする。 - 特許庁 - A fiber sheet having a natural stone-like pattern preliminarily printed thereon is cut to form flat granular decorative particles and these decorative particles are compounded with a curable resin liquid to prepare a compound for the decorative molded article and this compound is cured and molded.
予め天然石調の模様が印刷された繊維シートを切断して扁平粒子状の加飾用粒子を作製した後に、該加飾用粒子を硬化性樹脂液に配合して加飾成形品用コンパウンドを作製し、該加飾成形品用コンパウンドを硬化成形してなることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a new compound suitable for preparing a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape, and gives good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak.
優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物の調製に好適な新規化合物を提供する。 - 特許庁 - The title compound is an acrylic bulk molding compound for decoration using an acrylic syrup and comprises 100 pts.wt. of an acrylic syrup and 3-30 pts.wt., based thereon, of a pattern material for decoration comprising a colored flaky material having a size of 0.1-2.5 mm on the average.
この加飾用アクリル系ＢＭＣは、アクリルシラップを用いた加飾用アクリル系ＢＭＣであって、上記アクリルシラップ１００重量部に対して、平均大きさ０．１〜２．５ｍｍの着色薄片状物質からなる加飾用柄材３〜３０重量部が含有されてなる。 - 特許庁
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