「difference pattern」を含む例文一覧(1082)
＜前へ 1 2 .... 10 11 12 13 14 15 16 17 18 .... 21 22 次へ＞- The layout pattern data correction system for correcting the layout patterns of circuits by using simulation has means (53, 54 and 55) for correcting the layout pattern data in case a difference in level produced by an OPC reaches a prescribed reference value or above, by redividing the edge of the object for correction by repeating the division until the above difference in level attains the reference value or less.
シミュレーションを用いて、回路のレイアウトパターンを補正するレイアウトパターンデータ補正装置において、ＯＰＣにより発生する段差が、所定の段差の基準値以上となる場合に、段差が段差の基準値未満となるように繰り返し補正対象のエッジを再分割して、レイアウトパターンデータを補正する手段（５３、５４、５５）を有するレイアウトパターンデータ補正装置である。 - 特許庁 - An evaluation means evaluates by mathematically detecting a difference between the application load of the trainee measured by the load following capacity time-series data measuring part 3 and a load following pattern output by a load following pattern output means; and a loading condition setting part 5 adjusts the load following pattern according to the evaluation and outputs it.
評価手段では、負荷追従時系列データ計測部３により計測した被訓練者の印加負荷と、前記負荷追従パタン出力手段で出力した負荷追従パタンとの相違を数学的に検出して評価を行い、負荷条件設定部５では、その評価に従って負荷追従パタンの調節を行い出力する。 - 特許庁 - A weighted value corresponding to pixels in each part area is changed by differentiating a loss function for calculating a loss value of a difference degree or similarity from/to a standard pattern obtained by recognizing a learning pattern by a variable representing the weighted value and evaluating the differentiated value and a result obtained by recognizing the learning pattern.
部分領域ごとの画素に対応した重み値は、学習パターンの認識を行って得られた標準パターンとの相違度または類似度の損失値を求めるための損失関数を、重み値を表す変数によって微分し、この微分した値と学習パターンの認識を行って得られた結果を評価することによって変更されたものである。 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method for exactly indicating a difference in the developing method and a difference in the resist size due to the non-homogeneity of the developer and applying these information for the optimization of the developing conditions by taking into consideration a change in the concentration when the developer has a flow rate and incorporating the change in the concentration into a development model formula.
現像液に流速がある場合の濃度変化を考慮し、現像モデル式に組み込むことで、現像方法の違いや、現像液の不均一性によるレジスト寸法の違いを正確に表し、現像条件の最適化に適用し、レジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - Further, a detection level difference between a pair of microphones is obtained (S313), whether or not the microphone adjacent to the microphone detecting the highest level detects the second highest level is checked, and in this case, whether or not the detection level difference between the pair of microphones is coincident with a prescribed pattern is checked.
さらに、対のマイクロフォンの検出レベル差を求め（Ｓ３１３）、最大レベルを検出したマイクロフォンに隣接するマイクロフォンが２番目に高いレベルを検出したか否かをチェックし、その場合、対のマイクロフォンの検出レベル差が所定のパターンに一致しているか否かをチェックする。 - 特許庁 - This enables the addition of the difference in the content of the special performance image when switched from the performance image in the performance pattern display area 32a as speciality newly to each of the starter slots 6A and 6B, besides the difference in the lottery conditions in the entry with the game balls.
これにより、それぞれの始動口６Ａ，６Ｂに、遊技球入球時の抽選条件の違いだけでなく、演出図柄表示領域３２ａの演出画像が特別演出画像に切り換わる際の内容の違いという特殊性を、新たに持たせることができる。 - 特許庁 - When the density difference between the pixel under consideration and the pixel at the left side of it is equal to or more than prescribed and also the left pixel is lower in density, TBL2 is adopted as a paint-out pattern for the pixel under consideration in order to keep so that the density difference between the pixel under consideration and the left pixel is precipitous.
また、注目画素に対してその左側の画素との濃度差が所定以上あって、左側の画素の濃度が低い場合には、左画素との濃度差が急峻であることを維持するため、注目画素の塗りつぶしパターンとしてＴＢＬ２を採用する。 - 特許庁 - When a difference between the reference image and the real time image is calculated, a Euclidean distance between two images (two-dimensional pattern) included in the two blocks of the corresponding respective images is calculated, and the presence of the difference is judged based on the length of the Euclidean distance with respect to a threshold for every block.
基準画像とリアルタイム画像との差分計算を行う際には、対応する各画像の２つのブロックに含まれる２つの画像（２次元パターン）間のユークリッド距離を算出し、個々のブロック毎に設定した閾値に対するユークリッド距離の大小により差分の有無を判断する。 - 特許庁 - To provide a method and a device for relaxing the difference in heating occurring between an illumination part and a nonillumination part, accordingly, a stress difference, when forming the image of the pattern of a mask on a resist layer by electrons, ions or radiation such as an X ray or an ultraviolet ray, using a lithography projector.
リソグラフィ投影装置で、マスクのパターンを電子、イオン、Ｘ線または紫外線のような放射線によってレジスト層上に結像する際、照射部と非照射部の間に生ずる加熱差、従って応力差を緩和するための方法および装置を提供すること。 - 特許庁 - In the image forming apparatus, the difference between the scanning lengths of the respective laser beams on a surface to be scanned during one scanning between laser beams is detected using a pattern for detecting the main scanning length and a predetermined frequency is set to CLK generation circuits 804a and 804b to correct a scanning length difference.
画像形成装置においては、主走査走査長検知用パターンを用いてレーザ間の１走査中の被走査面上での各レーザの走査長の差を検知し、ＣＬＫ発生回路８０４ａ，８０４ｂに所定の周波数を設定することによって、走査長差の補正を行う。 - 特許庁 - In this case, analytic object data instructions for determining which data should be analyzed, a detection rule for determining the difference and the features, a normal pattern being the object of comparison for detecting the difference and an output method for detected signal are optionally set.
このとき、シグナル検出手段では、どのデータを対象とするかという分析対象データ指示や、差異および特徴点と判断するための検出ルールや、差異を検出する比較対象となる通常のパターン、ならびにシグナルを検出したときの出力方法をオプション設定する。 - 特許庁 - An area of an AlAs layer 15 to be oxidized is irradiated with laser light according to the pattern of a mask layer 18 and the difference in reactivity between the laser irradiated part and an unirradiated part is used to generate a difference in oxidation speed, thereby making the oxidation stop at a laser light irradiation boundary.
ＡｌＡｓ層１５の酸化させる領域へマスク層１８のパターンに従ってレーザ光を照射し、レーザ光照射部と非照射部に生じる反応性の違いを利用して酸化速度に差をつけ、レーザ光照射境界において酸化を自己停止させる。 - 特許庁 - A device for compression-coding the video signal comprises a means 101 for detecting a telecine conversion pattern, based on the difference quantity between frames; and selects either of an intraframe coding, forward inter-frame prediction coding, or bidirectional inter-frame prediction coding according to the telecine conversion pattern.
ビデオ信号を圧縮符号化処理する装置であって、フレーム間差分量に基づいてテレシネ変換パターンを検出する手段１０１を具備し、テレシネ変換パターンにしたがってフレーム内符号化、あるいは、前方向フレーム間予測符号化、あるいは、両方向フレーム間予測符号化を選択する。 - 特許庁 - To provide a low-cost automatic focus controller which detects an accurate focusing position even when the luminance difference of a subject in striped pattern or cyclic pattern and performs stable focusing operation even for a subject including a high-luminance part without being affected by disturbance such as noise.
被写体の輝度差が縞模様であったり、周期パターンであっても正確な合焦位置を検出し、高輝度部分を含んだ被写体に対しても、ノイズ等の外乱に影響されることなく、安定した合焦動作が可能な自動焦点制御装置を低コストで提供する。 - 特許庁 - An irregular pattern is formed to a part of the face, and the building board having design properties along the height difference of the irregular pattern is obtained by coating the face with shrinkage paints having little pigment components (much resin components) and utilizing the viscosity, fluidity, surface tension or the like of the shrinkage paints.
化粧面の一部に凹凸模様を形成し、該化粧面に顔料成分の少ない（樹脂成分の多い）ちぢみ塗料を施し、そのちぢみ塗料の粘性、流動性、表面張力等を利用し、凹凸模様の高低差に沿った意匠性を有した建築用板を得るものである。 - 特許庁 - When a compensation is to be made for the dispersion in the voltage amplitudes of input video signals, a maximum luminance test pattern, which is the object of comparison, is displayed in a portion of on-screen and an operator conducts an adjustment to reduce the difference between the test pattern and the input picture to maximum luminance video signals.
入力映像信号の電圧振幅のバラツキを補正する際に、比較の対象となる最大輝度のテストパターンをオンスクリーンの一部の領域に表示させ、このテストパターンと最大輝度の映像信号に対する入力画像との差をなくすようにオペレータに調整を行わせる。 - 特許庁 - To suppress the lowering of the accuracy of a detection angle caused by a distance difference between a sine-phase patterns and a cosine-phase coil pattern which is disposed at the stator side and constitutes an exciting coil or a detection coil, and a coil pattern which is disposed at the rotor side and constitutes a detection phase or an excitation phase.
ステータ側に配置された励磁コイルまたは検出コイルを構成するｓｉｎ相およびｃｏｓ相のコイルパターンと、ロータ側に配置された検出相または励磁相を構成するコイルパターンとの距離の違いに起因する検出角度の精度の低下を抑える。 - 特許庁 - To provide a cubic effect forming exterior material embodying actual metallic feeling and the cubic effect of a pattern using the difference of refraction, transmission and reflection by controlling the shape or numerical change of the formed pattern as well as the printing characteristics of metal paste (or ink) and a method of manufacturing the same.
成形されたパターンの形状や数値の変化と同時に金属ペースト（またはインキ）の印刷特性を調節し、屈折、透過、反射率の差を用いて実際の金属感及びパターンの立体感を具現する立体感形成外装材及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - Each pattern image is arranged with two patterns indicative of the closest image density and, as shown by pattern images L1 through L6, a range having a clear border line occurring from the difference of image density is set as the range of the quantity of exposure to be used for multi-gray scale representation.
このとき、各パターン画像には直近の画像濃度を示す２つのパターンが配置され、パターン画像Ｌ１からＬ６に示すように、画像濃度の差から生じる境界線が鮮明である範囲を、多階調表現に使用されるべき露光量の範囲として設定する - 特許庁 - To provide a game machine which can appeal the difference between a specific pattern jackpot and an ordinary pattern jackpot, when there are plural jackpots different in profit to the player, to a player himself/herself and players around to be able to heighten speculative mind.
遊技者への付与利益量の異なる特定図柄大当りおよび通常図柄大当り等の複数の大当りがある場合に、この差を遊技者および本人および周囲の遊技者に対してアピールして射幸心を高めることが可能な遊技機を提供すること。 - 特許庁 - By irradiating the composition with radiation through a pattern mask, the above component (C) and the component (A) in the irradiated part are decomposed to produce a difference in the refractive index between the irradiated part and the non- irradiated part to form a pattern having different refractive indices.
この組成物にパターンマスクを介して放射線を照射することにより、放射線照射部の上記（Ｃ）成分および（Ａ）成分が分解し、放射線照射部と放射線未照射部との間に屈折率の差を生じ、屈折率が異なるパターンが形成される。 - 特許庁 - In this instance, as all the sides are inclined to the rotational axis of the plate cylinder, there is no difference between the plate release characteristics of the flexographic printing plate 2 and a sealing agent in relation to either one of the sides of the transfer pattern 201, and as the result, the pattern is transferred by a uniform thickness.
このとき、転写パターン２０１のいずれの辺も、この版胴の回転軸に対して傾いているので、転写パターン２０１のいずれの辺に関し、フレキソ版２とシール剤の版離れ特性に違いがなくなり、その結果、均一な膜さでパターンが転写されることになる。 - 特許庁 - To solve problems in a conventional vehicle detector erroneously detecting existence of a vehicle in the case of a great difference from a vehicle pattern as a whole because the conventional detector calculates a correlation coefficient between a partial area edge image and a vehicle edge pattern for each partial area independently to find a maximum value of the correlation coefficient.
従来の車両検出装置は、部分領域のエッジ画像と車両エッジパターンとの相関係数算出を、各部分領域で独立に行い、相関係数の最大値を求めるため、全体として車両パターンと大きく異なる場合でも誤って車両ありと判定する。 - 特許庁 - Multipliers 32R, 32G, 32B multiply gain factors R_GAIN, G_GAIN, B_GAIN in response to a two-dimensional gradation pattern generated from a pattern generating section 31 with image signals Rin, Gin, Bin obtained by imaging an object respectively to reduce a contrast difference of an image indicated by the image signals.
被写体を撮像して得られた画像信号Ｒin，Ｇin，Ｂinにパターン発生部３１により発生される２次元のグラデーションパターンに応じたゲイン係数R_GAIN，G_GAIN，B_GAINを乗算器３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂで乗じることにより、上記画像信号により示される画像の明暗差を低減させる。 - 特許庁 - The setting of the length of the optical path of an illumination light IL at this parallel flat board 47 is changed, by changing the said parallel flat board 47 into the one of different thickness, based on the difference of line width between the image of an isolated line pattern Pa and the image of an L/S pattern Pb being measured in advance.
予め計測された孤立線パターンＰａの像とＬ／ＳパターンＰｂ像との線幅差に基づいて、前記平行平面板４７を異なる厚さのものに変更することにより、この平行平面板４７における照明光ＩＬの光路長を設定変更する。 - 特許庁 - To make surely performable comparison without treating the whole as comparison exclusion areas in a detailed image pattern part even when a comparison exclusion area with sufficient width is set so that difference between normal image patterns from each other can not occur to a relatively rough image pattern part.
比較的粗い画像パターンの部分に対して正常な画像パターンどうしで差異が生じないように十分な幅の比較除外領域を設定した場合でも、微細な画像パターンの部分においてすべてを比較除外領域とすることなく確実に比較を行う。 - 特許庁 - To make compensatable the adverse effect of a dimensional difference occurring, when backward scattering electrons generated at the time of electron beam exposure cover light exposure pattern in the vicinity of an EB exposure area, by light exposure pattern formed on a photomask, and to eliminate a need of complicated calculation for plotting the photomask.
電子ビーム露光時に発生する後方散乱電子が、ＥＢ露光領域に近接する光露光パターンに振りかぶることで生じる寸法差の影響を、フォトマスクに形成する光露光用パターンで補正することができ、且つフォトマスクの描画に際して複雑な計算を必要としない。 - 特許庁 - When a user 511 binds a book in a different binding pattern, PC504 searches an alternative means instead of the binding pattern of a bound book 209 based on binding information 203 (S607), and PC504 offers and displays the alternative means which has least difference to the user 511 (S608).
ユーザ５１１が異なる製本形態で製本を行う場合は、ＰＣ５０４は製本物２０９の製本形態に代わる代替手段を、製本情報２０３をもとに検索し（Ｓ６０７）、ＰＣ５０４は最も相違度の小さい代替手段をユーザ５１１に提案して表示する（Ｓ６０８）。 - 特許庁 - To provide a composition permitting easy change in its refractive index of a material resulting in a sufficiently large difference in refractive indices thereby to give a stable refractive index pattern and an optical material which are not affected by service conditions thereafter, and a method for forming the refractive index pattern and the optical material.
材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンおよび光学材料を与える組成物ならびにそれを形成するための方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide inexpensive copy forgery preventing paper having a hidden pattern indiscernible by the naked eye and capable of certainly developing the hidden pattern even if copied in any density by a copier of any copy system to clear the difference between the original paper and a copy.
本発明は、隠し模様の肉眼での識別が不可能で、どのような濃淡および複写方式のコピー機で複写しても確実に隠し模様が現出して本券用紙と複写物との差異を明確にすることができる、低コストのコピー偽造防止用紙を提供することを目的とする。 - 特許庁 - An image process condition of the printing area is corrected from a test pattern detection result of the out-of-printing area on the basis of the information of a difference between an image state obtained from the test pattern detection result of the out-of-printing area and an image state of the printing area obtained by scanning a test chart 1,150.
印刷外領域のテストパターン検知結果から得た画像状態と、テストチャート１１５０を走査して得た印刷領域の画像状態の差の情報を元に、前記印刷外領域の前記テストパターン検知結果から、前記印刷領域の画像プロセス条件を補正するようにした。 - 特許庁 - The case body 2 is formed by using a plastic material with which polarization pigment is kneaded to change the coloring state and the color pattern diversely according to the difference of the angle and the direction of light when the case body 2 is viewed.
偏光性顔料が混練されたプラスチック材でケース体２を成形し、ケース体２を見る時の角度や光の方向の違いに応じて呈色状態や色模様が多様に変化できるようにする。 - 特許庁 - To provide an exposure method comprising an exposure correction method for correcting variations in dimensions caused by a density difference of a pattern which occurs during processing in addition to a proximity effect correction and fogging exposure correction.
近接効果補正及びかぶり露光補正に加えて、プロセス上で生じるパターンの疎密差に起因した寸法ばらつきを補正する露光量の補正手法を備えた露光方法を提供する。 - 特許庁 - To record a test pattern with which a color shift can be visually detected highly accurately in a process of correcting the color shift caused by a difference in output characteristic of recording heads of a recording apparatus.
記録装置における記録ヘッド個々の出力特性の違いに起因した色ずれを補正する処理において、目視による色ずれ検出を高精度に行うことが可能なテストパターンを記録する。 - 特許庁 - To prevent bubbles from being left or the crack from being generated by allowing a ceramic paste to surely enter the inside of a conductor pattern even if a difference of height is large when a coil is wound by one turn.
１ターン分を巻いたときの高低差が大きい場合でも、セラミックスペーストが導体パターンの内側にも十分に入り込み、気泡が残ったり、亀裂が発生するのを防止できるようにする。 - 特許庁 - To provide an overlay vernier of a semiconductor element that not only prevents pattern defects due to a level difference thereof caused when carrying out the exposure for forming a sub vernier but also accurately measures the alignment degree thereof.
子バーニアを形成するための露光工程時に段差によるパターン不良が生じるのを防止し、整列度を正確に測定できる半導体素子のオーバーレイバーニアとその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce a variance of film thickness of an insulation film on a wiring layer after the insulation film is flattened, when there is any difference of density of wiring pattern between the imaging area and the peripheral circuit area of a solid-state imaging device.
固体撮像装置の撮像領域と周辺回路領域とで配線パターンに疎密差がある場合における、配線層上の絶縁膜の平坦化後の膜厚のばらつきを低減する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a multilevel gradation photomask, by which a resist level difference structure having different resist residual film values within the film plane can be formed with high accuracy, and thereby, a mask pattern with high accuracy can be formed.
面内でレジスト残膜値の異なるレジスト段差構造を精度良く形成することができ、これによって精度の高いマスクパターンを形成できる多階調フォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a size measuring mark which can detect a fault at the initial stage of a process by combining the step difference of a lower layer and the pattern roughness, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device and a semiconductor device.
下層の段差とパターン疎密を組み合わせることにより、プロセス初期段階での異常検出が可能な寸法測定マーク、半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁 - When the difference quantity is maximized, it is possible to sample a video signal little influenced by rounding, therefore, it is possible to perform the phase adjustment of the sampling clock without necessity for a specific pattern of an input signal.
差分量が最大となれば、なまりの影響の少ない映像信号レベルをサンプリングできるため、特定パターンの入力信号を必要とせずにサンプリングクロックの位相調節を実施できる。 - 特許庁 - This pneumatic tire has a tread pattern in which lugged main grooves 2 are arranged at preset peripheral array pitches in both-side tread shoulder areas while having a peripheral phase difference in both-side areas.
両側トレッドショルダー領域に所定の周方向配列ピッチで、かつ両側域間で周方向位相差を有してラグ主溝２が配設されているトレッドパターンを有する空気入りタイヤである。 - 特許庁 - The information is binarized using a difference in reflection rate between the unpainted spots 21 and the painted spots 21a, and thus, the copper pattern 20 can be used as two-dimensional identification information.
塗料が塗布されていないスポット２１と、塗料が塗布されたスポット２１ａの反射率の違いにより二値化を行なうことで、銅パターン２０を２次元の識別情報として用いることができる。 - 特許庁 - In the forgery determination unit 2b, a difference in the amount of light transmission occurs by a change in thickness of the metal thin film layer 2, a gradation is developed in transmitted light 24, and the preset pattern can be observed.
偽造判別部２ｂでは、金属薄膜層２の厚みの変化によって光の透過量に差が生じ、透過光２４に階調が発現して予め設定した絵柄を観察する事ができる。 - 特許庁 - To repair the defective spot of a decorative material with an uneven pattern applied to the surface by ink-jet coating by producing no feeling of difference from a part other than the defective spot.
表面に凹凸を有した模様が施された化粧材の不良箇所を、その不良箇所以外の部分との違和感を生じさせることなくインクジェット塗装により補修できるようにする。 - 特許庁 - Accordingly, by applying electric voltage to the first test pattern, and analyzing the difference between resistance in cases with and without metal failure in the metal patterns, a form or a size of the metal failure is detected.
これにより、前記第１テストパターンに電圧を印加して、前記金属パターンの金属フェイルがない場合とある場合との抵抗差異を分析して、金属フェイルの形態やサイズを検出することができる。 - 特許庁 - An interpretation part 201 interprets metadata of XML format generated by a metadata control part 102, and generates an analysis table so that it can be used in a difference calculation part 202 and a pattern detection part 204 thereafter.
解釈部２０１は、メタデータ制御部１０２によって生成されたＸＭＬ形式のメタデータを解釈し、以後の差分計算部２０２、パターン検知部２０４で利用できるように、解析テーブルを生成する。 - 特許庁 - To improve reliability by reducing difference data quantity by coping even with a pattern other than displacement, insertion, and deletion, and correcting the erroneous comparison/judgement of new and old files by following processing.
置換、挿入及び削除以外のパターンにも対応可能として差分データ量を低減し、新旧ファイルの比較判定を誤っても後続する処理により訂正可能として信頼性を高める。 - 特許庁 - A plurality of fingerprint data corresponding to the difference in the pattern detected is registered and those to be compared are selected from the fingerprint data to be compared with the input fingerprint data thereby further improving the authentication function of the fingerprints.
検知形態の異なる複数の指紋データを登録し、その指紋データから比較対象を選択し、入力指紋データと比較することにより、指紋の認証機能を向上させている。 - 特許庁 - The CPU 5 determines the maximum absolute value Xab of operation AB phase difference during operation of a movable body 4 in a predetermined pattern at a set drive frequency f_dr and decides whether Xab>80° is satisfied or not.
ＣＰＵ５は、設定した駆動周波数ｆ＿ｄｒで、移動体４の所定パターンの動作中の、操作ＡＢ位相差の絶対値の最大値Ｘａｂを求め、Ｘａｂ＞８０°であるか判定する。 - 特許庁 - To provide a plasma processing method that decreases pattern difference and that performs uniform processings, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device using the same, in a multilayered film containing a number of films having different gas permeabilities.
ガス透過性が異なる膜を含む多層膜において、パターン差を低減し均一な加工を行うプラズマ処理方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
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