「damage pattern」を含む例文一覧(241)
＜前へ 1 2 3 4 5 次へ＞- To effectively prevent damage of a mold when a lost foam pattern is lost, and to efficiently obtain the mold having high quality.
消失性模型を消失させる際に、鋳型の損傷を有効に阻止し、高品質な鋳型を効率的に得ることを可能にする。 - 特許庁 - To enable cleaning of a substrate without reducing cleaning ability on the substrate while avoiding damage to a pattern formed on the substrate.
基板上に形成されたパターンの破損を回避しつつ、基板に対する洗浄能力を低下させずに洗浄を行うことができる。 - 特許庁 - The item, to be obtained when such a pattern as a watermelon whose probability of generation is low is won, can do extensive damage to the monster when used in the battle.
発生確率が低いスイカなどが入賞したときに得られるアイテムは、使用したときにモンスターに大ダメージを与えられる。 - 特許庁 - To prevent damage and disconnection of a circuit pattern of a flexible circuit substrate produced by stress in folding the flexible circuit substrate.
フレキシブル回路基板を折り曲げる際の応力により発生するフレキシブル回路基板の回路パターンの損傷や断線を防止する。 - 特許庁 - To provide a holding substrate for mitigating the mechanical damage of a pattern plotted on a treatment sheet, an apparatus for discharging a liquid droplet, and a circuit module.
処理シートに描画したパターンの機械的破損を軽減させた保持基板、液滴吐出装置、及び回路モジュールを提供する。 - 特許庁 - To provide a protective film forming material which has small effect on environmental, substantially avoids damage to a photoresist pattern, and which forms a photoresist pattern having good rectangular geometry, and to provide a photoresist pattern forming method using the protective film forming material.
環境に与える影響が小さく、かつ、ホトレジストパターンへのダメージが少なく、良好な矩形形状のホトレジストパターンを形成可能とする保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - While deterioration of the ferroelectric layer pattern is prevented due to ethcing damage on ferroelectric layer pattern, the electrical and ferroelectrical properties of the ferroelectric capacitor are improved, by making the effective area of the ferroelectric layer pattern expanded.
強誘電体層パターンのエッチング損傷による強誘電体層パターンの劣化を防止する一方、強誘電体層パターンの有効面積を拡張させて強誘電体キャパシタの電気的及び強誘電的特性を改善することができる。 - 特許庁 - To provide a protective film forming material which has low environmental impact, substantially avoids damage to a photoresist pattern, and enables formation of a photoresist pattern having good rectangular geometry, and a photoresist pattern forming method using the protective film forming material.
環境に与える影響が小さく、かつ、ホトレジストパターンへのダメージが少なく、良好な矩形形状のホトレジストパターンを形成可能とする保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To accurately perform pattern recognition, discrimination and elimination of counterfeited/damaged paper money by improving the discrimination rate of the pattern recognition of paper money that is partially subjected to specific counterfeit/alteration processing and normal paper money whose damage is in progress.
一部特異な偽造／変造処理された紙幣や、損傷が進行した正常な紙幣のパターン認識の識別率を向上させ、正確に偽造／損傷紙幣とパターン認識し、識別、排除する。 - 特許庁 - To provide a board joining method by which the board can be joined by ultrasonic joint without giving any damage to a wiring pattern even at a point where the wiring pattern passes or at its adjacent position.
配線パターンの通過している個所またはその近傍位置であっても、配線パターンにダメージを与えることなく超音波接合できる基板の接合方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Therefore, the lost foam pattern M is embedded in the molding sand S while holding the shape at the producing time without causing any deformation and damage.
従って、消失模型Ｍが変形したり損傷を受けたりすることがなく、製作時の形状を保って鋳砂Ｓ中に埋設される。 - 特許庁 - To provide a resin removal method capable of removing resin from the pattern surface of a mold efficiently without causing any damage on the mold.
モールドに損傷を与えることなく効率良くモールドのパターン面から樹脂を除去することができる樹脂除去方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide etching equipment which is capable of uniformizing the treatment over a fine pattern part and reducing the damage and superior in productivity.
微細パターン部分についての処理の均一化やダメージを低減させることができ、生産性にも優れるエッチング装置を提供することである。 - 特許庁 - To provide a method of forming plating layer capable of minimizing chemical damage which may occur on a ceramic substrate when a metal pattern is plated on the ceramic substrate.
セラミック基板上に金属パターンをメッキする際にセラミック基板に生じ得る化学的な被害を最小化する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus which allow cleaning process to be carried out without exerting damage on a pattern on a substrate.
基板上のパターンにダメージを与えることなく洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an X-ray fluorescence analyzer for semiconductor capable of analyzing a semiconductor sample at a low cost without incurring damage to a circuit pattern.
低コストで、回路パターンに損傷を与えることなく、半導体試料を分析できる半導体用蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern correction device with which stable laser welding to eliminate the peeling phenomenon of electrodes and to lessen the damage on a liquid crystal layer is made possible.
電極の剥離現象がなく、液晶層へのダメージも少ない安定したレーザウエルディングを可能としたパターン修正装置を提供する。 - 特許庁 - a pattern of symptoms occurring as a result of damage to nerves in the cervical region of the spine (drooping eyelids and constricted pupils and absence of facial sweating)
脊柱の頸部で神経に対する損害の結果として起こる症状のパターン（眼瞼下垂、瞳孔縮小、及び顔面発汗の欠如） - 日本語WordNet - To provide a method for manufacturing a transparent conductive film having high temperature resistance, capable of suppressing the occurrence of damage on a circuit pattern portion.
回路パターン部の損傷の発生を抑制でき、耐熱性の高い透明導電性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method of dry-etching a low-permittivity interlayer insulating film which brings forth a small CD loss, causes no damage to the film, and is set less pattern-dependent than usual.
ＣＤロスが小さく、膜ダメージもなく、また、パターン依存性の抑制された低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法の提供。 - 特許庁 - To provide a method capable of inhibiting damage to an uneven pattern of a matrix by forming a crack-free metal film on the uneven pattern of the matrix and capable of manufacturing a metal fine structure by transferring the metal film having the uneven pattern reflected to a support member.
母型の凹凸パターンにクラックの無い金属膜を形成し、母型の凹凸パターンの破損を抑制するとともに凹凸パターンが反映された金属膜を支持部材に転写して金属微細構造体を製造することができる方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent a short circuit with metal lines which ought not be connected by constituting a dummy pattern in a position proximate to the outline of the pattern of the wiring concentrated with a charge and inducing a charge damage by a a charge difference with the adjacent metal lines to the dummy pattern.
本発明は、チャージが集中する配線のパターン外廓と近接された位置でダミーパターンを構成して隣接されたメタルラインとのチャージディファレンスによるチャージダメージをダミーパターンへ誘導することによって連結してはならないメタルラインとの短絡を防止する。 - 特許庁 - To provide a printed substrate which resolves a peeling problem of a circuit pattern by widening an area adhered to an insulation layer, minimizes the occurrence of damage to the circuit pattern due to under cut, and realizes the fine circuit pattern, and to provide a manufacturing method of the printed substrate.
絶縁層との密着面積を広くすることにより、回路パターンの剥離問題を解決し、アンダーカットによる回路パターンの損傷発生を最小化するうえ、微細な回路パターンを実現することができるプリント基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a mask including a pattern forming process by lift-off, the method by which a film is accurately patterned while the occurrence of damage to a resist is suppressed.
リフトオフによるパターンの形成工程を含むマスクの形成方法に関し、膜を精度良くパターニングし、しかもレジストのダメージ発生を抑制すること。 - 特許庁 - To obtain a good-quality cast product by preventing the deformation and damage of a lost foam pattern at the embedding time.
埋設時における消失模型の変形や損傷を防いで良好な品質の鋳造品を得ることができる消失模型鋳造方法を提供する。 - 特許庁 - To leave no trace of adhesive on chips and to prevent cracking or damage of ultrathin chips in the process of peeling protecting sheets from circuit pattern surfaces.
チップの回路パターン面に貼付された保護シートを剥離する際に、粘着剤をチップに残すことなく、且つ、極薄チップの割れ、傷の発生も防止すること。 - 特許庁 - To provide a method for producing a cosmetic by which abrasion or damage to a male mold can be prevented and a solid cosmetic having a desired uneven pattern is readily obtained.
雄型の磨耗や損傷を防止でき、容易に所望の凹凸模様を有する固形化粧料が得られる化粧料の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method by which cleaning treatment is properly carried out to the main surface of one side of a substrate while suppressing a damage to a pattern formed on a main surface of the other side of the substrate.
基板の一方主面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板の他方主面を良好に洗浄処理する。 - 特許庁 - The physical force resulting from a cavitation phenomenon of vapor in the processing solution is relatively small, so damage is suppressed to the fine pattern.
一方、処理溶液中の水蒸気のキャビテーション現象に起因した物理力は比較的小さいため、微細パターンの損傷の発生が抑制される。 - 特許庁 - To provide a method of forming a conductive pattern of an electrode, wiring, etc. without imparting a damage to the surface of a compound semiconductor layer as much as possible.
化合物半導体層の表面にできるだけ損傷を与えることなく、電極や配線等の導電パターン形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a gate electrode pattern of a semiconductor element in which profile damage of a gate electrode is prevented for improved characteristics of the element.
ゲート電極のプロファイル損傷を防止して素子の特性向上をもたらす、半導体素子のゲート電極パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a planar antenna which is easily curved or bent to prevent damage to an antenna pattern and is superior in mass-productivity.
湾曲や折り曲げが容易で且つアンテナパターンがこれにより損傷することがなく、しかも量産性に優れた面状アンテナを提供することを提供すること。 - 特許庁 - To provide a method and a device for peeling a protective tape, preventing the pollution and damage of a circuit pattern and an electrode formed on the surface of a chip portion, after dicing.
ダイシング後のチップ部品の表面に形成された回路パターンや電極の汚染や破損を防止する保護テープ剥離方法およびその装置を提供する。 - 特許庁 - A shock protection pattern SPP for suppressing damage by the shock at the time of the cell splitting is placed near a terminal part TM of a thin film transistor substrate SUB1.
薄膜トランジスタ基板ＳＵＢ１の端子部ＴＭ近傍にセル分割時の衝撃による損傷を抑制する衝撃保護パターンＳＰＰを配置した。 - 特許庁 - To reflect a result of inspection of damage due to cleaning treatment on manufacture of a semiconductor device by providing a TEG (Test Element Group) having an easy-to-collapse pattern for a semiconductor device having a TEG for inspecting damage due to a cleaning treatment.
洗浄処理によるダメージを検査するためのＴＥＧを有する半導体装置において、倒壊しやすいパターンを有するＴＥＧを提供し、洗浄処理によるダメージ検査の結果を半導体装置の製造に反映する。 - 特許庁 - To obtain a TEG(test element group) pattern for evaluating plasma damage which can eliminate the defective blowing out of all fuses and, at the same time, can make all gates to be able to be measured under the same condition without giving any damage to the gates.
本発明は、すべてのヒューズの切断不備を解消するとともに、測定前のゲートにはほとんどダメージを与えることをなくしてすべて同一の条件下で測定ができるようになるプラズマダメージ評価用ＴＥＧパターンを得る。 - 特許庁 - To provide a circuit board that can avoid damage, shortcircuiting and earth fault of a circuit pattern due to a memory card by a simplified structure even if a through hole is made in an attachment area to form the circuit pattern.
簡略化された構成により、装着領域にスルーホールを設けて回路パターンを形成しても、メモリカードによる当該回路パターンの損傷並びに短絡及び地絡を回避することができる回路基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a film pattern forming method where a damage to a functional film in a liquid repellent treatment to a bank is settled; and to provide a semiconductor device, an electro-optical device, and an electronic apparatus, having a film pattern obtained by the method.
バンクに撥液化処理を行う際の、機能膜へのダメージを解消した膜パターンの形成方法と、これによって得られた膜パターンを備えた半導体装置、電気光学装置、及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - To improve plating property for a conductive pattern by removing glass constituent lifted on a conductive pattern on the surface of a substrate accompanying the calcination of a low-temperature calcination ceramic substrate while avoiding damage on the substrate due to chemical treatment.
化学処理による基板への損傷を回避しつつ、低温焼成セラミック基板の焼成に伴い基板表面の導体パターンに浮き出すガラス成分を除去し、該導体パターンへのめっき性を良好にする。 - 特許庁 - This net for preventing the damage caused by the birds is provided by consisting of a net body having one color without a pattern, and knitted yarns having a color for forming a pattern visually together with the color of the main body of the net and knitted on the net body.
一色無模様のネット本体と、このネット本体の色と相俟って視覚上ネット模様を形成する色彩を有し、かつ、該ネット本体に編付けられる編着糸とから成る鳥害防止用ネット。 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method for forming a resist pattern on a support by two or more patterning operations using a chemically-amplified resist composition, to reduce damage from the second patterning to the first resist pattern formed by the first patterning, and a resist composition useful for forming the first resist pattern in the resist pattern forming method.
化学増幅型レジスト組成物を用い、パターニングを２回以上行って支持体上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、２回目のパターニングが、１回目のパターニングで形成した第一のレジストパターンに与えるダメージを低減できるレジストパターン形成方法、および該レジストパターン形成方法における第一のレジストパターン形成用として有用なレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - To detect a situation that pattern density becomes abnormal because of the fault of a sensor or the like in the case of changing the density of a pattern image so as not to be influenced by damage and soiling on a transfer belt in a printer performing the registration of respective colors by writing the pattern image on the transfer belt or the like.
転写ベルト等にパターン画像を書いて各色のレジあわせを行うプリンタにおいて、ベルト上の傷や汚れの影響を受けないようにパターン画像の濃度を変更する際にセンサの故障時等でパターン濃度が異常になっていることを検出する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a compact printed wiring board by which damage such as cracking, foil flotation and peeling of a wiring pattern during blanking processing and damage such as breaking and cracking of a projection portion are reduced or eliminated, and to provide the compact printed wiring board.
打ち抜き加工における配線パターンのクラック、箔浮き、剥がれ等の損傷の発生や、突起部の折れ、割れ等の損傷の発生を軽減又は解消可能な小型プリント配線板の製造方法、及び、小型プリント配線板を提供する。 - 特許庁 - To provide a conductive composition capable of sufficiently decomposing/removing photosensitive resin without inflicting thermal damage on a substrate or a lower layer, and to provide a pattern forming method and an electro-optical device manufactured by the pattern forming method.
熱に弱い基板や下層に熱ダメージを与えることなく、感光性樹脂が十分に分解・除去される導電性組成物、パターン形成方法及び該パターン形成方法によって製造される電気光学装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a mask capable of forming a pattern without giving damage such as a scratch in forming the pattern having a predetermined shape by executing mask etching; and to accurately and easily provide a polymer organic EL emission element by using the mask.
マスクエッチングして所定形状のパターンを形成する際に、キズ等による損傷を与えることなくパターンを形成することが可能なマスク及びこのマスクを用いて高分子有機ＥＬ発光素子を高精度かつ容易に提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method and a droplet discharging device capable of avoiding positional deviation of a discharged droplet and thermal damage of a substrate and improving film thickness uniformity of a pattern made from droplets, and to provide a liquid crystal display device using liquid crystal discharged by the droplet discharging device.
吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a master carrier for magnetic transfer, which has a soft magnetic layer free from bridging even in a minute pattern and enables magnetic transfer of high transfer quality with a structure which lessens damage of a pattern edge part and secures the durability.
微細パターンであってもブリッジングのない軟磁性層を有すると共に、パターンエッジ部の破損が少なく耐久性を確保した構造で、かつ転写品質の高い磁気転写が行える磁気転写用マスター担体を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for fabricating electronic apparatus for controlling shape and thickness of fine pattern in higher accuracy with less amount of damage on a device with a simplified process.
簡単なプロセスで、かつデバイスへのダメージも少なく、微細化されたパターンの形状および膜厚を高精度に制御できる電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce the damage on an insulating film at the periphery and lower part of a short-circuit defective part, when the short-circuit defective part in a wiring pattern is removed, using a focused ion beam.
集束イオンビームを用いて配線パターンにおける短絡欠陥部を除去した場合における短絡欠陥部の周辺や下部の絶縁膜受けるダメージを低減する。 - 特許庁 - To provide a pattern correction method in which an electrode disconnection part or the like can be corrected with a fine line of around 10 μm and a damage and contamination around the defective part are small.
１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺のダメージや汚染が小さなパターン修正方法を提供する。 - 特許庁
