「compound pattern」を含む例文一覧(916)
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物および酸発生剤 - 特許庁 - COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
化合物、重合体、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD
珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
塩基性化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION PROCESS
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMERIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - AMINE COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD
アミン化合物、化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, ANTIREFLECTION FILM MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、反射防止膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER, AND COMPOUND
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMATION
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING POLYMERIZABLE COMPOUND, ITS PREPARATION PROCESS, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
ケイ素含有重合性化合物、その製造方法、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, PATTERN FORMATION METHOD AND NEW TETRAHYDROFURAN COMPOUND WITH ITS PRODUCTION METHOD
高分子化合物、レジスト材料、パターン形成方法、及び新規テトラヒドロフラン化合物とその製造方法 - 特許庁 - FLUORINE-CONTAINING CYCLIC COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND AND RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME
含フッ素環状化合物、含フッ素高分子化合物、それを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMERIZABLE COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND, POSITIVE RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
重合性化合物、高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - NOVEL EPOXY COMPOUND HAVING ALICYCLIC STRUCTURE, POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD
脂環構造を有する新規エポキシ化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION
珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, ACID-FORMING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - SILICONE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOE FORMING PATTERN
珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION
珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
高分子化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁 - COMPOUND, DISSOLUTION INHIBITOR, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION
化合物、溶解抑制剤、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁 - HIGH MOLECULAR COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND HIGH-MOLECULAR COMPOUND
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - HIGH MOLECULAR COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND METHOD OF FORMING PATTERN
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - HIGH-MOLECULAR COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, ACID GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, HIGH MOLECULAR COMPOUND AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - SILOXANE COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD
シロキサン化合物、これを含むフォトレジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING HIGH POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD
珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁 - PHOTOACTIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN
光活性化合物及び感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁
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