「damage pattern」を含む例文一覧(241)
＜前へ 1 2 3 4 5 次へ＞- Even when the illuminance of the depiction in the region is assumed to exceed the maximum allowable illuminance EMP permitted to be directed to human eyes, no damage is caused by the beam to the pedestrians, and the visibility of the pattern in the region is increased.
かかる構成においては、制動操舵回避不可能領域に照射されるレーザビームにより歩行者にダメージを与えることはなく、また、その領域におけるレーザパターンの視認性が向上する。 - 特許庁 - To provide a liquid drop discharge device which avoids the mispositioning of a discharged liquid drop and thermal damage of a substrate and improves the uniformity of a film pattern consisting of liquid drops, and a liquid crystal display device.
吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避するとともに、液滴からなる膜パターンの均一性を向上させた液滴吐出装置及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for plasma treatment for a work piece in which an electric damage to a semiconductor element such as a MOS transistor contained in a circuit pattern of a wafer caused during plasma treatment is reduced.
ウェハの回路パターンに含まれるＭＯＳトランジスタなどの半導体素子がプラズマ処理中に受ける電気的ダメージを軽減できるワークのプラズマ処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method for protecting the surface of a building material in place of a coating film which allows the pattern/unevenness of the building material to stand out in relief or to pass through and protects the surface from inundation, stains, and damage.
建材の持つ模様・凹凸を略そのまま浮き彫り／又は透過する共に、その表面を浸水・汚れ・損傷から保護する、塗膜の代わる建材の表面保護方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a lighting nameplate stand for flower arrangement that generates little heat, reduces a damage to flower, illuminates a nameplate uniformly, conserves energy, reduces cost, and may be used with an existing nameplate with wood-grain pattern.
名札を均一に照明でき、発熱が少なく、花が傷みにくく、省エネで、コスト削減もでき、既存の木目模様の名札をも使用可能な生花用照明式名札立てを提供する。 - 特許庁 - To provide a loading structure capable of preventing the generation of a small crack, damage, glaze, or the like on the surface of a ceramic building material even if the ceramic building material has a coating and/or an uneven pattern on its surface.
表面に塗膜及び／又は凹凸模様を有する窯業系建材であっても、表面に微小な亀裂、破損、光沢などを発生させることがない積載構造を提供する。 - 特許庁 - To provide a printing plate which is used for transferring and printing an aligning material onto a substrate for a liquid crystal element and wherein the physical damage of a pattern edge part generated when printing is performed is lessened.
配向材を液晶素子用基板に転写印刷するのに用いられる印刷版であって、印刷時におけるパターンエッジ部の物理的な損傷を少なくした印刷版を提供する。 - 特許庁 - To provide a laser beam machining device in which a damage or the like is not given to the surface of a work and a laser irradiation is realized where an image is formed on the surface of the work when a pattern is copied.
被加工物の表面に損傷等を与えることがなく、かつ、パターン転写を行った場合に被加工物の表面で結像可能なレーザ照射を実現できるレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁 - To perform high-precision processing by suppressing pitting or striation due to resist damage when the pattern is formed by a dry etching method using a resist film of the post ArF lithography generation or the subsequent as a mask.
ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成においてレジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁 - To acquire an SEM image of a high resolution while suppressing damage to a sample caused by electron beam irradiation accompanied by SEM imaging, regarding the acquisition of an image of a semiconductor pattern using SEM.
ＳＥＭを用いた半導体パターンの画像の取得に関して、ＳＥＭの撮像に伴う電子線照射による試料へのダメージを抑えつつ、高分解能なＳＥＭ画像を取得することである。 - 特許庁 - To provide an irradiation apparatus capable of preventing damage on a circuit pattern and a circuit component and facilitating a fastening operation when fixing a terminal of a lamp to a circuit board.
本発明の課題は、ランプの端子を制御基板に固定する際に回路パターンや回路部品への損傷を防止できると共に締め付け操作がし易い照射装置を提供することである。 - 特許庁 - The interlayer insulation film between the electric field impressing fuse Fa and the laser fuse Fb incorporates the layout of a passivation film 24b to prevent laser damage due to pattern formation from the first layer metal wiring.
電界印加フューズＦａとレーザフューズＦｂの間の層間絶縁膜中には第１層メタル配線層を用いてパターン形成されたレーザダメージを防止するための保護膜２４ｂが配置される。 - 特許庁 - To provide a tape wiring substrate and a semiconductor device using the substrate which so disperses the stresses acting on its bending portion as to suppress the damage to an output wiring pattern positioned in its flexure.
屈曲部に作用するストレスを分散させて、屈曲部に位置する出力配線パターンが損傷されることを抑制するテープ配線基板及びそれを用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁 - A circuit or the like for diagnosing the trouble is not required thereby to be arranged in a sensor element 2, a size therefor is reduced, and the damage in a wiring pattern 9, the wiring 22 or the like is surely detected thereby.
これにより、センサ素子２に故障診断用の回路等を配置する必要がなくなり、これを小型化できると共に、配線パターン９、配線２２等の損傷を確実に検出することができる。 - 特許庁 - Consequently, without conveying the mask M out of the pattern drawing apparatus 1, it can be checked, cleaned, and stocked, thereby the contamination and damage of the mask M caused by the conveyance can be prevented.
このため、マスクＭをパターン描画装置１の外部に搬送することなく検査、洗浄、および収納することができ、これにより、搬送に伴うマスクＭの汚れや損傷を防止することができる。 - 特許庁 - To provide a repairing method for repairing flaw or damage caused to the coating film of the external wall after completion of a dwelling house, by transferring a solvent active type transfer mark previously printed in the same pattern as that of the external wall onto the external wall on which the flaw or damage is caused.
住宅の建築完了後において、外壁の塗装膜に傷や損傷が発生した際に、この傷や損傷を補修する方法であって、予め外壁模様と同一の模様に印刷された溶剤活性型転写マークを、傷や損傷が発生した外壁面に転写することにより補修する方法を提供する。 - 特許庁 - To take measurements with high precision and low damage that have been hardly taken so far in a method of measuring a pattern size in an observation area on a sample with an incident electron beam.
入射電子線により試料上の観察領域内のパターン寸法を計測する方法において、これまで実現困難であった高精度でかつ低ダメージの計測を可能とするパターン寸法計測技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device having a connection structure for preventing damage to a wiring pattern disposed on a TAB tape such as a COF (Chip On Film) tape carrier without damaging the flexibility.
ＣＯＦテープキャリアのようなＴＡＢテープの可撓性を損なうことなく、そのＴＡＢテープ上に設けられている配線パターンの損傷を防ぐことを可能とする接続構造を備えた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a printed circuit board which is capable of easily reducing electrostatic damage occurring in electronic parts which are mounted on a printed circuit board, in a manufacturing process without providing an additional part or pattern.
特に部品追加やパターン追加などを伴わず、簡単に、プリント配線基板に実装されている電子部品の製造過程における静電気破損を低減させることができるプリント配線基板を提供する。 - 特許庁 - Since the surface Wf of a substrate W is cleaned after the pattern is reinforced and damage is prevented, cost is reduced and the time required for processing can be shortened when compared with a case where a separate freezing means is provided.
これにより、パターンを補強してダメージを防止した上で基板表面Ｗｆの洗浄を行い、別途凍結の手段を設ける場合に比べてコストを低減し、処理に要する時間を短縮する。 - 特許庁 - To provide a high quality halftone mask which can reduce the loads of a production process with reduced cost and causes no damage to a pattern, and to provide a manufacturing method for the halftone mask and a halftone mask blank used therefor.
ハーフトーンマスクにおいて製造工程の負荷を減らしてコストダウンが図れ、かつパターンにダメージがない高品質なハーフトーンマスクおよびその製造方法、さらにこれに用いるハーフトーンマスクブランクスを提供すること。 - 特許庁 - To provide a method capable of manufacturing a substrate with a conductive pattern formed in a high resolution suppressed in contamination, having a thickness not smaller than a micrometer, suppressed in damage, and low in resistance.
基板の汚染が少なく、マイクロメートル以上の厚みを有し、損傷が少なく低抵抗な導電性パターンが高解像度に形成された導電性パターン付き基板を製造可能な製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an image reading apparatus having high protection performance to external pressure applied to a photosensor array, and capable of satisfactorily reading an image pattern of an object while preventing damage to an insulating substrate.
フォトセンサアレイに印加される外圧に対して高い保護性能を有し、フォトセンサや配線、絶縁性基板の損傷を防止しつつ、被写体の画像パターンを良好に読み取ることができる画像読取装置を提供する。 - 特許庁 - To obtain a CMOS image sensor which can suppress fixed pattern noise(FPN) by eliminating etching damage generated in a surface of a semiconductor substrate forming a photodiode during a full-scale E/B, and its manufacturing method.
全面Ｅ／Ｂの時にフォトダイオードを形成する半導体基板の表面に生じるエッチングダメージを無くして固定パターンノイズ（ＦＰＮ）を抑制することのできるＣＭＯＳイメージセンサ及びその製造方法を得る。 - 特許庁 - To provide a method for recovering damage of a low dielectric constant insulating film, the method sufficiently recovering electrical characteristics of the low dielectric constant insulating film itself while suppressing oxidation of buried metal and generation of pattern defaults.
埋め込まれた金属の酸化、及びパターン欠損の発生を抑制しつつ、低誘電率絶縁膜自体の電気的特性を十分に回復できる低誘電率絶縁膜のダメージ回復方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a printing plate which enables the accurate formation of a pattern having a large film thickness on the surface of a substrate by causing no damage or pollution of the substrate, and to provide the printing plate.
基板に損傷や汚染を生ずることなく、基板の表面に膜厚の厚いパターンを正確に形成することが可能な印刷版の製造方法および印刷版を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a printed wiring board which is capable of removing the disused part of a base layer as it makes the best use of a semi-additive method when soft etching is carried out and reducing damage to a wiring pattern to an irreducible minimum at the same time.
セミアディティブ法を生かしながら、ソフトエッチングする時に下地層の不要な部分を除去すると同時に配線パターンにダメージを最小限に止めるプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Since the substrate 5 can be subjected to cleaning processing locally using the processing fluid from the processing fluid nozzle 7, unnecessary damage to the substrate 5 and the circuit pattern collapse are prevented while removing foreign matter in a specific place.
基板５を処理流体ノズル７からの処理流体により局所的に洗浄処理することができるため、基板５に対して不必要なダメージ、回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる。 - 特許庁 - To provide a coating apparatus which can prevent the damage to a pattern etc. formed on a substrate, such as electrostatic breakdown, from causing by preventing the substrate from being charged when coating liquid is applied thereon.
塗布液の塗布時における基板の帯電を防止することにより、基板上に形成されたパターン等に対して静電破壊等の損傷が生ずることを未然に防止することが可能な塗布装置を提供する。 - 特許庁 - In the apparatus, whether or not an error detection is made by compensation pattern detecting means 60 and 61 due to a damage or soiling on a second image carrier 31 where the specified compensation pattern image to detect color deviation is determined by whether a value of the detected data is within an allowable range or not by an error detection decision means.
色ずれを検出するための所定の補正パターン画像が形成される第二の像担持体３１上の傷や汚れなどにより補正パターン検知手段６０、６１が誤検知したか否かを、検知データの値が所定の許容範囲内であるか否かを誤検知判別手段で判別する。 - 特許庁 - When the chip parts 5 are mounted and then external force is applied along the division line 3 to separate each circuit board 2, the notch part 7 disperses the external force, and prevents damage of the chip parts 5 mounted on the corresponding mounting pattern part 6.
チップ部品５を実装後、分割線３に沿って外力を加え各回路基板２を切り離す時、切欠部７は該外力を分散して、対応する実装用パタン部６に取り付けられたチップ部品５の破損を防止する。 - 特許庁 - To provide a steel sheet having a hot dip plated layer to which a convexo-concave pattern is formed by a hot rolling process, in which damage of the plated layer is suppressed to maintain the corrosion resistance of the hot dip plated steel sheet, so that deterioration of the appearance of the steel sheet is suppressed.
溶融めっき層を有する鋼板に圧延法により凹凸模様を形成するに当たって、めっき層の損傷を抑制し、溶融めっき鋼板の耐食性を維持して外観の劣化を抑制した鋼板を得る。 - 特許庁 - Thus, a pulse pattern of compression/decompression can be applied to each patient at each different step of treatment, and it herewith conduces the improvement of treatment efficiency in association with the optimization of blood flow and avoidance of the damage inside of the body.
このようにして、圧迫／減圧のパルスパターンを治療の異なる段階で個々の患者に適応させることができ、これにより、血流の最適化と身体内部損傷の回避の両方に関する治療効果の改善が導かれる。 - 特許庁 - Thus, the abnormal discharge in ion implantation and the damage or the like of the resist pattern on the wafer by falling are reduced.
本発明においては、レジストからのアウト・ガス成分が沈着しない程度に、加速電極を加熱しながらイオン注入を実行するので、イオン注入の際の異常放電や脱落遺物によるウエハ上レジストパターンの損傷等を低減することができる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit card that eliminates the risk of damage to a semiconductor integrated circuit chip device and disconnection of electrodes from a circuit pattern on a board, and facilitates quality and yield control.
半導体集積回路チップ装置が破損したり、その電極の基板の回路パターンに対する接続が外れたりするおそれがなく、しかも、品質や歩留りの制御の容易な半導体集積回路カードの製造方法を提案する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device which suppresses the occurrence of display deficiency due to damage to a wiring pattern of a driver circuit in a cell splitting process, and can display an image with good quality by realizing intra-plane equalization of a cell gap.
セル分割工程でのドライバ回路の配線パターンの損傷による表示欠陥の発生を抑制し、またセルギャップの面内均一化を達成して品質の良好な画像表示を可能とした液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a soft elastomer mosaic tile having a soft touch at contact, causing no damage, freely stickable to and separable from an optional place a number of times, and allowing the change of a design and a pattern a number of times.
接触時の感触が柔らかく、破損することがなく、かつ任意の場所に自由に何度も貼着及び剥離ができ、デザインや模様、図柄など何度も変更することができる軟質エラストマー製モザイクタイルを提供する。 - 特許庁 - Mounting surfaces for a (p) electrode 24 and an (n) electrode 25 of an LED element 2 are mounted on a circuit pattern 4 substantially on the same plane, so glass with high viscosity never moves around to between the LED element 2 and circuit pattern 4 to prevent a decrease in electric connectivity and cracking due to damage to an electrode due to movement of the glass to the electrode.
ＬＥＤ素子２のｐ電極２４およびｎ電極２５の実装面が回路パターン４に対して略同一面化するようにマウントされるので、ＬＥＤ素子２と回路パターン４との間に高粘度のガラスが回り込むことがなく、ガラスの回り込みによる電極へのダメージに基づく電気接続性の低下やクラックの発生を防ぐことができる。 - 特許庁 - To provide a paint roller capable of repeatedly reutilizing a roller body by removing a surface material from the roller body and replacing it with a new surface material when contamination, damage and consumption of the surface material are generated and forming a sufficient coating surface, and a pattern roller capable of optionally changing a coating pattern by the paint roller.
表面材の汚れ、破損、消耗が生じたときに、表面材をローラー本体から取り外して、新しい表面材に付け替えることによってローラー本体を繰り返して再利用でき且つ良好な塗装面を形成することのできるペイントローラー、およびペイントローラーによる塗装パターンを任意に変更することのできるパターンローラーの提供。 - 特許庁 - Then, projecting data of the original image component are processed by low-order continuous function approximation or a low-pass characteristic and only the joint pattern component is excellently separated so that the linear joint pattern is erased by suppressing the damage of original image information itself to the min.
次にこのつなぎ目パターン成分を多く含むと思われる成分中から、本来の画像成分の投影データを低次の連続関数近似又は低域通過特性により処理して、つなぎ目パターン成分のみを良好に分離することで、本来の画像情報そのものの損傷を最小限に抑えて、線状のつなぎ目パターンを消去する。 - 特許庁 - To provide a laser radiating device capable of transferring an organic film layer pattern when forming it by using LITI (laser induced thermal imaging), capable of reducing damage to the organic film layer, and capable of enhancing the quality of the transferred organic film layer pattern, a patterning method, and a manufacturing method of an electroluminescent element using the patterning method.
本発明は，ＬＩＴＩを用いて有機膜層パターンを形成する時，低い強度を有するレーザーで転写が可能であって，有機膜層の損傷を減らすことができ，転写される有機膜層パターンの質も向上させることができるレーザー照射装置，パターニング方法，およびパターニング方法を用いる有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for releasing a flexible film from a reinforcing plate without incurring position deviation or disconnection of a circuit pattern, break of a bonding pad with an electronic component, damage of the electronic component, and the like in a circuit board member wherein the high-accuracy circuit pattern is formed by sticking the flexible film through an organic layer to the reinforcing plate and maintaining dimension accuracy.
可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせ、寸法精度を維持することで、高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材を、回路パターンの位置ずれや断線、電子部品との接合パッド部の破断や電子部品の破損を起こすことなく、可撓性フイルムを補強板から剥離する方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, electrostatic charges generated in manufacturing or use and accumulated in the laminated film pattern 12A, the magnetic layer 18, the lower shield layer 10 and the upper shield layer 8, etc. are gradually discharged and as a result, the ESD damage is suppressed.
これにより、製造時や使用時に発生して積層膜パターン１２Ａや磁極層１８、下部シールド層１０、上部シールド層８などに蓄積された静電荷を徐々に放出させることができ、結果としてＥＳＤ破壊を抑制することができる。 - 特許庁 - Since almost all of difference in potential between an upper electrode 2 and the lower electrode 3 is borne by the dielectric body 42, an electric damage to a semiconductor element containing element capacity such as a MOS transistor contained in the circuit pattern is reduced that much.
上部電極部２と下部電極部３の間の電位差のかなりの部分は誘電体４２に負担されるので、回路パターンに含まれるＭＯＳトランジスタなどの素子容量を有する半導体素子が受ける電気的ダメージはそれだけ軽減される。 - 特許庁 - When a resist pattern 10 and an organic antireflective film 9 are removed by ashing processing, damage is suppressed by using gas of only water or mixed gas containing water as ashing gas even if a portion of the interwire insulating film 4 is exposed.
レジストパターン１０及び有機反射防止膜９をアッシング処理して除去する際に、配線間絶縁膜４の一部が露出していても、水の単独ガス又は水を含有する混合ガスをアッシングガスとして用いることでダメージを抑止する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a recess gate of a semiconductor element, capable of preventing damage of an active region, even if a loss of a field oxide film below a path gate and overlay misalignment occur between the active region and a recess pattern in forming the recess gate.
リセスゲート形成時にパスゲートの下のフィールド酸化膜の損失及び、活性領域とリセスパターンとのオーバーレイミスアライメントが発生しても、活性領域の損傷を防止できる半導体素子のリセスゲートの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To machine efficiently in a short time even if an abrasive of small particle size is used when drilling a hole in a machining substrate and performing sand blast machining such as pattern engraving and dicing and suppress the generation of static electricity to reduce the damage to the substrate by static electricity.
加工基板に穴あけ、パターン彫刻、ダイシング等のサンドブラスト加工を行うさいに粒径の細かい研磨材を使用しても短時間に効率よく加工でき、静電気の発生を押さえて静電気による基板の損傷を減少させる。 - 特許庁 - To provide a method which forms a pattern on structure of ferroelectric or noble metal by microfabrication without giving damage.
従来法でのエッチングが困難であった強誘電体または貴金属などの物質への微細加工を容易にし、かつ、強誘電体または貴金属にダメージを与えずに、強誘電体または貴金属の構造体へパターンを形成できる方法を提供する - 特許庁 - To provide a photomask without generating the problem due to static electricity in inspection by SEM and a correction process by FIB by avoiding the damage of a pattern due to static electricity or the like, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device using the photomask.
静電気等によるパターンの破損を回避できるとともに、ＳＥＭによる検査やＦＩＢによる修正プロセスで静電気による問題が発生することがないフォトマスク及びそのフォトマスクを使用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a technique for feeding back damage distribution computation owing to ion radiation in a real pattern and process such as 100 nm scale to the process development of a device within realistic computation time such as several hours or several days.
本発明は、１００ｎｍスケールという実パターンおよび実プロセスにおけるイオン照射によるダメージ分布計算を数時間、数日間といった現実的な計算時間内でデバイスのプロセス開発にフィードバックする手法を提供することを可能にする。 - 特許庁
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