「compound pattern」を含む例文一覧(916)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 18 19 次へ＞- RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁 - HIGH-MOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 - 特許庁 - HIGH MOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - HIGH MOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁 - NITROGEN-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
含窒素有機化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
感放射線性組成物、化合物、化合物の製造方法およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND AND QUENCHER CONSISTING OF THE SAME COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー - 特許庁 - ACETAL COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD
アセタール化合物、その製造方法、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - NEW LACTONE-CONTAINING COMPOUND, HIGH POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION
新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ—ン形成方法 - 特許庁 - ORGANOMETALLIC COMPOUND FOR FORMING METAL PATTERN AND METHOD FOR FORMING METAL PATTERN USING THE SAME
金属パターン形成用有機金属化合物及びそれを用いた金属パターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁 - COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および高分子化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMER, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD
化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMERIC COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN
高分子化合物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - CHEMICAL COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER SILICONE COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PROCESS FOR PATTERN FORMATION
高分子シリコーン化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATING AGENT
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST-PROTECTING MEMBRANE MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD
高分子化合物、レジスト保護膜材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および新規な化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND NOVEL COMPOUND
レジスト組成物、レジストパターン形成方法および新規な化合物 - 特許庁 - COMPOUND, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND POLYMERIC COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
感光性化合物、感光性組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND COMPOUND
感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び化合物 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
珪素含有化合物、レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SUCH POLYMER COMPOUND, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - ESTER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, MACROMOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD OF PATTERN FORMATION
エステル化合物とその製造方法、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - FLUORINE CONTAINING COMPOUND, FLUORINE CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME
含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - INK COMPOSITE FOR FORMING PATTERN, PATTERN FORMING METHOD EMPLOYING THE COMPOUND AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC COMPONENT
パターン形成用インキ組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品の製造方法 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition, a compound and a method for forming a pattern to obtain a pattern with few pattern collapses, reduced line edge roughness and having pattern profile.
パターン倒れが少なく、ラインエッジラフネスを小さくでき、パターンプロファイルが優れた感光性組成物、化合物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、および酸発生剤 - 特許庁 - COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
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