「developing solution」を含む例文一覧(1221)

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  • The silver halide photographic developing processing solution comprises at least one polymeric compound, wherein said polymeric compound comprises at least one monomer unit having a silver ion complexing moiety and at least one monomer unit having a solubilizing group, and wherein both said silver ion complexing moiety and said solubilizing group are comprised in same or different monomer units.
    少なくとも一つのポリマー化合物を含むハロゲン化銀写真現像処理溶液であって、ポリマー化合物が銀イオン錯体生成部分を有する少なくとも一つのモノマー単位；及び可溶性基を有する少なくとも一つのモノマー単位を含み、銀イオン錯体生成部分と可溶性基の両方が同じ又は異なるモノマー単位に含まれる処理溶液。 - 特許庁
  • The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing repeating structural units with norbornene and repeating structural units containing a specified alicyclic hydrocarbon structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.
    （Ａ）ノルボルネンを有する繰り返し構造単位、特定の脂環式炭化水素構造を含む繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
  • To provide an antireflection film forming composition, having high power to absorb reflected light and capable of forming an antireflection film which has full resistance, even with respect to a developing solution on which a resist pattern excellent in shape can easily be formed at a high etching rate, even if the antireflection film is made thick and difference in level on a substrate is planarized.
    反射光に対して吸収能が高く、エッチングレートが高く反射防止膜を厚膜にし基板上の段差を平坦化しても形状に優れたレジストパターンが容易に形成でき、かつ現像液に対しても充分な耐性を有する反射防止膜を形成できる反射防止膜形成用組成物を提供すること。 - 特許庁
  • The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (B) a resin comprising a repeating unit having a partial structure represented by formula (X) on a side chain and a repeating unit having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.
    （Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記の一般式（Ｘ）で表される部分構造を側鎖に有する繰り返し単位及び特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • The resist composition includes a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the acid-generator component (B) includes an acid generator (B1) composed of a compound having a base dissociable group within a cation moiety.
    酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、カチオン部に塩基解離性基を有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁
  • To obtain the positive silicone-containing photosensitive composition high in sensitivity and resolution, especially in manufacture of semiconductor devices by incorporating a specified polymer insoluble in water and soluble in alkaline solutions and polymer or the like having the property that the solubility in an alkaline developing solution is increased by action of acids.
    Ｄｅｅｐ−ＵＶ領域での光吸収が小さく、短波長光源に対応し得る感光性組成物を提供することであり、詳しくは高感度で且つ高い解像力を有し、更に、特に０．２μｍ以下の微細パターンに於ける現像処理後の膜減りが少なく、矩形形状を与える感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a specified repeating unit expressed by general formula (I) and a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and (C) a solvent.
    （Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｃ）溶済を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
  • The inkjet recording paper sheet is coated with an ink fixing agent or provided with at least one layer of an ink absorbing layer, an ink fixing layer and a gloss developing layer on the support for inkjet recording, which is subjected to a surface treatment with a coating solution containing at least active silica on the surface of the base paper consisting essentially of cellulose pulp.
    主成分としてセルロースパルプからなる原紙の表面に、少なくとも活性珪酸を含む塗液で表面処理したことを特徴とするインクジェット記録用支持体上に、インク定着剤を塗工、または、インク吸収層、インク定着層、光沢発現層の少なくとも1層を設けたことを特徴とするインクジェット記録用紙である。 - 特許庁
  • A first metal film 13 that is thinner is formed on a surface on which an electrode pattern of a piezoelectric substrate 11 is formed, and a second metal film 15 which is hard to be etched by photoresist developing solution is formed on the first metal film 13 and then developed to thereby make a substrate digging amount of the piezoelectric substrate 11 small, suppressing a variation in the excitation center frequency.
    圧電基板１１の電極パターンを形成する方の面に薄い方の第１の金属膜１３を形成し、その上にフォトレジストの現像液にエッチングされにくい第２の金属膜１５を形成した後に現像することにより、圧電基板１１の基板掘れ量を小さくし、励振中心周波数のバラツキを抑制する。 - 特許庁
  • The positive photoresist composition contains (A) a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.
    （Ａ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、主査に特定の脂環式構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
  • The positive resist composition for liquid immersion exposure comprises: (A) a resin having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having the solubility with an alkali developing solution which increases by the effect of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; (C) a nitrogen-containing compound having no hydroxyl group; and (D) solvent.
    （Ａ）単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）水酸基を含有しない含窒素化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved by irradiation with the active light or radiation to generate a basic compound and an ionic compound.
    酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び活性光線又は放射線の照射により結合が開裂して、塩基性化合物とイオン性化合物を発生する化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • The positive photosensitive composition comprises (A) an acid generator that generates an acid upon irradiation of an active ray or radiation, (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) at least two basic compounds different from each other in structure.
    （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）構造の異なる少なくとも２種類の塩基性化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁
  • The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved under heat to separate two or more components including a radical species and/or an ionic compound.
    酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び熱により結合が開裂して、ラジカル種及び／又はイオン性化合物を含む２成分以上に分離する化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • The positive type resist composition contains (A) a compound which generates a strong acid when irradiated with active light or radiation, (B) resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound which generates a carboxylic acid having a steroid structure when irradiated with active light or radiation.
    （Ａ）活性光線または放射線の照射により強酸を発生する化合物 （Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂 （Ｃ）活性光線または放射線の照射によりステロイド構造を有するカルボン酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • The positive resist composition comprises (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and (C) a compound represented by a specified structure and containing a sulfonimide structure in its molecule.
    （Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の構造で表される分子内にスルホンイミド構造を含む化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • The positive resist composition contains: (A) a resin having a specified repeating unit having a norbornane lactone structure and having the solubility with an alkaline developing solution increased by the effect of an acid; (B) a compound which generates specified sulfonic acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) solvent.
    （Ａ）ノルボルナンラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive lithographic printing plate which can be made easily without needing an alkaline developing solution, has practical printed image quality and printing resistance with discrimination of the image part and non-image part of a printing surface improved, and can provide good image quality even when regenerated and used repeatedly and a printing method using the printing plate.
    アルカリ性現像液を必要とせず、簡易に製版できて、かつ印刷面の画像部と非画像部の識別性が更に改良された実用レベルの印刷画質及び耐刷性を有し、さらに繰り返し再生して使用しても良好な画質を提供することのできる感光性平版印刷版及びそれを用いた印刷方法を提供すること。 - 特許庁
  • The resist composition for the liquid immersion lithography includes a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure to light, wherein a cationic component of the acid-generator component (B) has a 1-octanol/water distribution coefficient of 7.0 to 9.5.
    酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分（Ｂ）のカチオン成分の１−オクタノール／水分配係数が７．０〜９．５であることを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁
  • The positive type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono-or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure in the principal chain or in a side chain, is decomposed by the action of the acid and increases its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound represented by a specified structure.
    （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を、主鎖または側鎖に有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • In the manufacturing method of the microcapsule, a water-soluble color developing agent as a core material and a water-soluble polymer aqueous solution of concentration of 15 wt.% to 30 wt.% are dispersed into organic solvent and are subjected to interfacial polymerization with a reaction agent to form a microcapsule wall film, and a hygroscopic coated film is formed on the microcapsule wall film by using hygroscopic liquid.
    有機溶媒中に、芯物質となる水溶性発色剤と、濃度１５重量％乃至３０重量％の水溶性高分子水溶液を分散させ、反応試薬により界面重合反応をさせてマイクロカプセル壁膜を形成し、このマイクロカプセル壁膜に吸湿性液体で吸湿性被膜を形成するマイクロカプセルの製造方法。 - 特許庁
  • To provide a polymer suitable for a positive photosensitive resin composition that includes no halogen atoms in its skeleton, is highly transparent to an i-ray from a mercury lamp and highly sensitive, can be developed with a developing liquid (2.38% TMAH aqueous solution) usually employed in a manufacturing process of a semiconductor device, and gives a thermoset relief pattern when cured at 280°C.
    骨格中にハロゲン原子を含まず、水銀ランプのｉ線に対する透明性が高く高感度であり、半導体装置の製造工程で通常使用される現像液（２．３８％ＴＭＡＨ水溶液）による現像が可能であり、２８０℃のキュアで熱硬化レリーフパターンが得られるポジ型感光性樹脂組成物に適したポリマーを提供する。 - 特許庁
  • To provide a lithographic printing plate material, which can be favorably applied to a CTP necessitating no special developing solution and can fix with no positional deviation on the plate cylinder of a printing machine even having a thin film flexible substrate and is especially suitable for a DI printing machine, and a fixing method to a printing equipment.
    特別な現像液が不要であるＣＴＰに好ましく適用可能で、薄膜の可撓性基材を有する平版印刷版材料であっても、印刷機の版胴上に位置ずれすることなく固定することが可能であり、特にＤＩ印刷機に適した、平版印刷版材料およびその印刷装置への固定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The positive type photosensitive composition contains (A) a specified acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (C) a specified basic compound and (D) a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.
    （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の塩基性化合物、及び（Ｄ）フッ素及び／又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁
  • The resist composition comprises: a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid; and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, wherein the base component (A) contains a polymer compound (A1) having a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1).
    酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁
  • In the method for making a planographic printing plate, a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photopolymerizable photosensitive layer comprising a compound having an addition polymerizable ethylenically unsaturated bond, a titanocene photopolymerization initiator and a coloring pigment on a support is exposed and developed with a developing solution containing soybean polysaccharide.
    付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物、チタノセン系光重合開始剤及び着色顔料を含有する光重合性感光層を支持体上に設けた光重合型感光性平版印刷版を、露光後、大豆多糖類を含有する現像液で現像処理することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁
  • The resist composition contains (A) a resin which has a partial structure having a hydroxyl group replaced with a hydrocarbon group, has 120 to 180°C glass transition temperature, is decomposed by an acid and has its dissolution rate in an alkaline developing solution increased, (B) a compound which generates an acid by irradiation with an active ray or radiation, and (C) a solvent.
    （Ａ）水酸基が脂肪族環状炭化水素基に置換した部分構造を有し、ガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃である、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物。 - 特許庁
  • The developing solution contains a polyoxyalkylene adduct of alkylene diamine and at least one kind selected from a group comprising anionic surfactants and amphoteric surfactants.
    アルキレンジアミンのポリオキシアルキレン付加物と、アニオン界面活性剤及び両性界面活性剤からなる群から選ばれる少なくとも１種とを含有することを特徴とする感光性平版印刷版用アルカリ現像処理液；感光性平版印刷版を露光後、上記のアルカリ現像処理液で現像することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁
  • The additive composition for a color development processing liquid of a silver halide color photosensitive material added to a color developing solution used for the image formation of a silver halide color photosensitive material contains a compound expressed by general formula (1).
    ハロゲン化銀カラー写真感光材料の画像形成に用いる発色現像処理液に添加するハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物であって、下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物。 - 特許庁
  • The positive-type photoresist composition contains (A) a resin, containing repeating structural units with a specified bridged alicyclic structure and repeating units with a specified lactone structure and having rate of dissolution in an alkali developing solution increased due to the action of an acid and (B) a compound which generates the acid, when irradiated with active light or radiation.
    （Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
  • To provide a negative type radiation sensitive resin composition for a chemical amplification type negative type resist applicable to an alkali developing solution of ordinary concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern with respect to an ordinary line-and-space pattern, free of resist pattern defects (bridging and chipping) after development and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.
    通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け）がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a planographic printing plate using an alkali developing solution of a relatively low pH favorable to the environment and safety, stably giving a non-image area having good developability and free of stain in printing and ensuring little damage to an image area in development, high image strength and stably high printing resistance.
    環境、安全上好ましい比較的低ｐＨのアルカリ現像液を用い、安定的に、非画像部は良好な現像性を有し、印刷での汚れがなく、かつ画像部に対して現像でのダメージが少なく強固な画像強度が得られ、さらに、安定的に高い耐刷性を実現可能な平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁
  • The positive type resist composition contains (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (C) a nitrogen-containing compound having at least one specified nitrogen-containing partial structure in one molecule.
    （Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • The developing solution for a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate contains a nonionic surfactant and/or an anionic surfactant, a weak acid or its salt having a dissociation constant pka of 10 to 13 and an aromatic carboxylic acid compound or its salt and has 11.5 to 12.8 pH and 3 to 40 mS/cm electric conductivity.
    ノニオン界面活性剤及び／又はアニオン界面活性剤、及び解離定数pkaが１０〜１３の範囲にある弱酸またはその塩、及び芳香族カルボン酸化合物又はその塩を含有し、pHが１１．５以上１２．８以下でかつ電導度が３〜４０ｍＳ／cmであることを特徴とする光重合型感光性平版印刷版用現像液。 - 特許庁
  • To enable a prescribed movement of the seal breaker of a lid part even if any region of the seal breaker is pushed down, in a testing appliance constituted so that the seal member of the liquid container housed in a case main body is ruptured by the breaking projection provided to the seal breaker by pushing the seal breaker and a developing solution in the liquid container is developed up to a detection part.
    ケース本体に収容された液体容器のシール部材が、蓋部のシールブレイカーを押すことによりこれに設けられた破断突起で押し破られ、液体容器内の展開液が検出部まで展開されるようにした試験用具において、シールブレイカーのいずれの部位を押し下げた場合でも、シールブレイカーが規定された動きを行うこと可能にする。 - 特許庁
  • To provide the paper for photographic printing by effectively using an emulsion of an alkylketene dimer sizing agent in such a way as to exhibit high sizing performance with the same quantity and having no adverse effect on a photographic emulsion and being less liable to infiltration of a developing solution when applied to printing paper while stabilizing process and quality in a cost-wise advantageous manner without using excess chemicals.
    アルキルケテンダイマーサイズ剤エマルジョンをより効果的に用い、同量であっても高いサイズ性を発揮し、印画紙となした際、写真乳剤に悪影響を与えず、現像液のしみ込みの小さい写真用印画紙用紙を操業・品質を安定させ、かつコストメリットを持たせ、過剰な量の薬品を用いずに提供すること。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive siloxane composition which is used in formation of a planarizing film for a thin film transistor (TFT) substrate having such properties as high transmittance, heat resistance and insulation, an interlayer insulation film of a semiconductor device, or a core or cladding material of an optical waveguide, and which has high sensitivity, shortens developing time, and gives a pattern film readily soluble in an alkaline aqueous solution.
    高い透過率、耐熱性、絶縁性の特性を有する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板用平坦化膜、半導体素子の層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材などの形成に用いられる、高感度で現像時間を短縮でき、パターン膜がアルカリ水溶液に容易に溶解する感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁
  • The sulfite compound is present in an amount enough to react with all of the oxidized developing agent and the sulfite solution and the oxidizing agent solution are applied to the material by a method other than dipping in a tank.
    前記材料をハロゲン化銀現像主薬を含む現像液で現像すること、現像された材料の表面に、酸化された現像主薬と反応して、現像がさらに進むのを防止する亜硫酸塩化合物の溶液を適用すること、そして現像された材料の表面に、残留している現像主薬を酸化する酸化剤の溶液を適用することを含んでなり、前記亜硫酸塩化合物が、前記酸化された現像主薬の全てと反応するのに十分な量で存在し、そしてタンク中に浸漬させること以外の方法で、亜硫酸塩の溶液及び酸化剤の溶液を前記材料に適用する。 - 特許庁
  • The positive resist composition comprises a resin having repeating units with a specified alicyclic lactone structure and repeating units with a specified di- or trihydroxyadamantane structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified nitrogen compound.
    特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び特定のジ又はトリヒドロキシアダマンタン構造を有する繰り返し単位を各々有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤と、特定の窒素化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • To provide a method for replenishing a color developing solution for a silver halide color photosensitive material by which, in creation of a digital color proof using the silver halide color photosensitive material, variation of color tone and variation of density liable to occur in running processing are suppressed and an image with excellent color reproducibility can stably be obtained and to provide a dot area image forming method.
    本発明の目的は、ハロゲン化銀カラー感光材料を用いたデジタルカラープルーフの作製時に、ランニング処理で生じる色調の変動、濃度の変動を抑制し、優れた色再現性の画像を安定して得ることができるハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液の補充方法及び面積階調画像形成方法を提供することである。 - 特許庁
  • The method of granting metal ultrafine particles mainly made of silver dispersed in water and/or an organic solvent as metal colloid on a substrate and developing conductivity at the metal ultrafine particle containing part provided is to treat the metal ultrafine particle containing part in an aqueous solution of 60°C or more containing dicarboxylic acid with the carbon number of 3 or more.
    基材上に、水及び／または有機溶媒中に金属コロイドとして分散されている主に銀からなる金属超微粒子を付与し、設けられた金属超微粒子含有部に導電性を発現する方法であり、該金属超微粒子含有部に炭素数３以上のジカルボン酸を含有する６０℃以上の水溶液で処理する事を特徴とする導電性発現方法。 - 特許庁
  • In the photopolymerizable image-recording material obtained by disposing a photopolymerizable photosensitive layer, containing (i) a compound having an addition polymerizable ethylenically unsaturated bond, (ii) a photopolymerization initiator and (iii) a colorant on a base, a dye which is present as an aggregate of molecules in the photosensitive layer but is solubilized in an alkali developing solution is used as the colorant.
    支持体上にi）付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物、ii）光重合開始剤及びiii）着色剤を含有する光重合性感光層を設けてなる画像記録材料において、該着色剤として感光層中では分子集合体として存在するがアルカリ現像液に可溶化する色素を用いる光重合性画像記録材料。 - 特許庁
  • The positive type photosensitive composition contains (A) at least one compound having at least one carbonyl group and generating an acid when irradiated with active light to cause decomposition accompanied by intramolecular hydrogen radical transfer and (B) a resin having a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid.
    （Ａ）カルボニル基を少なくとも１つ有し、活性光線の照射により分子内水素ラジカル移動を伴って分解し、酸を発生する化合物を少なくとも一種、及び（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁
  • To provide a method for producing a planographic printing plate in which an alkali developing solution of a relatively low pH favorable to the environment and safety is used, a non-image area stably has good developability and is free of stain in printing and an image area is hardly damaged by development, ensures high image strength, does not cause printing trouble such as blinding in printing and stably achieves high printing resistance.
    環境、安全上好ましい比較的低ｐＨのアルカリ現像液を用い、安定的に、非画像部は良好な現像性を有し印刷での汚れがなく、かつ画像部に対して現像でのダメージが少なく強固な画像強度が得られ、更には印刷中にブラインディング等の印刷故障がなく、安定して、高い耐刷性を実現可能な平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a honeycomb body capable of being well bonded to an outer cylinder when the honeycomb body of which the cells have a hexagonal shape is formed by laminating corrugated metal foils of which the corrugations have a trapezoidal shape to be bonded to the outer cylinder and capable of developing sufficient cleaning capacity without wasting a wash coat solution or a noble metal, and a method for manufacturing the same.
    波形が台形の波型金属箔を積層してセルが六角形状のハニカム体を形成し、該ハニカム体と外筒とを接合してハニカム体を形成するに際し、ハニカム体と外筒との間で良好な接合を行うことができ、ウォッシュコート液や貴金属を無駄にすることなく、充分な浄化性能を発揮し得るハニカム体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • An external preparation for skin having excellent keratolytic effect, giving little stimulation to the skin and developing excellent keratolytic effect by compounding the preparation is produced by compounding one or more kinds of extracts obtained by extracting the whole grass or sprout of Medicago M. sativa belonging to the genus Medicago with water, a polar solvent or their mixture and adjusting the pH of the solution to 4.5-6.5.
    ウマゴヤシ属アルファルファ(Medicago M.sativa)の全草又はスプラウトの水又は極性溶媒又はその混液による抽出物を１種又は２種以上含有し、かつそれら溶液のｐＨが４．５〜６．５であるよう調整することにより、優れた角層溶解効果を有し、しかも、皮膚刺激が少なく、それを配合することにより優れた角層溶解効果を有する皮膚外用剤の提供を可能とした。 - 特許庁
  • The positive resist composition contains a base component (A), of which the solubility in an alkali developing solution is increased by the action of an acid and an acid generator component (B) generating an acid by exposure, wherein the base component (A) contains a polymer compound (A1), having a structural unit which is an acrylic compound having a dissociable group that includes a naphthalene ring.
    酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、ナフタレン環を含む解離性基を有するアクリル系化合物である構成単位を有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
  • The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition comprises: a low molecular weight compound (1) having a molecular weight of 500 to 5,000 containing an acid-decomposable group (G) that is decomposed by an action of an acid to accelerate the dissolution in an alkali developing solution; and a compound (2) capable of generating an acid of 305 Å^3 or more in volume upon irradiation with actinic rays or radiation.
    酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を促進させる酸分解性基（Ｇ）を有する分子量５００〜５０００の低分子化合物（１）および、活性光線又は放射線の照射により体積３０５Å^３以上の酸を発生する化合物（２）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性組成物。 - 特許庁
  • The pattern forming method includes: forming a film of a block copolymer, including at least two kinds of polymers, on a substrate; heating the block copolymer film; irradiating the heated block copolymer film with UV light; and supplying a developing solution to the UV light-irradiated block copolymer film.
    少なくとも２種類のポリマーを含むブロック共重合体の膜を基板に形成するステップと、前記ブロック共重合体の膜を加熱するステップと、加熱された前記ブロック共重合体の膜に紫外光を照射するステップと、紫外光の照射を経た前記ブロック共重合体の膜に現像液を供給するステップとを含むパターン形成方法が提供される。 - 特許庁
  • The active light sensitive or the radiation sensitive resin composition contains (A) a resin that has a repeating unit including structure represented by general formula (1) and a repeating unit including structure represented by general formula (I) and increases solubility in an alkali developing solution by the action of an acid, and (B) a compound that produces an acid by active light or radiation irradiation.
    （Ａ）下記一般式（１）で表される構造を含む繰り返し単位及び下記一般式（Ｉ）で表される構造を含む繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
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