「damage pattern」を含む例文一覧(241)
＜前へ 1 2 3 4 5 次へ＞- To prevent a damage of pattern grooves formed on a film.
本発明はペースト充填方法とそれを用いたペースト充填装置に関するものであって、フィルムに形成されたパターン溝の損傷を防止することを目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a process simulation method by which the damage given by charged particles can be detected and evaluated efficiently at the time of manufacturing a semiconductor device and a guide can be given to pattern designs.
半導体装置製造時の荷電粒子によるダメージが効率よく検出・評価でき、パターン設計に指針を与えることができるプロセスシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a cleaning device which can prevent unnecessary damage to a substrate and the circuit pattern collapse while removing foreign matter in a specific place, in cleaning processing.
洗浄処理において、基板への不必要なダメージや回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる洗浄装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - At this time, more accurate patterning can be performed, because the end section 17T of a first thin film pattern 17 protected by the soluble layer 2 does not cause mold damage.
この際、可溶層２によって保護される第１の薄膜パターン１７の端部１７Ｔが型くずれを生じないので、より正確なパターニングをおこなうことができる。 - 特許庁 - To provide a defect correction method capable of correcting easily a micro pattern omission defective part, without imparting a damage in the vicinity of the defective part and without generating contamination.
欠陥部の近傍にダメージを与えたり、汚染することなく、微細なパターン抜け欠陥部を容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a color filter, by which a pattern suppressed in residual film after development can be formed by a dry etching process and the color filter almost free from damage and having good surface state can be manufactured.
ドライエッチング法を利用して現像残膜を抑えたパターン形成を可能とし、ダメージが抑えられ表面性状の良好なカラーフィルタを提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor memory element capable of preventing damage of etching by protecting a tunnel insulating film exposed upon a gate pattern etching process.
ゲートパターンエッチング工程の際に露出するトンネル絶縁膜を保護してエッチング損傷を防止することが可能な半導体メモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent damage to an oxide film for an storage electrode and a bridge phenomenon between contacts by using a hard mask layer pattern and increasing the surface area of a storage electrode region.
ハードマスク層パターンを利用して格納電極領域の表面積を増加させ、格納電極用の酸化膜の損傷、及びコンタクト間のブリッジ現象を防止する。 - 特許庁 - To reduce damage to a photosensitive sheet and a support thereof in a step of developing the photosensitive sheet, and to obtain a molded object with a uniform pattern in the sheet.
感光性シートの現像工程において、感光性シートおよびその支持体のダメージを軽減し、かつシート内のパターンが均一な成形体を得ることを課題とする。 - 特許庁 - Alternatively, in a case that the input inspection condition is made preferential to perform inspection, a pattern having the possibility of causing damage is searched to set and display a non-inspection region.
あるいは、入力した検査条件を優先させて検査する場合は、ダメージが生じる可能性のあるパターンを検索し、非検査領域に設定し、表示する。 - 特許庁 - To provide a shape monitoring apparatus for monitoring, within a short period of time, a shape of sample having fine pattern such as a semiconductor device with less amount of damage applied to the sample.
半導体装置のような微細なパターンを有する試料の形状を短時間で観察でき、試料に与えるダメージが小さい形状観察装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a molding imprint method capable of stably forming a pattern having a microstructure of a nano order on a substrate with less damage to a mold.
金型を傷めることが少なくナノオーダーの微細な構造のパターンを基材上に安定して形成することができる注型インプリント法を提供することを目的としている。 - 特許庁 - The plasma damage evaluating wafer has a plurality of element forming parts, disposed in a squares pattern on a surface; and one or a plurality of evaluation patterns in the element forming parts.
プラズマダメージ評価ウェハは、表面に碁盤目状に配置された複数の素子形成区画と、上記素子形成区画に１ないし複数の評価パターンを有する。 - 特許庁 - To provide lithography apparatus in which possibility of damage is reduced in the case that a support structure of a substrate and/or a device having a pattern formed thereon are/is collided with an edge of a support surface.
基板の支持構造および／またはパターン形成デバイスが支持面の縁部に衝突した場合の損傷の危険を低減したリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁 - In the method for evaluating the creep damage of annealed martensite steel, it is evaluated that the life of the annealed martensite steel becomes short as the pattern quality of an electron beam back scattering image becomes high.
焼戻しマルテンサイト鋼のクリープ損傷評価法として、電子線後方散乱像のパターンクオリティが高くなるほど寿命が短いと評価することを特徴とする。 - 特許庁 - The first two-fluid nozzle 9 delivers a nitrogen gas at a small flow rate, so that processing to prevent damage on a pattern can be executed for a wafer W.
第１二流体ノズル９からは小流量で窒素ガスが吐出されるようになっており、パターンへのダメージを抑制した処理をウエハＷに施すことができる。 - 特許庁 - The mold film 118 is selectively removed while preventing a lower structure of the mold film 118 from suffering damage by the photoresist pattern 124a.
前記モールド膜１１８の下部の構造物が損傷されることを前記フォトレジストパターン１２４ａによって阻止しながら、前記モールド膜１１８を選択的に除去する。 - 特許庁 - Accordingly, the upper molding die 6 is not brought into contact with a projecting shape, a stress concentration to the wiring pattern 1a is equalized and the damage of the wiring board can be prevented.
これにより、上部モールド金型６は凸形状部には接触せず配線パターン１ａへの応力集中が均一化されて配線基板の破損を防止できる。 - 特許庁 - To provide a process for fabricating an electronic device in which the profile and the film thickness of a micro pattern can be controlled with high precision through a simple process while suppressing damage on the device.
簡単なプロセスで、かつデバイスへのダメージも少なく、微細化されたパターンの形状および膜厚を高精度に制御できる電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, a silicon containing substance existing along an edge of the gate pattern is selectively oxidized while suppressing the oxidation of the metal layer included in the metal gate pattern to satisfactorily cure the etching damage and simultaneously prevent punch-through in the gate insulating layer.
これにより、金属ゲートパターンに含まれた金属層の酸化を抑制しつつ、ゲートパターンのエッジにあるシリコン含有物質を選択的に酸化させてエッチングダメージを良好にキュアリングできると同時にゲート絶縁層のパンチスルーを防止できる。 - 特許庁 - Or else, both end parts of the narrow wiring pattern 43 are used in common with an electric component leg connecting portion of the electric circuit board 2, thereby only the narrow wiring pattern 43 is fused, thus preventing burnout of the other electric components and damage of the other portions.
あるいは、前記細い配線パターン４３の両端の部分を電気回路基板２の電気部品の脚接続部分と共用することにより細い配線パターン４３のみを溶断し、他の電気部品の焼損や他部の損傷を防止する。 - 特許庁 - To provide a functional film pattern forming method in which thermal damage to a substrate is suppressed by attaining reduction of the amount of radiation energy of an electromagnetic wave and equipment of a required light source is made small in size, and to provide a functional film pattern, and electronic equipment.
電磁波の照射エネルギー量の低減を図り、基板に与える熱のダメージを抑制することができ、必要な光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン成膜方法、機能性膜パターン、および電子機器を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method by which positional deviation of a discharged liquid drop and thermal damage of a substrate are avoided and film thickness uniformity of a pattern comprising a liquid body having high viscosity is enhanced, to provide a liquid drop discharging device and to provide a liquid crystal display device.
吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避して、高い粘度の液状体からなるパターンの膜厚均一性を向上させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - Since a soluble layer 2 which continuously covers the circumference of a two-layer resist pattern 5 and the whole body of a first thin film 17Z in an area other than the area covered by the two-layer resist pattern 5 is formed, the mold damage of the resist pattern 5 can be suppressed at the time of performing dry etching and the depositing amount of redeposits 9 can also be reduced.
２層レジストパターン５の周囲と、この２層レジストパターン５によって覆われた領域以外の領域における第１の薄膜１７Ｚとの全体を連続的に覆う可溶層２を形成するので、ドライエッチング時に２層レジストパターン５の型くずれを抑制でき、再付着物９の付着量も低減できる。 - 特許庁 - Then, after the metal gate substance layer is etched to form a metal gate pattern, a capping layer is formed on the metal gate pattern, and a selective oxidation process is performed for selectively oxidizing a substance containing silicon while suppressing oxidation of the metal layer included in the metal gate pattern in order to cure any damage occurring upon etching for forming the metal gate pattern.
次いで、前記金属ゲート物質層をエッチングして金属ゲートパターンを形成した後、前記金属ゲートパターン上にキャッピング層を形成し、前記金属ゲートパターンを形成するためのエッチング時に発生したダメージをキュアリングするために前記金属ゲートパターンに含まれた前記金属層の酸化を抑制しつつ、シリコンを含有した物質を選択的に酸化させる選択的酸化工程を行う。 - 特許庁 - This device for eliminating the damage caused by the birds and animals is equipped with a light-emitting part 1 having a blinking light source 3, a photography 9 of a human face and an emblem part 2 having a figure or pattern.
本発明の鳥獣害防除装置は、点滅する光源３を有する発光部１と、人物の顔写真９、図形または模様を有する標章部２とを具備している。 - 特許庁 - To provide a production apparatus which, in producing a figured glass having a figured pattern on its one side and a smooth surface on the other side, does not damage the smoothness of the smooth surface.
片面に型板模様を有し、もう一方の面は平滑である型板ガラスの製造おいて、平滑面の平滑性を損なわない型板ガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium by which a projecting defect on a substrate surface is reduced and obstruction of pattern formation of a magnetic recording layer and damage of a stamper is prevented.
基体表面の凸状欠陥を低減し、磁気記録層のパターン形成の阻害、およびスタンパの損傷を防ぐことが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus capable of cleaning the surface of a substrate well while minimizing damage on a pattern formed on the surface of the substrate.
基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing apparatus that checks and stocks a mask without conveying it out of the apparatus, whereby contamination and damage of the mask accompanying its conveyance can be prevented.
マスクを装置の外部に搬送することなく検査及び収納し、それにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を防止することができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁 - To strongly and evenly bond a pattern sheet to an inorganic base material while preventing an ink receiving layer and an adhesive layer from receiving thermal damage.
本発明は、インク受容層及び接着剤層が熱によるダメージを受けるのを防止しつつ、無機質の基材上に模様シートを強固かつ均等に結合させることを目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which has little possibilities that a lift-off piece would damage a metal pattern layer when manufacturing the semiconductor device by a lift-off method.
リフトオフ法を用いて半導体装置を製造するときにリフトオフ片により金属パターン層に傷をつける可能性が小さい該半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a dry etching method whereby a wiring pattern can be formed with ensuring a sufficient remaining quantity of resist, without giving damage to a base in manufacturing a semiconductor device.
半導体装置の製造において、下地にダメージを与えずに、十分なレジスト残量を確保しながら配線パターンを形成することができるドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce noise due to a circuit pattern for performing highly sensitive detection of foreign matter or a defect causing real damage on a test object having a transparent film such as an oxidation film.
酸化膜などの透明膜が存在する被検査対象に対して、回路パターンに起因するノイズを低減させることで、実害になる異物又は欠陥を高感度に検出可能とする。 - 特許庁 - A surface temperature distribution of the photographed investigation objective portion 21 is analyzed, and a damaged state of the actual investigation objective portion 21 is judged based on a corresponding damage pattern.
そして、撮影した調査対象部位２１の表面温度分布が解析され、対応する損傷パターンにより実際の調査対象部位２１の損傷状態が判断される。 - 特許庁 - The reduction of a pattern damage and an improvement in a transfer speed is made to coexist because the peel force efficiently works successively from a periphery to a center as the peeling progresses.
また、剥離が進行するにつれて剥離力は周囲から中心へと順次効率よく働いていくため、パターン破損の減少と転写スピードの向上の両立を図る事が出来る。 - 特許庁 - To provide a composition for peeling a photo-resist capable of reusing without the reduction of an essential peeling capability or a damage of a metallic pattern and capable of reducing an expense in a photoetching process.
実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a printed wiring board which allows easy formation of an upper face pattern and prevents the damage of a bottom section at the time of making a blind via hole by laser and also provide a printed wiring board manufactured by such a method.
上面パターンの形成が容易で，レーザによるブラインドビアホール開口時の底部の損傷を抑制することができる，プリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method which can remove contaminants adhering to a substrate while preventing the generation of damage such as collapse of finer pattern.
微細化の進んだパターンの倒壊のようなダメージの発生を防いで、基板に付着した汚染物質を除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which a pattern consisting of a silicone nitride film beyond capability of lithography can be formed by a small heat budget, and without causing plasma damage.
小さな熱バジェットで、かつプラズマダメージを招くことなく、リソグラフィの能力を超えたシリコン窒化膜からなるパターンを形成することができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - A metal film pattern 3 comprising an Ni film, as a damage preventing layer, having a thickness 10 μm is so formed on a semiconductor substrate 1 as to cover a PN junction diode 2.
半導体基板１上に、ＰＮ接合ダイオード２を覆うように、１０μｍの厚さを有するＮｉ膜からなる損傷防止層としての金属膜パターン３を形成する。 - 特許庁 - To provide an electroless plating method which inhibits gold from abnormally depositing between wiring patterns in electroless plating, and consequently does not damage a desired wiring pattern.
無電解めっき時に配線パターン間に発生する金の異常析出を抑制し、所望の配線パターンに損傷を与えない無電解めっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To prevent damage on an antenna and prevent a bedside doctor or a patient from being injured by strengthening the entire heating pattern of the antenna by cooling the cautery probe of a microwave apparatus.
マイクロ波装置の焼灼プローブを冷却することによって、アンテナの全体的な加熱パターンを強化し、アンテナの損傷を防止し、臨床医または患者に対する危害を防止する。 - 特許庁 - To provide a vacuum chuck wherein the fallout of a work caused by the vacuum break of the whole of its sucking pattern is prevented and failure caused by the damage of the work or by the positional discrepancy of the held work can be eliminated.
吸着パターン全体の真空破壊によるワークの脱落を防止し、ワークの破損や保持位置のずれによる不良をなくすことができる真空チャックを提供する。 - 特許庁 - To perform highly accurate processing in which punch-through of resist and striation due to resist damage are suppressed, in pattern formation by dry etching using a resist after the generation of ArF lithography as a mask.
ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成において、レジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁 - To provide a multi-layered printed wiring board which solves the problem that a copper wiring pattern is given large damage in a final soft etching process and inter-line insulation reliability is low since a base copper layer between copper wiring pattern which becomes unnecessary can not be completely removed.
最後のソフトエッチング工程では銅配線パターンに強いダメージを与え、しかも銅配線パターン間の不要となった下地銅層を完全に除去できず、線間絶縁信頼性が低かったという問題を解決多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for correcting a defect of a color filter minimizing damage to a periphery of a defect to be removed when the defect of a VA pattern and a PS pattern on coloring a pixel is removed by a laser beam in a color filter used for a color liquid crystal display device.
カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおいて、着色画素上のＶＡパターンやＰＳパターンの欠陥をレーザ光で除去する際に、除去すべき欠陥の周辺に対してダメージを最小にする欠陥の修正方法を提供すること。 - 特許庁 - To avoid the risk that a heater electrode pattern of a thin film wrinkles, cracks, peels, etc., by forming the heater electrode pattern on a polymer optical waveguide in excellent contact and minimizing surface damage that the polymer optical waveguide has in an electrode forming process.
ポリマー光導波路上に薄膜のヒータ電極パターンを密着性よく形成し、しかも、電極形成プロセスでポリマー光導波路が受ける表面ダメージを最小限に抑えることで、ヒータ電極パターンにシワやクラック、剥離等が発生する危険性を未然に回避する。 - 特許庁 - Also, because the end edge part 1a of the TFT array substrate 1 is not directly in contact with the circuit pattern 6 of the TCP 4, the end edge part 1a of the substrate is not scratched, and the damage and the disconnection of the circuit pattern 6 of the TCP 4 produced by stress in folding the TCP 4 is prevented.
また、ＴＦＴアレイ基板１の端縁部１ａがＴＣＰ４の回路パターン6に直接触れないため、基板端縁部１ａで傷を付けられることも無く、ＴＣＰ４を折り曲げる際の応力により発生するＴＣＰ４の回路パターン６の損傷や断線を防止することができる。 - 特許庁 - To provide a game machine that stops shooting game balls not to damage players in the specific situation, in the machine that has a pattern indication part showing plural patterns one after another.
本発明は、複数の図柄を変動表示する図柄表示部を有する遊技機における、特定状態になったとき、遊技者に不利益にならないように遊技球の発射を停止するものである。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
