「compound pattern」を含む例文一覧(916)
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER COMPOUND AND COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁 - METAL OR METAL COMPOUND PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING METAL OR METAL COMPOUND PATTERN
金属または金属化合物パターンおよび金属または金属化合物パターンの製造方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, HIGH MOLECULAR COMPOUND, AND COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 - 特許庁 - ETHER COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD
エーテル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - ESTER COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
エステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER COMPOUND, AND COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, HIGH MOLECULAR COMPOUND, AND COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁 - ACETAL COMPOUND, HIGH-MOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
アセタール化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - SULFONAMIDE COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
スルホンアミド化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - AMINE COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
アミン化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMER COMPOUND, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - NOVEL COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
新規な化合物、高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMER COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, POLYMERIC COMPOUND, AND COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および化合物 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - VINYL ETHER COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND, PHOTORESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD
ビニルエーテル化合物、高分子化合物、フォトレジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - CYCLIC ACETAL COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD
環状アセタール化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - NEW ESTER COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD
新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - NEW ESTER COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMING
新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - LACTONE-CONTAINING COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
ラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - NEW ESTER COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD
新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパタ—ン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - BASIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
塩基性化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - BASIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
塩基性化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR PATTERN FORMATION
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING COLORFUL PATTERN COATING FILM AND COMPOUND COATING FILM
多彩模様塗膜形成方法および複合塗膜 - 特許庁 - HIGH MOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - HYBRID COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF FORMING PATTERN
ハイブリッド化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER, COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 - 特許庁 - COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST PATTERN
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁 - POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物 - 特許庁 - AMINE COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN
アミン化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - NITROGEN COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD
窒素化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD
化合物、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PROCESS FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYPHENOL COMPOUND, COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD
多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYHYDRIC PHENOL COMPOUND, COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
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