「developing solution」を含む例文一覧(1221)
＜前へ 1 2 .... 14 15 16 17 18 19 20 21 22 .... 24 25 次へ＞- The resist composition for liquid immersion exposure contains: (A) a resin the solubility of which with an alkali developing solution increases by the effect of an acid; (B) a photoacid generating agent; and (C) a mixture solvent containing at least one kind selected from the following solvent group α and at least one kind selected from the following solvent group β.
（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 （Ｂ）光酸発生剤 （Ｃ）下記溶媒α群から選択される少なくとも１種と下記溶剤β群から選択される少なくとも１種を含有する混合溶剤。 - 特許庁 - After photosensitive conducting paste 2 has been spread on the substrate 1 and exposed to light, a developing solution 33 is jetted from a nozzle 32 with a spray pressure of 1.0-1.5 kgf/cm2, while the substrate 1 is rotated at a constant number of revolutions in a rage of 200-500 rpm, and development is performed.
基板１上に感光性導電ペースト２を塗布、露光した後、基板１を２００〜５００ｒｐｍの範囲内で一定の回転数で回転させながら、ノズル３２から現像液３３を１．０〜１．５ｋｇｆ／ｃｍ^2のスプレー圧で噴射して現像する。 - 特許庁 - The present invention relates to an acid generator comprising a compound expressed by the general formula (b1), and a resist composition comprises: a base component whose solubility in an alkali developing solution changes by an action of acid; and the acid generator component generating acid by light exposure that is a compound expressed by the formula (b1).
一般式（ｂ１）で表される化合物；該酸発生剤；酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分及び露光により酸を発生する酸発生剤成分が一般式（ｂ１）で表される化合物であるレジスト組成物。 - 特許庁 - A photosensitive planographic printing plate with a photosensitive layer comprising a photosensitive composition on the surface of the substrate is prepared and the photosensitive layer is imagewise exposed, developed with an alkali developing solution and washed with washing water containing a defoaming agent to produce the objective printing plate.
支持体表面に感光性組成物からなる感光性層が形成された感光性平版印刷版の該感光性層を画像露光し、アルカリ現像液にて現像処理した後、消泡剤を含有する水洗水にて水洗処理する印刷版の製造方法。 - 特許庁 - To provide a high-quality stable lithographic printing original plate free of adhesion of scum onto the plate even if a developing solution is repeatedly used over a prolonged period of time, causing neither molding nor precipitation of calcium carbonate in piping and a tank, and free of stain of a non-image area after printing.
現像液を長期間繰り返し使用しても版上にカス付着がなく、また、配管や槽内にカビ発生、炭酸カルシウムの析出がなく、かつ、印刷したときに非画像部に汚れがない、高品質で安定な平版印刷版原版を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive type original plate of a planographic printing plate for an IR laser which suppresses the generation of a precipitate in a developing solution causing malfunction of an automatic processing machine, can be continuously developed and has such high scuffing resistance as to suppress the scuffing of a recording layer.
自動現像機の誤作動を起こす原因となる現像液中の沈殿の発生が抑制され、連続的に現像処理が可能であり、且つ、記録層の傷つきが抑制された耐傷性の高い赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁 - To provide an alicyclic acrylate compound used as a monomer for a photoresist which has high transparency to the far ultraviolet rays having a wave length of ≤248 μm, is excellent in dry-etching resistance, exhibits good adhesion to a substrate and good solubility in an alkaline developing solution, and further has high sensitivity and high resolving power.
波長２４８ｎｍ以下の遠紫外線に対して高い透明性を有し、かつドイエッチング耐性に優れ、基板密着性、アルカリ現像液に対し良好な溶解性を示し、更に高感度、高解像度を有するフォトレジスト用モノマーの提供。 - 特許庁 - In the processing method, the silver halide photographic sensitive material with a hydrophilic colloidal layer containing flat platy silver halide grains which satisfy conditions described in this specification is developed with a developing solution containing a polyhydric alcohol.
本明細書中記載の条件を満たす平板状ハロゲン化銀粒子を含有する親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料を多価アルコールを含有する現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with specified active rays or radiation and a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.
特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The developing solution for the photosensitive planographic printing plate contains 1.0 to 10 mass% specific aromatic anion surfactant having at least one polyoxyalkylene group, arbitrarily having a substituent on an aromatic ring and has a pH of 10 to 12.5.
少なくとも一種の、ポリオキシアルキレン基を有し、芳香族環上に任意に置換基を有する特定の芳香族アニオン界面活性剤を１．０質量％〜１０質量％の範囲で含有し、かつｐＨ１０〜１２．５である感光性平版印刷版用現像液。 - 特許庁 - To provide a photocuring and thermosetting resin composition highly sensitive in ultraviolet and laser exposure, having excellent hardening depth, excelling in storage stability, work efficiency and developing property with a dilute alkaline aqueous solution and suitable for a solder resist.
紫外線及びレーザー露光において高感度であって、しかも硬化深度が良好であり、さらに保存安定性、作業性に優れると共に、希アルカリ水溶液による現像性に優れ、ソルダーレジストに好適な光硬化性・熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.
特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified solvent.
特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The production process of seamless belt includes the steps of: developing a polyamide acid solution containing 2-methylimidazole as an imidization catalyst on inner or outer periphery surface; heat drying the developed layer; and making a film of a polyimide resin layer.
本発明のシームレスベルトの製造方法は、イミド化触媒として２−メチルイミダゾールを含有するポリアミド酸溶液を、円筒状金型の内周面又は外周面に展開し、該展開層を加熱乾燥して、ポリイミド樹脂層を製膜する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - Then, a flow reverse developing means 13 reversely develops the flow of the prescribed element in the production process flow from a product to a raw material, based on the conversion data, calculates the amount of the prescribed element by back calculation from the LP solution data, and provides the result to a user.
次に、フロー逆展開手段１３は、生産プロセスフローにおける所定の要素の流れを変換データに基づいて製品から原料まで逆展開するとともに、ＬＰ解データから逆算して所定の要素の量を算出し、ユーザに提供する。 - 特許庁 - In the method for producing a planographic printing plate, an original plate for the planographic printing plate with a photosensitive layer comprising a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator containing ≥4 aromatic rings is exposed and processed with a developing solution of ≤pH 13.0.
芳香族環を４つ以上含有する光重合開始剤を含有する光重合性組成物からなる感光層を有する平版印刷版用原版を露光後、ｐＨ１３．０以下の現像液で処理することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁 - By this constitution, the material component such as a cell or the like in the sample solution sufficiently reacts with the cell contracting reagent 7 and contracted to smoothly penerate in the developing layer 2 without causing clogging to enable more accurate measurement with high precision.
これにより、前記試料溶液中の細胞等の有形成分が、前記細胞収縮試薬７と十分反応し、収縮してから前記展開層２へ目詰まりを起こすことなくスムーズに浸透し、より正確、かつ高精度な測定が可能となる。 - 特許庁 - The radiation sensitive resin composition contains an Si- containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent and a solvent and has ≤6.0 mPa.sec viscosity at 25°C.
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する性質を有し、しかもＳｉ元素を含有している樹脂と、光酸発生剤と、溶剤とを含み、２５℃での粘度が６．０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁 - A UV sensitive resin film layer (A), a UV transmitting sheet layer (B), a UV shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.
基材表面に紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、紫外線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な紫外線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁 - The suction tube of the solution is thrust to the section to be fed of the automatic developing machine etc., and is thus connected thereto.
底面と底面の外側端から垂直方向に立設形成した側壁を以って構成した保持部材に、フィルム膜厚が３００μ以下のフレキシブル容器に充填された溶液を装填し、溶液の吸引管を突刺して自動現像機等の被供給部に接続を行なう。 - 特許庁 - After the substrate 100 is transferred to the tilting section 300, the tilting section 300 is tilted around the axis parallel to the first direction X, so that one side of the substrate 100 may be higher than the other side, to let the developing solution on the substrate 100 run off as the tilting section 300 inclines.
基板１００が傾動部３００へ搬送された後、第１の方向Ｘに平行な軸を中心として基板１００の一方側が他方側よりも高くなるように傾動部３０が傾いて基板１００上の現像液が流れ落ちる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive material having high sensitivity to high energy rays such as a far ultraviolet radiation, an electron beam, an X-ray, etc., capable of developing in an alkali aqueous solution, excellent in heat resistance, and useful for a chemical amplification positive type resist material which is suitable for micromachining technology, etc.
遠紫外線、電子線、Ｘ線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、アルカリ水溶液で現像可能であり、耐熱性に優れかつ微細加工技術に適した化学増幅ポジ型レジスト材料等に有用な感光性材料を提供する。 - 特許庁 - The positive resist composition has (A) a resin which has at least two specific recurring units and has its solubility to an alkaline developing solution increased by the effect of an acid, and (B) a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiations.
（Ａ）少なくとも２種の特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - In the processing method for a silver halide photographic sensitive material with an automatic processing machine, a silver halide photographic sensitive material containing a compound of formula (1) is processed with a developing solution prepared from a solid processing agent not substantially containing hydroquinone and containing a compound of formula (A) as a developing agent.
自動現像機を用いたハロゲン化銀写真感光材料の処理方法において、下記一般式（１）で表される化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を、実質的にハイドロキノンを含まず、下記一般式（Ａ）で表される化合物を現像主薬として含有する固形処理剤から調製した現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁 - To provide a developing solution for a photosensitive planographic printing plate which forms images having excellent developability and printing durability, drastically decreases development dregs accumulating in a developing bath in development processing and achieves stable processing for a long period of time in so-called direct plate making negative type photosensitive planographic printing plate for preparing a printing plate by scanning with a laser on the basis of a digital signal in particular of a computer etc.
特にコンピュータ等のデジタル信号に基づいてレーザーを走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネガ型感光性平版印刷版において、現像性及び耐刷性に優れた画像を形成し、現像処理において現像浴内に蓄積する現像カスを著しく低減可能にし、長期間安定に処理をすることができる感光性平版印刷版用現像液を提供する。 - 特許庁 - In the image forming method, a developing solution containing 0.5-5 mol/l developing agent is applied to a silver halide photographic sensitive material by an amount 1/10 to 10 times the maximum amount of water absorbed in the sensitive material and image information formed in the sensitive material is read out with an image sensor using infrared light to produce digital image information.
０．５モル／リットル以上５モル／リットル以下の現像主薬を含む現像液を、ハロゲン化銀感光材料の最大吸水量の１／１０倍以上１０倍以下の量を該ハロゲン化銀感光材料に付与した後、該ハロゲン化銀感光材料に形成された画像情報を赤外光によるイメージセンサーで読み取ることによりデジタル画像情報を作成することを特徴とする画像形成方法である。 - 特許庁 - To provide a photosensitive CTP flexographic printing original plate in which a photosensitive resin layer has excellent workability and a cured body has excellent transparency and elasticity at low temperature, an IR ablation layer has high sensitivity, and both the layers can be developed with water or a water-base liquid as a developing solution.
感光性樹脂層が加工性や硬化物の透明性及び低温時の弾性などに優れ、ＩＲアブレーション層が高感度であり、且つ両層が水又は水系液体の現像液で現像可能な感光性ＣＴＰフレキソ印刷用原版を提供すること。 - 特許庁 - The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates and acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution.
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁 - The positive resist composition contains a polymer which has repeating units having specific two kinds of acetal structures and undergoes an increase in solubility in an alkaline developing solution by being decomposed under the action of an acid, a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation and a solvent.
特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によって分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、および溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - A positive resist composition is provided which comprises (A) a specified compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin having a specified repeating unit and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (C) a solvent.
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - As the developing solution 20d reaches the bottom and near the bottom of the aperture 10w, the second resist layer 17 in the region from a part on the pad electrode 12 to the dicing line DL is reliably removed to reliably expose a part of the second insulating film 16.
ここで、現像液２０ｄが開口部１０ｗの底部及びその近傍に行き渡り、当該底部のパッド電極１２の一部上からダイシングラインＤＬに至る領域の第２のレジスト層１７が確実に除去されて、第２の絶縁膜１６の一部が確実に露出される。 - 特許庁 - The color developing solution for a silver halide color sensitive material used for the development treatment of a silver halide color sensitive material comprises: a compound expressed by the general formula (1); and a compound expressed by the general formula (2).
ハロゲン化銀カラー感光材料の現像処理に用いるハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液において、下記一般式（１）で表される化合物及び下記一般式（２）で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液。 - 特許庁 - In a processing method in which a silver halide photographic sensitive material is processed using an automatic developing machine, a compound of formula (1) is contained in the sensitive material and an aluminum salt is not contained in a fixing solution.
自動現像機を用いてハロゲン化銀写真感光材料を処理する処理方法において、ハロゲン化銀写真感光材料中に下記一般式（１）で表される化合物を含有し、定着液中にアルミニウム塩を含有しないことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁 - To provide a developing solution for a photosensitive lithographic printing plate and a method for engraving the photosensitive lithographic printing plate by which sludge accumulated in a development vessel is reduced to reduce load on cleaning operations and dirt adhesion to a plate material and film wear of a photosensitive layer of an image part after development is reduced.
現像槽にたまるスラッジヘドロを低減し清掃作業の負担、版材の汚れ付着を減らし、更に、現像後の画像部感光層の膜減りを低減する感光性平版印刷版用現像液および感光性平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁 - The radiation sensitive resist composition contains a silicon (Si)-containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent, a solvent and a basic compound having ≥5 repeating units with a specified structure as an average number (n) of repeating units.
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加するケイ素（Ｓｉ）を含有する樹脂と、光酸発生剤と、溶剤と、特定構造の繰り返し単位を平均繰り返し単位数（ｎ）で５個以上有する塩基性化合物とを含有してなる感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁 - To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.
純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁 - The method for forming a pattern includes at least steps of: forming a photoresist film on a substrate; forming a resist protective film on the photoresist film by using the above resist protective film material; exposing; and developing by use of a developer solution.
並びに、少なくとも、基板上にフォトレジスト膜を形成する工程と、該フォトレジスト膜の上に、前記レジスト保護膜材料を用いてレジスト保護膜を形成する工程と、露光する工程と、現像液を用いて現像する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - The positive type resist composition contains a resin having a group which is decomposed by the action of an acid to increase the solubility in an alkali developing solution and a compound which generates an aromatic sulfonic acid replaced with a group containing at least one fluorine atom when irradiated with active light or radiation.
酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つフッ素原子を含有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - To provide a photosensitive planographic printing plate developable with an aqueous alkali developing solution, having superior wear resistance, high wear resistance and superior chemical resistance, high plate durability even when printing with UV ink (ultraviolet-curing ink) is carried out without carryin out a burning processing and excellent in aging stability.
水性アルカリ現像液で現像ができ、耐摩耗性が優れ、かつ耐刷力の大きく、また耐薬品性に優れ、バーニング処理を行う事なくＵＶインク（紫外線硬化インク）を用いた印刷を行っても耐刷力の大きく、さらに経時安定性に優れた感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁 - The original plate for the printing plate having a photosensitive layer comprising a photopolymerizable composition containing (i) a crosslinker having two ethylenic polymerizable groups and (ii) a crosslinker having three or more ethylenic polymerizable groups is exposed and developed with an alkali developing solution of ≤pH 12.5.
（ｉ）エチレン性重合性基を２個有する架橋剤、および（ii）エチレン性重合性基を３個以上有する架橋剤を含有する光重合性組成物からなる感光層を有する印刷版用原版を、露光後、ｐＨ１２．５以下のアルカリ現像液で現像処理することを特徴とする。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin having a specified alicyclic structure in the principal chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の脂環式構造を主鎖に有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The positive resist composition comprises (A) a resin including a specified repeating unit having a fluorine atom and a polycyclic structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.
（Ａ）フッ素原子を有し多環構造をもつ特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The positive type resist composition contains (A) a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.
（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The positive resist composition includes a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under an action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure.
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式−Ｒ^２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１［式中、Ｒ^１は酸解離性溶解抑制基、Ｒ^２は２価の炭化水素基である。 - 特許庁 - The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.
塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁 - After the pattern exposure is performed by irradiating the resist film 11 with KrF excimer laser light 12 (the exposure light having the light component entering the resist film 11 at the Brewster angle) having the NA (numeric aperture) of 0.92, the resist pattern 14 is formed by the development with an alkaline developing solution.
レジスト膜１１に対して、ＮＡが０．９２であるＫｒＦエキシマレーザ光１２（レジスト膜１１に対してブリュースター角で入射する光成分を有する露光光）を照射してパターン露光を行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なって、レジストパターン１４を形成する。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.
通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has repeating units with a specified structure and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.
（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has at least three repeating units with specified separate structures and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.
（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を少なくとも３種有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The resist composition contains: resin which contains a repeating unit derived from an isosorbide (meth)acrylate and of which the dissolving rate to an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and a compound which has a naphthalene skeleton and generates an acid by being irradiated with active rays or radiation.
イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、ナフタレン骨格を有する特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁
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