「developing solution」を含む例文一覧(1221)
＜前へ 1 2 .... 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 次へ＞- To reduce the amount of the wastes to be discharged and the cost of energy as well in treating the waste liquid containing a combustible organic solvent, such as isopropyl alcohol, used in rinsing, etc., of a resist peeling liquid discharged from a semiconductor manufacturing process step and the waste developing solution of a water system used for development of the resist.
半導体製造工程から排出される、レジスト剥離液のリンス等に使用されたイソプロピルアルコール等の可燃性有機溶媒を含む廃液、及びレジストの現像に用いられた水系の現像廃液の処理にあたり、廃棄物の排出量を低減させるとともに、エネルギーコストも低減させる。 - 特許庁 - In the processing method for a photosensitive composition, the photosensitive composition containing an IR absorbent, a polymerization initiator, a polymerizable compound and a binder polymer is developed after exposure with a developing solution of pH 10 to 12.5 and containing 1.0 to 10 mass% of at least one anionic surfactant.
赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有する感光性組成物を露光後、少なくとも一種のアニオン界面活性剤を１.０質量%〜１０質量%含有し、pH１０〜１２.５である現像液で現像することを特徴とする感光性組成物の処理方法により解決される。 - 特許庁 - A new top coat composition that is suppressed in swelling and dissolution in water, rapidly dissolved in a developing solution, and increased in adhesion property and glass transition point (Tg), and application to immersion lithography are found by using a polymer having a structure having a specified fluoroalcohol group in the same monomer.
特定のフルオロアルコール基を同一単量体に有する構造を有する高分子を用いることにより、水に対する膨潤性、溶解性を抑制し、現像液には瞬時に溶解し、かつ、密着性やガラス転移点（Ｔｇ）を高めた新規なトップコート組成物と液浸リソグラフィーへの応用を見出した。 - 特許庁 - The positive resist composition contains: (A) a resin which has a structure having a repeating unit expressed by formula (a) and the solubility of which with an alkali developing solution is increased by the effect of an acid; and (B) an acid generating agent which generates an acid by irradiation with active rays or radiation.
（Ａ）下記式（ａ）で表される繰り返し単位を有する構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基を有する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The quantity of exposure (exposure energy to a sufficiently large opening pattern) at exposure of a photoresist by the use of the photomask 5 is more than four times and less than twenty times of the exposure quantity at the boundary, in which the photoresist reaches insolubility from solubility to a developing solution by exposure, or the exposure quantity at the boundary in which the photoresist reaches solubility from insolubility.
このフォトマスク５を用いてフォトレジストを露光する際の露光量（十分大きい開口パターンへの露光エネルギ）は、露光によりフォトレジストが現像液に対して溶解性から不溶解性になる境界の露光量または不溶解性から溶解性になる境界の露光量の４倍以上２０倍以下である。 - 特許庁 - The positive type resist composition contains a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution and a compound which generates an aliphatic or aromatic carboxylic acid substituted by at least one fluorine atom when irradiated with active light or radiation ray.
酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - In a method for making a planographic printing plate, a planographic printing plate precursor having an image forming layer on a support having a hydrophilic surface in which a hydrophilic graft polymer chain exists is imagewise exposed and developed with an alkaline developing solution containing at least one nonreducing sugar and an alkali metallic salt.
親水性グラフトポリマー鎖が存在する親水性表面を有する支持体上に、画像形成層を有する平版印刷版用原版を、画像露光後、少なくとも一種の非還元糖アルカリ金属塩を含有するアルカリ性現像液を用いて現像処理することを含む平版印刷版の製版方法。 - 特許庁 - After the electron-donating color-developing agent dissolved in a mixture of polyisocyanate having the straight chain alkylbenzene and the allophanate group is emulsified and dispersed in an aqueous solution containing a polyvinyl alcohol dispersing agent, a polyurea film is formed in the emulsified particulate interface by undergoing a polymerization reaction with the addition of polyamine.
電子供与性発色剤を直鎖アルキルベンゼンとアロファネート基を有するポリイソシアネートの混合物に溶解させたものをポリビニルアルコール分散剤水溶液中に乳化分散させた後、多価アミンを添加して重合反応を行うことにより乳化粒子界面にポリウレア膜を形成させる。 - 特許庁 - To provide a spray material achieving an effect such as setting properties and initial strength developing properties both comparable with a powdery quick setting agent, by adding a quaternary ammonium salt compound to cement concrete and applying a specific alkali silicate aqueous solution to cement concrete as a quick setting agent, and a spraying method using the spray material.
セメントコンクリート側に四級アンモニウム塩化合物を添加し、特定のケイ酸アルカリ塩水溶液を急結剤としてセメントコンクリートに適用することで、粉体急結剤に匹敵する凝結性状および初期強度発現性が得られるなどの効果を奏する、吹付け材料およびそれを用いた吹付け工法を提供する。 - 特許庁 - The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: resin (A) capable of increasing the solubility with an alkali developing solution by an action of an acid; and resin (C) having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing repeating unit (c) having at least two polarity conversion groups.
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、及び、少なくとも２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位（ｃ）を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（Ｃ）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁 - When detecting a detection object in a sample by an immunochromatography method, a nonspecific reaction can be suppressed by using the reagent composition for immunochromatography containing a buffer solution, a chelating agent and a nonionic surfactant, or a developing liquid for immunochromatography, or a sample dilution liquid for immunochromatography.
イムノクロマトグラフィー法により試料中の検出対象物を検出する際に、緩衝液、キレート剤、および非イオン界面活性剤を含有するイムノクロマトグラフィー用試薬組成物またはイムノクロマトグラフィー用展開液もしくはイムノクロマトグラフィー用試料希釈液を用いることにより非特異的反応を抑制することができる。 - 特許庁 - The stabilizing solution for a silver halide color photographic sensitive material used in a process of developing the silver halide color photographic sensitive material has a silver ion concentration of 0.4-4.0 g/L and contains a compound represented by general formula (I).
ハロゲン化銀カラー写真感光材料の現像処理プロセスで用いるハロゲン化銀カラー写真感光材料の安定化処理液において、銀イオン濃度が０．４ｇ／Ｌ以上、４．０ｇ／Ｌ以下であって、かつ下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料の安定化処理液。 - 特許庁 - To provide an energy beam curable photosensitive composition excellent in developability, curability, stability and the resistance of the exposed part to a developing solution and capable of forming a cured coating film excellent in adhesion, electric insulating property, resistance to the heat of soldering, solvent, acid and alkali resistances and plating resistance required by a soldering resist.
現像性、硬化性、安定性、露光部の現像液に対する耐性に優れ、しかもソルダーレジストに要求される密着性、電気絶縁性、はんだ耐熱、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性、並びに耐メッキ性に優れた硬化塗膜を形成し得るエネルギー線硬化型の感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) a nitrogen-containing compound containing at least one fluorine atom.
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）少なくとも一つのフッ素原子を含有する含窒素化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁 - To provide an easy, inexpensive and effective removing method by which an adsorbed photoresist not satisfactorily removed so far is removed when a cation exchange resin or a chelate resin used to treat a used photoresist developing solution is regenerated and which does not lower the performance of the cation exchange resin or the chelate resin even after repeated regeneration.
フォトレジスト現像廃液を処理した陽イオン交換樹脂又はキレート樹脂を再生する際に、従来除去が不十分であった吸着したフォトレジストを除去し、陽イオン交換樹脂又はキレート樹脂の再生を繰り返しても性能が低下せず、簡単で安価かつ効果的な除去方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a composition for forming the lower layer of a resist film which has strong absorption regarding a KrF excimer laser or the like, does not cause intermixing with the upper layer of the photoresist film, and furthermore can be simultaneously developed when the upper layer of the photoresist is developed with an alkaline developing solution and a crosslinking agent to be used in the composition.
ＫｒＦエキシマレーザー等に対して強い吸収を持ち、上層のフォトレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のフォトレジスト膜がアルカリ性現像液で現像される際に同時に現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物、及び当該組成物に用いる架橋剤を提供する。 - 特許庁 - In the processing method, a photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photosensitive layer on an aluminum substrate with 0.1-8 mg/m2 coating weight of Si atoms is exposed, developed with a developing solution containing nonreducing sugar and a base (other than silicates) and desensitized in two or more processing baths.
Ｓｉ原子付着量が０．１〜８mg／m^2であるアルミニウム支持体上に感光層を設けてなる感光性平版印刷版を、露光し、非還元糖及び塩基（但し珪酸塩を除く）を含む現像液で現像後、不感脂化処理を２浴以上の処理浴で行うことを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound expressed by a specified formula.
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに（Ｃ）特定の化学式で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - To provide a polymer for forming an overlay film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film and for forming an overlay film that keeps a stable coating film without elution into a medium during liquid immersion exposure, that induces no deterioration of a pattern figure when the film is subjected to not to liquid immersion exposure but to dry exposure, and that is easily dissolved in an alkali developing solution.
フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。 - 特許庁 - The positive type resist composition contains a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and at least one acetal compound represented by a specified structure.
脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の構造で表されるアセタール化合物のうち少なくとも１種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The resist composition contains a base component (A) whose solubility with respect to an alkali developing solution changes by an action of an acid, and an acid generator component (B) generating an acid by exposure.
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁 - The positive resist composition comprises a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and a specified fluorine-containing compound having no carboxyl group.
特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、特定のフッ素原子を含有し、カルボキシル基を有しない化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - To provide a sufficient optical transmission capability and sufficiently high pattern forming accuracy in a method for producing an optical waveguide to form a pattern of the optical waveguide by means of photolithography in which predetermined parts of a photosensitive resin layer are irradiated with light and then the parts which are not irradiated with light are removed by a developing solution.
感光性を有する樹脂層の所定箇所に光照射した後に光照射されていない箇所を現像液で除去するフォトリソグラフィーにより光導波路のパターンを形成する光導波路の製造方法において、十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を提供する。 - 特許庁 - To provide a water treating method by which clogging of a dipped membrane or clogging of a reverse osmosis membrane when performing treatment by the reverse osmosis membrane at a latter stage does not rapidly occur and water treatment or water recovery of waste developing solution-containing raw water can be stably performed in water treatment by a dipped membrane activated sludge treatment.
浸漬膜活性汚泥処理による水処理において、浸漬膜の目詰まり、また後段でＲＯ膜による処理を行う場合はＲＯ膜の目詰まりが急激に生じず、現像廃液含有原水の水処理、または水回収を安定して行うことができる水処理方法を提供する。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid and a compound represented by a specified structure.
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The positive resist composition contains (A) a resin which has a repeating unit of a specified norbornane structure having a hetero atom in the side chain and of which the solubility to an alkaline developing solution increases by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.
（Ａ）側鎖にヘテロ原子を有する特定のノルボルナン構造をもった繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - To provide a quality control method for keeping the quality of a planographic printing plate to be constant and for continuously forming a uniform image, by easily deciding the platemaking conditions of a negative planographic printing original plate for IR laser for direct platemaking, in particular, deciding the state of a developing solution and back feeding the result to exposure/development steps.
ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版の製版条件、特に、現像液の状態を容易に判定し、その結果を露光／現像工程にフィードバックすることで、平版印刷版の品質を一定に保ち、均一な画像を連続的に形成するための品質管理方法を提供する。 - 特許庁 - Alternatively, in the method for manufacturing a conducting material using a silver salt photosensitive material including at least one silver halide emulsion layer on a support as a conducting material precursor, the silver salt photosensitive material is developed with a silver-containing developing solution.
もしくは支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料の製造方法において、該銀塩感光材料を銀含有現像液で現像処理することを特徴とする導電性材料の製造方法を用いる。 - 特許庁 - A first layer containing a water-insoluble and alkaline water-soluble polymer and a second layer containing a crosslinkable or polymerizable compound and having solubility in an alkali developing solution reduced by the formation of covalent bonds under the action of light or heat are successively disposed on a base to obtain the objective original plate.
支持体上に、水不溶性、且つ、アルカリ水可溶性の高分子を含有する第１の層と、架橋性或いは重合性化合物を含有し、光又は熱の作用により共有結合を形成し、アルカリ現像液に対する溶解性が低下する第２の層と、を順次設けてなることを特徴とする。 - 特許庁 - The positive type silicon-containing photosensitive composition contains (a) a polysiloxane or polysilsesquioxane having a group decomposable by a carboxylic acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid, (b) a compound which generates the carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.
（ａ）酸により分解しうる基を有し、かつアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、（ｄ）溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing specified repeating units such as repeating units each with a norbornene structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with an active light or radiation.
ノルボルネン構造を有する繰り返し単位等の特定の繰り返し単位等を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - To provide the positive photoresist composition good in sensitivity to deep ultraviolet rays, especially, ArF excimer laser beams and good in resolution and adhesion to a substrate and good in developability in developing solutions used for the conventional resists, such as an aqueous solution of 2.38% tetramethylammonium hydroxide.
深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光に対して、良好な感度、解像度を有し、且つ基板との密着性が良好で、従来のレジストに使用していた現像液（例えば２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）に対しても良好な現像性を示すポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁 - This positive resist composition contains a substrate component (A) where solubility to an alkali developing solution is increased by the action of an acid, and an acid generator component (B) for generating an acid by exposure.
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０−１）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - A resist composition contains a base component (A) whose solubility to a developing solution is changed by the action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, and the base component (A) contains a high molecular compound (A1) having a structural unit (a5) represented by a general formula (a5-1).
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）として、一般式（ａ５−１）で表される構成単位（ａ５）を有する高分子化合物（Ａ１）を含むレジスト組成物。 - 特許庁 - The positive resist composition is characterised by containing: (A) a resin which has at least one kind of repeating unit having at least two groups of specified structures and which increases the solubility with an alkaline developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.
（Ａ）特定構造の基を少なくとも２つ有する繰り返し単位を少なくとも１種類有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The chromatography analytical method includes the steps of: fixing a reactant (for example, a biomaterial such as a capture antibody 4, and the like) reacting to a test material 5 to a predetermined position; developing a test solution 6 containing the test material 5; and combining and detecting the test material 5 by a reaction to the reactant (for example, an antigen-antibody reaction to the capture antibody 4).
所定の位置に被検物質５と反応する反応物質（例えば捕捉抗体４等の生体材料）が固定され、被検物質５を含む被験溶液６を展開し、反応物質との反応（例えば捕捉抗体４との抗原抗体反応）により被検物質５を結合し検出するクロマト分析法である。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition which has near IR wavelength region laser responsiveness to make responded portions soluble in a developing solution by exposure to and response with a laser of a near IR wavelength region, is extremely good in adhesion properties to a copper plating surface or copper alloy plating surface even at a lowered burning temperature, is well developed, and has high sensitivity.
近赤外波長域のレーザーに露光感応して該感応部が現像液に可溶になる近赤外波長域レーザー感応性を有し、バーニング温度を低くしても銅メッキ面又は銅合金メッキ面に対する密着性が極めて良好であり現像が良好にできて高感度であるポジ型感光性組成物。 - 特許庁 - To provide a quality control method to keep the quality of a planographic printing plate constant and to continuously form uniform images by easily judging the activity state of a developing solution for a planographic printing plate having a negative image forming layer for an IR laser for direct platemaking and by back feeding the result to the platemaking step.
ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ネガ型画像形成層を有する平版印刷版の現像液の活性状態を容易に判定し、その結果を製版工程にフィードバックすることで平版印刷版の品質を一定に保ち、均一な画像を連続的に形成するための品質管理方法を提供する。 - 特許庁 - The concentrated developing solution for the radiation-sensitive composition is made of (A) an alkaline metal carbonate, (B) an alkaline metal hydrogen carbonate, (C) a surface active agent component made of at least one of a polyalkylene oxide adduct of cumylphenol and a polyalkylene oxide adduct of phenylethyl group substitution phenol, (D) a specific solubilizing agent component, and (E) water.
（Ａ）アルカリ金属炭酸塩、（Ｂ）アルカリ金属炭酸水素塩、（Ｃ）クミルフェノールのポリアルキレンオキサイド付加物又はフェニルエチル基置換フェノールのポリアルキレンオキサイド付加物の少なくとも１種からなる界面活性剤成分、（Ｄ）特定の可溶化剤成分及び（Ｅ）水からなる感放射線性組成物用濃縮現像液。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition for a circuit layer-to- layer adhesive developable with an aqueous developing solution using no organic solvent, excellent in various characteristics necessary for the insulating layer of a multilayer wiring board, e.g. adhesion to a substrate and having particularly superior heat resistance and to provide a high reliability printed wiring board using the composition.
有機溶剤を使用しない水系の現像液で現像が可能で、基材への密着性など多層配線板の絶縁層に必要とされる諸特性に優れ、且つ、特に優れた耐熱性を持つ、回路層間接着剤用感光性樹脂組成物、及びそれを用いた信頼性の高いプリント配線板を提供する。 - 特許庁 - To provide a paste for a barrier rib and a manufacturing method of PDP using the paste for the barrier rib wherein a problem that a dry film formed by the paste for the barrier rib comes off from a glass substrate in developing by an alkali developer solution in a sand blast method can be solved even in the case of using unleaded or low-leaded alkali-containing glass.
無鉛または低鉛のアルカリ含有ガラスを使用した場合でも、サンドブラスト法においてアルカリ現像液による現像時に隔壁用ペーストから形成された乾燥膜がガラス基板からはがれるという問題を解消できる隔壁用ペーストおよび該隔壁用ペーストを用いたＰＤＰの製造方法の提供する。 - 特許庁 - To provide a silver halide photographic sensitive material and a processing method improved in adhesion of dirt to the film due to the film peeling of a film edge and micro-stripping of a film edge in processing at a line speed of an automatic processing machine of ≥1,500 mm/min or with a developing solution which does not substantially cause hardening.
自動現像機のラインスピードが１５００ｍｍ／ｍｉｎ．以上、もしくは、実質的に現像硬膜がない現像液で処理する際に、フィルムエッジの膜剥がれや、フィルムエッジの微少剥離による、フィルムの汚れ付着が改善されたハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法を提供する。 - 特許庁 - In the method for making a planographic printing plate, a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate provided on a surface-roughened and anodically oxidized aluminum support is exposed, water-washed, processed with the developing solution, water- washed again and coated with a desensitization treatment agent comprising a) gum arabic and b) modified starch.
粗面化、及び陽極酸化処理を施したアルミニウム支持体上に設けた光重合型感光性平版印刷版を、露光後、水洗処理し、上記現像液で処理し、再び水洗した後、ａ）アラビアゴム及びｂ）加工デンプンを含有する不感脂化処理剤を塗設することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁 - The positive type resist composition has (A) a recurring unit derived from specific vinyl ether and a recurring unit derived from specific acrylamide, a resin which is increased in solubility in an alkaline developing solution by the effect of an acid and (B) a compound which generates the acid by irradiation of the resin with an active ray or radiation.
（Ａ）特定のビニルエーテルに由来する繰り返し単位と特定のアクリルアミドに由来する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The developing solution for a silver halide photographic sensitive material contains dihydroxybenzene, 0.23-0.58 mol carbonate based on 1 mol dihydroxybenzene, 0.15-0.30 mol gelatin hardening agent based on 1 mol dihydroxybenzene, a sulfite and a benzenecarboxylic acid of formula (1), saccharides, linear tricarboxylic acids or amino acids and does not substantially contain a boron compound.
ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシベンゼン１モルあたり０．２３〜０．５８モルの炭酸塩と０．１５〜０．３０モルのゼラチン硬化剤、亜硫酸塩、及び下記一般式（１）で表されるベンゼンカルボン酸、糖類、直鎖トリカルボン酸類、又はアミノ酸類を含有し、ホウ素化合物を実質的に含有しないハロゲン化銀写真感光材料用現像液。 - 特許庁 - To provide a processing method for a black-and-white silver halide photographic sensitive material by which the residual color of a spectrally sensitized black-and-white silver halide photographic sensitive material containing a sensitizing dye can be reduced when the silver halide photographic sensitive material is developed with a hydroquinone-free developing solution.
増感色素を含有する分光増感された黒白ハロゲン化銀写真感光材料をハロドロキノンを使用しない現像液で現像処理するに際して、ハロゲン化銀写真感光材料の残色を少なくすることができる黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁 - The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.
（１）（Ａ）イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The positive type resist composition contains (A) a resin containing specified two repeating units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid having an alicyclic hydrocarbon group in a side chain and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.
（Ａ）特定の２種の繰り返し単位を含有し、脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound of a specified formula.
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに（Ｃ）特定の化学式で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁 - The positive photosensitive composition is characterized in containing (A) a specified sulfonium salt compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developing solution.
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のスルホニウム塩化合物及び（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁
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