「difference pattern」を含む例文一覧(1082)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 .... 21 22 次へ＞- The vibration value of the vertical grinder 1 is preliminarily measured while detecting the difference pressure between the gas pressures of a gas inlet 33 and a product outlet 39 during the operation of the vertical grinder 1 and the state of the difference pressure immediately before the measured vibration value exceeds the allowable range of the vertical grinder 1 is recorded as a boundary difference pressure pattern.
予め、竪型粉砕機１の運転中に、ガス導入口３３と製品取出口３９のガス圧力との差圧を検出しながら、竪型粉砕機１の振動値を測定し、測定した振動値が竪型粉砕機１の許容範囲を超える直前の差圧の状態を、境界差圧パターンとして記録する。 - 特許庁 - A difference between the number of recording marks obtained from a reproducing signal on the basis of the test pattern and the number of recording marks used for the recording is obtained, and the recording or reproduction laser power is set from a range of the recording or reproduction laser power when the difference reaches a prescribed number or below.
テストパターンに基づく再生信号から求めた記録マーク数と、記録に用いた記録マーク数との差を求め、その差が所定数以下になるときの記録または再生レーザーパワーの範囲内から記録または再生レーザーパワーを設定する。 - 特許庁 - In the correction process, the relation between the retreating amount of the sidewall from the edge of the light shielding film in the shifter part and the transmittance difference is preliminarily obtained, and then the retreating amount of the sidewall to give zero difference in the transmittance is determined, based on the relation to correct the device pattern of the mask.
補正に際し、シフター部における側壁が遮光膜端部から後退する側壁後退量と、透過率差との関係を求め、この関係から透過率差が０となる側壁後退量を求め、マスクのデバイスパターンを補正する。 - 特許庁 - When simultaneously winning the bonus and the small winning combination, winning the small winning combination alone, or winning the bonus alone in a regular game state after finishing the bonus, a pattern of continuous performance is selected according to the difference in the phenomena and the difference in the stages respectively.
ボーナス終了後の通常遊技状態においてボーナスと組み小役に同時当選、組み小役のみに当選、ボーナスのみに当選のそれぞれにおいて、これらの事象の違いとステージの違いに応じて連続演出のパターンが選択される。 - 特許庁 - To provide a colored embossed paper having a color difference between its flat areas and concaved areas and capable of making color of a substrate developed into an engraved pattern state, by subjecting at least one coating layer applied to a surface of the substrate to embossing finish in which the finish and control of the color difference is easily conducted.
基材の少なくとも片面に設けた塗工層に、加工や色差の制御が容易なエンボス加工を施すことにより、平坦部と凹部に色差を有し、基材の色を彫刻模様状に発現させた着色エンボス紙を提供する。 - 特許庁 - When the absolute value of the difference (a) is small, correlation values C and D are calculated with the corresponding characteristic part obtained when an environment condition is different and the template image of its similar pattern (S6), and a bus on a regular route is recognized on the basis of the difference (b) (S8 and S9).
差ａの絶対値が小さい場合には、環境条件が異なるときに得られる該特徴部とその類似パターンのテンプレート画像で相関値Ｃ、Ｄを求め（Ｓ６）、その差ｂに基づいて路線バスの認識を行なう（Ｓ８，Ｓ９）。 - 特許庁 - To provide a device and a method for precisely correcting the rotation and position deviation, magnification difference and orthogonality difference of two patterns when exactly overlapping or linking both the patterns by a pattern generator for preparing a photomask or the like.
フォトマスクを作成するようなパターン・ジェネレータで２つのパターンを正確に重ねまたは繋ぎ合せる場合に、両パターンの回転および位置ずれ、倍率差および直交性の差を精密に補正するための装置および方法を提供すること。 - 特許庁 - Pattern matching is performed with the two-dimensional images, for calculating a deviation between the positions of the two-dimensional images in X-direction or Y-direction in the unit of pixel, and for calculating a difference between the coordinates of the stage, to calculate a difference between the coordinates for each pixel.
これらの二次元画像についてパターンマッチングを行って二次元画像のＸ方向又はＹ方向の位置のずれをピクセル単位で算出するとともに、ステージの座標間の差を算出し、ピクセル当たりの座標間の差を算出する。 - 特許庁 - To provide a method of plasma-etching which is free from a difference in dense and sparse shapes which comes out between dense and sparse regions of a mask pattern in processing a device at spacing of 100 nm or less.
スペース幅が１００ｎｍ以下になるデバイスの加工で、マスクパターンの疎密領域間の疎密形状差が発生しないプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - The end part of the memory cell is subjected to optical proximity correction/process proximity correction(PPC) so as to decrease the dimensional difference in the finished pattern in the end region of the memory cell.
メモリセル部の端領域での仕上がりパターン寸法差を低減させるために、メモリセル端部に光近接効果補正／プロセス近接効果補正（ＰＰＣ）を行う。 - 特許庁 - To provide a low-beam lamp unit capable of improving visibility of a driver by increasing amount of light without generating a large contrast difference in a low-beam light-distribution pattern.
ロービーム配光パターン内に大きな明暗差を発生させずに光量を増加させることで、ドライバーの視認性を向上させたロービーム用灯具ユニットの提供。 - 特許庁 - Thus, the difference of the display contents of the special pattern display device is coped with by just mounting the card ROM different from the present one on the display control unit 41.
このため、表示制御ユニット４１に現状とは別のカードＲＯＭを装着する程度で特別図柄表示装置の表示内容の違いに対応できる。 - 特許庁 - To perform focus detection without depending on an object due to an object pattern or the like in a digital still camera which uses a color photographic sensor to perform phase difference type focus detection.
カラー撮影センサを用いて位相差方式の焦点検出を行なうデジタルスチルカメラにおいて、被写体パターン等による被写体依存のない焦点検出を行なう。 - 特許庁 - The recording device records a test pattern to detect a difference in the transfer amount of the sheet material between the amount before the sheet material gets out from the transfer roller and the pinch roller and the amount at the time when it gets out.
シート材に、そのシート材が搬送ローラーおよびピンチローラーから外れる前と、外れる際のシート材の搬送量の差を検出するためのテストパターンを記録する。 - 特許庁 - The additional means reads the pattern image to prepare brightness information (I(Z)) and determines a difference between predetermined brightness information (I(X)) and the brightness information (I(Z)).
追加手段は、パターン画像を読み取って輝度情報（Ｉ（Ｚ））を作成し、予め設定された輝度情報（Ｉ（Ｘ））と輝度情報（Ｉ（Ｚ））との差分を求める。 - 特許庁 - To prevent a minute difference in density between adjacent pixels on the background of each image area Sj of concern which is scanned within one window from adversely affecting pattern matching.
１ウインドウ内で走査される各対象部分画像領域Ｓｊの背景における隣接画素間の微小な濃度差が、パターンマッチングに悪影響を及ぼさないこと。 - 特許庁 - To prevent generation of steps on a surface to be polished due to the difference in the polishing rate by CMP in holes or regions of groove pattern with high and low densities on the semiconductor surface.
半導体基板における孔又は溝パターン密度の高い領域と低い領域でのＣＭＰにおける研磨レート差に基づく被研磨面の段差発生を防止する。 - 特許庁 - To suppress a decrease in yield of a semiconductor device due to a difference in growth amount between foreign bodies on a sunny side and a shade side of a pattern of an EUV mask.
ＥＵＶマスクのパターンにおける日向面側と日陰面側とで異物の成長量が異なることに起因する半導体装置の歩留まり低下を抑制する。 - 特許庁 - The phase of the segment period PLL clock is controlled by controlling the frequency division ratio, according to the phase difference between a sync pattern detection signal and the segment period PLL clock.
この際、シンクパターン検出信号とセグメント周期ＰＬＬクロックとの位相差に応じて分周比を制御することでセグメント周期ＰＬＬクロックの位相を制御する。 - 特許庁 - On the region including these step differences S1, S2, a first pattern difference P11 having a predetermined width over at least high and low levels is provided.
これらの段差Ｓ１，Ｓ２を含む領域上において、少なくとも高いレベルと低いレベルに渡って所定幅を有する第１パターンＰ１１が設けられている。 - 特許庁 - As an output (voltage) of a phase comparator 14 is varied based on phase difference, a delay time is compensated in accordance with the output (voltage), and the postscript clock pattern is recorded again.
位相差に基づいて位相比較器１４の出力（電圧）が変化するので、その出力（電圧）に応じて遅延時間を補正し、追記クロックパターンを再度記録する。 - 特許庁 - Based on any one of infrared images, pattern analysis is performed by an infrared image defect part decision means 12 by using a density difference of an image to determine a defect part.
赤外画像欠陥部位特定手段１２は、当該赤外画像のいずれか１枚に基づいて、画像の濃度差によってパターン解析を行い、欠陥部位を特定する。 - 特許庁 - The operator adjusts the amplification of an amplifying circuit 16 and a reference voltage of an A/D converter 18 so as to eliminate the difference between the white input picture and the luminance of the white test pattern.
オペレータは、白の入力画像と白のテストパターンの輝度の差がなくなるように、増幅回路の増幅率やＡ／Ｄコンバータの基準電圧を調整する。 - 特許庁 - In generating image used for collating in pattern recognition, contrast difference value about different combination of two pixel in a plurality of sample images are calculated.
パターン認識における照合に用いられる画像を生成するにあたり、まず複数の見本画像において２つの画素の異なる組合せについての濃淡差分値を計算する。 - 特許庁 - To provide a forming method of resist pattern wherein generation of defective profile, and the generation of dimension and profile difference in a wafer surface and/or in a shot can be controlled in an oil immersion exposing method.
液浸露光法において、不良形状、ウェハ面内及び／或いはショット内における寸法・形状差を抑制し得るレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - By using the metal mask for vapor deposition, the difference in the thermal expansion between the glass substrate and the mask is eliminated, and a vapor deposition pattern with high positional precision can be formed.
この蒸着用メタルマスクを用いることにより、ガラス基板とマスクとの熱膨張差が無くなり、位置精度の良い蒸着パターンを形成することができる。 - 特許庁 - To provide a method for correcting the mask data so as to correct the dimensional errors produced by the defocus state during exposure due to the difference in height of a base layer and by the proximity effect of the correction pattern.
下地層の高さの差による露光時の焦点ずれと、補正パターンの近接効果により生ずる寸法誤差を補正するマスクデータ補正方法を提供すること。 - 特許庁 - The selectivity in a deposition part of a water repellent material is improved by controlling the difference of the contact angles of the pattern composed of a water repellent part and a hydrophilic part to water to ≥80°.
撥水性部分と親水性部分からなるパターンの水に対する接触角差を８０度以上にして親水性物質の堆積部分の選択性を向上させる。 - 特許庁 - To form a conductive film, which has a steep slope at an end, secures a desired film thickness, and suppresses a difference in shape from a mask pattern, by using etching.
端部の勾配が急峻であり、所望の膜厚を確保することができ、マスクパターンとの形状の差が抑えられる導電膜を、エッチングを用いて作製する。 - 特許庁 - Since the absorbance of the sheet is mutually different depending on the quality of the sheet, the quality can be discriminated without being affected by an influence due to the difference of manufacturing steps like a density pattern.
紙の吸光度は紙質によって相違するため、濃淡パターンのように製造工程の相違による影響を受けることなく紙質を判別することが可能である。 - 特許庁 - To solve a problem that when a nozzle defect judging pattern is formed on a conveying belt, it is difficult to accurately read out it because the difference between the color of the conveying belt and the color of ink is small.
搬送ベルト上にノズル欠陥判定パターンを形成すると搬送ベルトの色とインクの色の差が小さいため正確に読取ることが困難である。 - 特許庁 - To enable "form out" regardless of a size difference of an inputted form, pattern misalignment, expansion and contraction of an input image, local transformation, and the like, in an OCR device.
ＯＣＲ装置において、入力された帳票のサイズ誤差、印刷ズレ、入力画像の伸縮、局所的な変形等に関わらず、フォームアウトを可能とする。 - 特許庁 - Further, a difference of the stage drive performance at the measuring position and the exposure position is corrected either or both in the substrate pattern position measuring step and the exposure step.
そして、上記計測位置と上記露光位置でのステージ駆動特性の差を、該基板パターン位置計測工程と該露光工程のいずれかもしくは両方で補正する。 - 特許庁 - To accurately discriminate a substantial difference between a registered imprint of a seal and an imprint of a seal to be collated according to an imprint pattern of the seal without being affected by how cinnabar ink is adhered, seal unevenness, or the like.
登録印影と被照合印影の本質的な相違を、朱肉の付着具合や押印むら等に影響されずに、印影パターンから正確に判別する。 - 特許庁 - To provide a thermal transfer film without lowering an adhesive strength of a transferred design by transferring the design to an article having a surface misalignment of a protrusion and recess pattern, embossing, a stepwise difference or the like.
凹凸、シボ、段差などの表面不整を有する物品にも絵柄を転写でき、かつ転写された絵柄の接着強度が低下しな熱転写フィルムを提供する。 - 特許庁 - Consequently, suppressed are shading due to a difference in source voltage between a pixel on a farther side and a pixel on a rear side resulting from a wiring resistance and lateral crosstalk during black window pattern display.
配線抵抗によって遠側画素と近側画素で電源電圧が異なることに起因するシェーディングや、黒ウインドウパターン表示時の横クロストークを抑制する。 - 特許庁 - To exactly discriminate the essential difference between a registered seal impression and a seal impression to be collated from a seal impression pattern without being influenced by a sticking degree of vermilion ink, unevenness of a sealing, etc.
登録印影と被照合印影の本質的な相違を、朱肉の付着具合や押印むら等に影響されずに、印影パターンから正確に判別する。 - 特許庁 - To provide a wiring forming method and an electronic-device manufacturing method wherein the dimensional-conversion difference can be reduced between its resist pattern and its antireflection film.
レジストパターンと反射防止膜との寸法変換差を小さくすることができるようにした配線の形成方法及び電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A counterfeit ink signal is output by the processor if the difference between the pattern color values and the authentic ink color values is greater than a threshold value so as to indicate counterfeit ink.
前記パターン色彩値と前記純正インク色彩値との差が、閾値よりも大きい場合には、プロセッサによって偽造インク信号が出力されて、偽造インクを示す。 - 特許庁 - At least either of the patterns of a pair of electrodes 16, 18 sandwiching the ESD protection film 12 may be formed, to have a comb shape or to give a difference in pattern width.
ＥＳＤ保護膜１２を挟んだ一対の電極１６，１８のパターンの少なくとも一方を、櫛型或いはパターン幅に差異をもたせて形成しても良い。 - 特許庁 - Here, the reflection type hologram lens pattern 10 has the groove depth of gratings so set that only the light of the 2nd wavelength λ2 is given a phase difference 2nπ.
ここで、反射型ホログラムレンズ・パターン１０は、第２の波長λ_2の光に対してのみ、２ｎπの位相差を与えるように、格子の溝の深さが設定されている。 - 特許庁 - A misalignment amount Δx caused by difference of optical diffraction depending on roughness of a pattern of a photomask exists between substrate side first and second alignment marks 33a, 33b.
基板側第１，第２アライメントマーク３３ａ，３３ｂ間には、光の回折作用がフォトマスクのパターンの粗密によって異なることに起因するずれ量Δｘが存在する。 - 特許庁 - To provide a non-ordinariness notification device for determining notification destination according to the content of a difference from a daily life pattern, and for determining the items of notification content according to the notification destination.
日常の生活パターンとの差異の内容によって通知先を決め、また、通知先によって通知内容の項目を決める非日常性通知装置を提供する。 - 特許庁 - To achieve stability of a pattern of a flow passage forming member with a simple configuration without adding a forming process of a flattening film for suppressing a step difference due to heater wiring.
ヒータ配線による段差を抑える平坦化膜の形成工程を追加することなく、簡素な構成で流路形成型材のパターンの安定性を実現する。 - 特許庁 - To manufacture a pattern phase difference film easily in a large amount, which can be applied to a three-dimensional image display employing a passive method.
パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、パターン位相差フィルムを容易かつ大量に作製することができるようにする。 - 特許庁 - A differential device 24 calculates a difference between an additional value of adding sample data, which are obtained by sampling an eye pattern with a Sample CLK, by four and a value obtained by delaying the additional value by one Sample CLK.
差分器２４は、アイパタンをSample CLKでサンプリングして得られるサンプル・データを４個ずつ加算した加算値と該加算値を１Sample CLK分遅延した値との差分を求める。 - 特許庁 - By polishing each part with which the fixed abrasive grain part 51 comes into contact without being influenced by a pattern step difference of the wafer, a whole wafer surface can be flatly polished.
また、固定砥粒部５１が接触した各部をウエハＷのパターン段差に影響されることなく研磨するので、ウエハ表面全体を平坦に研磨することができる。 - 特許庁 - In this recording system, for example, a magnetic pattern part is used as a logical value 0, and the content of recording is displayed by difference in ways of changes of magnetic poles as a combination of a logical value 1 and the logical value 0.
記録方式は、例えば磁気パターン部分を論理値０とし、記録内容を論理値１と論理値０の組合せとして磁極の変化の仕方の違いで表す。 - 特許庁 - To provide a wiring pattern that is suppressed in variation in resistance value resulting from a difference in the length of a wiring patter body by utilizing a slit capable of transmitting light.
光を透過可能なスリットを利用して配線パターン本体の長さが異なることに起因する抵抗値のばらつきを抑制した配線パターンを提供する。 - 特許庁 - To provide a highly reliable circuit board which can prevent stress load due to a difference in a wiring density of wiring pattern layers, and to provide a circuit apparatus using the same.
配線パターン層の配線密度の差に起因する応力負荷が低減された、高い信頼性を有する回路基板およびそれを用いた回路装置を提供する。 - 特許庁
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