「difference pattern」を含む例文一覧(1082)
＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 21 22 次へ＞- To manufacture a high-quality pattern phase difference film easily in a large amount, which can be applied to a three-dimensional image display employing a passive method.
パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、高品質なパターン位相差フィルムを容易かつ大量に作成することができるようにする。 - 特許庁 - Only a defect image part is extracted by a difference processing of an absorption current image of inspection wiring and a reference wiring pattern image, and it is overlapped with an SEM image.
検査配線の吸収電流像と、基準配線パターン像との差分処理で欠陥像部分のみを抽出し、さらにこれをＳＥＭ像に重畳する。 - 特許庁 - A consultant side 13 receives design data of a target circuit pattern of an integrated circuit device, a difference between a pattern form formed on a substrate using the design data and the design data, and manufacturing process information when the circuit pattern is formed on the substrate from a manufacturer side 11 via a network 12.
製造者１１側からコンサルタント１３側が、集積回路装置における目標とする回路パターンの設計データと、前記設計データを用いて基板上に形成されたパターン形状と前記設計データとの差異と、前記回路パターンを基板上に形成した際の製造工程情報とを、ネットワーク１２を介して受け取る。 - 特許庁 - In accordance with a difference between the size of an actual pattern obtained by processing under an exposure condition reduced in the change of the pattern size even when the focus of light in exposure is changed or a pivotal point, and a mask pattern size or a pivotal shift, a switching picture for switching whether a substrate processing condition is set or not is indicated to operate the processing device.
露光での光の焦点が変化してもパターン寸法の変化が少ない露光条件であるピボタルポイントで処理されて得られた実際のパターン寸法と、マスクパターン寸法との差分であるピボタルシフトに応じて、基板処理条件を設定するか否かを切り換える切換画面を表示して操作する。 - 特許庁 - When a picture pattern designating command is received before receiving a variation pattern command, a CPU for display control calculates time necessary to stop the rotation of a drum motor in the state of displaying stopped picture patterns depending on a difference between data showing left, right and middle stopped picture patterns and data showing present display picture pattern data.
変動パターンコマンドを受信していないうちに図柄指定コマンドを受信した場合には、表示制御用ＣＰＵは、左右中の停止図柄を示すデータと現在表示図柄データを示すデータとの差に応じて、停止図柄を表示した状態でドラムモータの回転を停止するまでの時間を算出する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material capable of pattern formation without carrying out a developing step after exposure and capable of forming definite two regions having a great difference between hydrophilicity and hydrophobicity by a polarity change and to provide an image forming material using the pattern forming material and capable of forming a high resolution image.
露光後、現像工程を行うことなくパターン形成が可能であり、かつ、極性変化により親水性と疎水性の差が大きく明確な２つの領域を形成することが可能であるパターン形成材料、及びそれを用いた高解像度の画像形成が可能な画像形成材料を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To increase a work function difference between a metal compound used in the gate electrode pattern of a n-channel MOS transistor and a metal compound used in the gate electrode pattern of a p-channel MOS transistor, in the n-channel MOS transistor which is formed in a gate first process and which uses the metal compound as the gate electrode pattern.
ゲートファーストプロセスで形成できる、金属化合物をゲート電極パターンとして使うｎチャネルＭＯＳトランジスタにおいて、ｐチャネルＭＯＳトランジスタのゲート電極パターンに使われる金属化合物に対し、前記ｎチャネルＭＯＳトランジスタのゲート電極パターンに使われる金属化合物の仕事関数差を増大させる。 - 特許庁 - To provide a formation method of a silicon oxide film in which, upon forming a round shape at a corner of silicon at an upper end of a projection of a pattern, the silicon oxide film can be formed at a uniform film thickness without causing a film thickness difference by a nondense and dense state of the pattern.
パターンの凸部上端のシリコンのコーナーに丸み形状を形成した上で、パターンの疎密による膜厚差を生じさせずに均一な膜厚でシリコン酸化膜を形成することが可能なシリコン酸化膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a decorative sheet having a thin metal film in which as a decorative layer, a clear level difference is not formed between a pattern part and a pattern background part and to provide a method for manufacturing such a decorative sheet by a simple operation.
加飾層として、絵柄部分と絵柄背景部分の間に明確な段差が形成されていない金属薄膜を有する加飾シートを提供すること、及びそのような加飾シートを簡便な操作によって製造する方法を提供する。 - 特許庁 - The mask patterns meeting circuit design and eventually the resist patterns are obtained with good accuracy without appearance of the degradation in the accuracy of the pattern accuracy in the etching by a difference in the aperture ratios occurring in a so called loading effect at the chip pattern.
これらのこと等により、いわゆる局所的なローディング効果を原因とした開口率の違いによるエッチング時のパターン精度低下がチップパターンに現れることなく、回路設計に応じたマスクパターンひいてはレジストパターンが精度良く得られる。 - 特許庁 - To provide a transparent conductive film with a transparent conductive layer patterned in which deterioration of appearance due to difference of hue of reflection light between a pattern portion and the immediately below the pattern opening part can be controlled, and a touch panel using the same.
透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部の直下との間での反射光の色相の相違による見栄えの悪化を抑制できる透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。 - 特許庁 - To provide a rolling emboss-finishing method capable of imparting an emboss pattern with large difference in unevenness level by easily positioning the unevenness formed on surfaces of upper and lower rolls when imparting the emboss pattern on a surface of a steel sheet by the rolling method.
圧延法により鋼板表面にエンボス模様を付与するに当たり、上下ロール表面に形成した凹凸の位置合わせを容易にして、凹凸高低差の大きいエンボス模様の付与が可能な圧延エンボス加工方法を提供する。 - 特許庁 - The conductor layer is formed as a circuit pattern 11, a first part 12 and a second part 13 are provided on the circuit pattern 11, and the first part 12 is provided at a position higher than the second part 13 with a difference in height between the first part 12 and the second part 13.
導電層を回路パターン１１にし、回路パターン１１に第一部分１２及び第二部分１３を設け、第一部分１２及び第二部分１３には高度差があり、第一部分１２の高度を第二部分１３より高くする。 - 特許庁 - In this case, the predetermined pattern is a pattern which has the same shape as that of the light-shielding layer 11, is subtly wider than the light-shielding layer 11 and can cover a first inclined surface 12S of the buffer film 12 in which the step difference of the light-shielding layer 11 is reflected.
ここで、所定のパターンは、遮光層１１と同一の形状であるが、僅かに遮光層１１より広く、遮光層１１の段差が反映されたバッファ膜１２の第１の傾斜面１２Ｓを覆うことができるパターンである。 - 特許庁 - A pattern having gloss difference or a tuning uneven pattern due to liquid repelling effect is provided to the surface protective layer or an uneven shape is provided thereto and color ink is applied to recessed parts to impart three-dimensional design effect.
また、前記表面保護層に、光沢差を有する模様を設け、又は撥液効果等による同調凹凸模様を設け、或いは凹凸形状を設けて凹部に着色インキを施すことによって、立体的な意匠効果を与えることができる。 - 特許庁 - A band-pass filter 14 selects a wavelength range from a wavelength range of the light having a blocked infrared components so as to maximize the difference between the quantity of the light reflected by the top layer wiring pattern and the quantity of the light reflected by the base film and the wiring pattern.
バンドバスフィルタ１４は、赤外線成分を遮断された光の波長域から、最上層配線パターンにおける反射光量と、ベースフィルム及び配線パターンにおける反射光量との差が最も大きくなる波長域を選択する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device which reduces loading effect by dry etching that occurs due to density difference between a test pattern for estimating transistor characteristics and a pattern in a pixel main body and that causes different processed shapes and displays different characteristics in a process for forming a TFT thin film transistor of the liquid crystal display device.
液晶表示装置のＴＦＴ薄膜トランジスタ形成工程において、トランジスタ特性を評価するテストパターンと画素本体内のパターンの密度差からドライエッチによるローディング効果で、加工形状が異なり、特性に差が現れる。 - 特許庁 - The query is configured of a retrieval pattern, a pivot (node as the reference of retrieval pattern extension), the maximum depth difference in the case of retrieving an extended node form the pivot, the maximum number of extended nodes to be presented in the order of frequency and a flag designating whether to retrieve the high rank node.
クエリは、検索パターン、ピボット（検索パターン拡張の基準とするノード）、ピボットから拡張ノードを探す際の最大depth差、頻度順に提示する拡張ノードの最大数、及び上位ノードを探すかどうかを指定するフラグから構成される。 - 特許庁 - Thereby, an additional light distribution pattern is added which irradiates the diagonally front road surface of the vehicle widely from a distant region to the this-side region with brightness having no large brightness difference to the relatively dark portion of the side edge of a basic light distribution pattern.
これにより、基本配光パターンの側端縁の比較的暗い部分に対して大きな明暗差がない明るさで車両斜め前方路面を遠方領域から手前側領域まで幅広く照射する付加配光パターンを付加する。 - 特許庁 - A Q value showing an intensity difference between right and left edges of a signal obtained from the photoelectric detection of a pattern image is approximated to a specified order function, related to the defocus quantity Z of a pattern on a focus position corresponding with Gaussian mirror surface of the image formation optical system.
パターン像を光電検出して得られる信号の左右エッジの強度差を表すＱ値を、結像光学系のガウス像面に対応するフォーカス位置に対するパターンのデフォーカス量Ｚに関する所定次数の関数に近似する。 - 特許庁 - Also, line impedance with the same pattern width matches by making the tester board substrate 101 a film substrate with the same material and thickness as the film substrate 70 and a phase difference is eliminated by mutually equalizing line lengths of the line pattern on the substrate 70.
またテスタボード基板１０１をフィルム基板７０と同じ材質で同じ厚みのフィルム基板にすることで、同一のパターン幅で線路のインピーダンスを合わせ、さらにフィルム基板７０上線路パターンの線路長を互いに等しくして位相差を無くす。 - 特許庁 - Since the step difference of the pattern of the substrate position detecting mark is allowed to get large with this constitution, the S/N ratio of the position detecting signal is enlarged, so as to shorten the time required for the position detection by the pattern of the substrate position detecting mark.
この構成によれば、基板位置検出用マークのパターンの段差を大きくすることが出来るため、位置検出信号のＳ／Ｎ比を大きくすることができ、基板位置検出用マークのパターンによる位置検出にかかる時間が短縮できる。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method in which light is radiated on a part of a titanium (Ti) metal formed on a layer to be etched to form a titanium oxide(TiOx) film, and then a pattern is formed on the layer to be etched using the difference of the etching rates.
エッチング対象層上に形成されるチタン（Ti）金属の一部に光を照射してチタン酸化物（TiOx）膜を形成した後、そのエッチング速度の差を利用してエッチング対象層にパターンを形成するパターン形成方法を提供しようとする。 - 特許庁 - To enhance defect detection sensitivity at a pattern edge portion by improving the method of determining a correction amount, as to correction of gray level difference at the pattern edge portion performed in an image defect inspection method used for a visual inspection device for a semiconductor circuit.
半導体回路の外観検査装置に使用される画像欠陥検査方法で行う、パターンエッジ部分におけるグレイレベル差の補正において、補正量の決定方法を改善して、パターンエッジ部分における欠陥検出感度を向上する。 - 特許庁 - A positional deviation detecting pattern is formed based on image data to which coordinate correction is performed in areas other than a level difference suppressing area 51 without performing the coordinate correction of pixel unit of the image data in a subscanning direction in the level difference suppressing area 51 in a main scanning direction.
主走査方向における段差抑制領域５１では副走査方向についての画像データの１画素単位の座標補正を行わず、段差抑制領域５１以外で座標補正が施された画像データに基づき、位置ずれ検出用パターンを形成する。 - 特許庁 - The height difference from a point adjacent to an object point is then computed from height information obtained from the range data, and a feature quantity of a height difference pattern satisfying a certain fixed condition is computed to correct the extraction region of range data using the feature quantity.
続いて、レンジデータから得られる高さ情報から対象点に隣接する点との高低差を算出し、その高低差のパターンが或る一定の条件を満たす特徴量を算出し、その特徴量を利用してレンジデータの抽出領域を補正する。 - 特許庁 - This three-dimensional model formation device receives a processing range by a command of an operator, calculates a height difference between an object point and an adjoining point from distance information obtained from the range data, and calculates a feature quantity related to an edge having such a shape that the height difference is formed into a certain specific pattern.
オペレータの指示により処理対象領域を受け付け、レンジデータから得られる距離情報から対象点と隣接する点の高低差を算出し、その高低差が或る特定のパターンとなる形状のエッジに関する特徴量を算出する。 - 特許庁 - Furthermore, a signal propagation time difference among the plural lines is detected based on a reception timing of the test pattern PB received through each of the plural lines and signals received via the plural lines are synchronized with each other according to the time difference.
また、前記複数の回線各々を介して受信したテストパターンＰBの受信タイミングに基づいて、前記複数の回線間の信号伝搬時間差を検出し、この時間差にしたがい、前記複数の回線各々を介して受信した信号を互いに同期させる。 - 特許庁 - Also, based on the reception timing of the test pattern PB received through the plurality of lines, respectively a signal propagation time difference between the plurality of lines is detected and the signals received through the respective plural lines are synchronized with each other corresponding to the time difference.
また、前記複数の回線各々を介して受信したテストパターンＰBの受信タイミングに基づいて、前記複数の回線間の信号伝搬時間差を検出し、この時間差にしたがい、前記複数の回線各々を介して受信した信号を互いに同期させる。 - 特許庁 - In this method, a test pattern for color gamut confirmation is generated by configuring setting so that the signal levels of a luminance signal Y and a single color difference signal Cb may gradually change in a horizontal direction and a residual color difference signal Cr may gradually change in a vertical direction.
本発明は、輝度信号Ｙ及び１つの色差信号Ｃｂの信号レベルが水平方向に順次変化するように、また残る色差信号Ｃｒが垂直方向に順次変化するように設定等して色再現領域確認用のテストパターンを生成する。 - 特許庁 - Quality of the conductive pattern based on values of the resistance component and the reactance component in the inspection object is discriminated based on a level difference and a phase difference between voltages and currents detected about the high-frequency signal in the inspection object and the high-frequency signal in the circuit element.
そして、検査対象における高周波信号と回路素子における高周波信号とについて検出した電圧、電流のレベル差、位相差をもとに、検査対象の抵抗成分とリアクタンス成分の値に基づく導電パターンの良否識別を行う。 - 特許庁 - An interpolation processing circuit 14 processes signals of pixels laid out in a checkered pattern and having the sensitivity of G light with high accuracy, color difference signals are calculated respectively at pixel positions of R and B lights, interpolation processing circuits 18, 19 apply interpolation processing to the color difference signals, synthesizing the color difference signals for all the pixels can obtain color pixel signals almost without a color false signal.
市松状に配置されたＧ光の感度を有する画素信号を高精度に補間処理回路１４を用いて処理し、Ｒ，Ｂ光の画素位置でそれぞれ色差信号を算出し、補間処理回路１８，１９による補間処理を行い、全画素の色差信号を合成することで、色偽信号のほとんどないカラー画素を得る。 - 特許庁 - To realize the improvement of a recognition rate and the shortening of a processing time by reading a code pattern with an illumination color being the factor of the generation of the luminance difference when the optimal luminance difference is confirmed, in a process for successively switching and generating a plurality of different illumination colors, and for preliminarily measuring an illumination difference for each illumination color.
異なる複数の照明色を順次切り替え発生させながら、照明色毎に明度差を事前に計測している過程において、最適な明度差を確認した時点で、この明度差を生じさせた照明色でコードパターンの読取を行うことで、認識率の向上と共に処理時間の短縮化を実現できるようにする。 - 特許庁 - The laminate film 502 is spirally rolled by a force generated by the difference of the lattice constants and within the laminate film of the roll part 503, a periodic conductor pattern is formed.
積層膜５０２は、上記格子定数の差によって生じた力によって渦巻き状に巻かれており、ロール部５０３の積層膜内には、周期的な導電体パターンが形成されている。 - 特許庁 - A key information extract section 11 reads a plurality of image data recorded on a recording medium 10 and extracts key information, corresponding to each image pattern (the difference between two successive image patterns.
キー情報抽出部１１は、記録媒体１０に記録されている複数の画面データを読み出し、各画面に対応するキー情報（前後する２画面の間の差分量）を抽出する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which dimensional conversion difference of an etching pattern can be controlled over a wide range by taking a measure other than the resizing of a photomask, and to provide a dry etching system.
フォトマスクのリサイズ以外の方策で対処すべく、大きい範囲で寸法変換差を制御し得る半導体装置の製造方法及びドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁 - Combinations with small gradation difference adjacent to one another are grouped on the basis of decision results, and the pattern of the grouped combinations is collated with predetermined table data.
そして、判定の結果に基づき、階調差が小さい組合せで隣り合ったもの同士をグループ化し、グループ化された組合せのパターンとあらかじめ定めるテーブルデータとのパターン照合を行う。 - 特許庁 - To provide a method for correcting optical proximity effect and an apparatus therefor for carrying out optical proximity effect correction in a layout design pattern having a minute level difference without degrading the accuracy.
微小段差を有するレイアウト設計パターンについて精度を劣化させることなく光近接効果補正を行える光近接効果補正方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a technology for accurately inspecting pattern defect by eliminating a difference in level between sensor data and reference data, and eliminating recognition errors in detecting defects.
パターンの欠陥を検査する技術で、センサデータと参照データのレべル差を解消し、欠陥検出の際の誤認識を無くして、正確な欠陥検査を行う技術を提供すること。 - 特許庁 - A shape measuring processing part 24 extracts the image having the maximum difference of the brightness value corresponding to the high brightness part and the low brightness part of the brightness pattern from the plurality of images imaged by the CCD camera 10.
形状測定処理部２４は、ＣＣＤカメラ１０が撮像する複数の画像から、輝度パターンの高輝度部と低輝度部に対応する輝度値の差が最大の画像を抽出する。 - 特許庁 - The amount of the displacement of each node 11 is obtained from the difference between the internal stress applied to each node 11 before the pattern aperture 3 exists and the force acting on each node 11 after the accumulation.
パターン開口３が存在する前の各節点１１にかかる内部応力と累積後の各節点１１に作用する力との差から、各節点１１の変位量を求める。 - 特許庁 - To provide an image conversion method and apparatus, and a pattern identification method and apparatus which allow converted values having dimensions lower to some extent to preferably express the difference between conversion source patterns in image conversion using LBP or vector quantization.
ＬＢＰやベクトル量子化等を用いた画像変換において、変換後の値が、変換元のパターンの違いを、ある程度低次元な値で且つ好ましく表現することを可能とする。 - 特許庁 - A defect detection unit included in a defect correction device generates a defect region image being a difference image between a defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image.
欠陥修正装置が備える欠陥検出部が、多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像との差画像である欠陥領域画像を生成する。 - 特許庁 - After an epitaxial growth process is carried out, line widths Dx and Dy become nearly equal to each other or approximate Dx=Dy, and the sensitivity difference becomes small when the pattern is detected, so that alignment operation can be improved in alignment accuracy.
エピタキシャル成長後の線幅は、（ｂ）に示すように、ＤＸ＝ＤＹに近くなり、パターン検出の際の感度の違いが小さくなり、位置合せの精度を向上させることができる。 - 特許庁 - Further, the difference between the shrinkage factor from the calcination starting temperature of the green sheet to 480°C and the shrinkage factor of the conductor pattern from the starting temperature of calcination to 480°C is set so as not to be higher than 3.5%.
更に、グリーンシートの焼成開始から４８０℃までの収縮率と、導体パターンの焼成開始から４８０℃までの収縮率との差が３．５％以下となるように設定する。 - 特許庁 - To easily form a correction pattern effective for preventing the deformation of a gate size occurring in the level difference portion consisting of a boundary between the diffusion region and element separation region of a transistor(TR).
トランジスタの拡散領域と素子分離領域との境界からなる段差部分に起因したゲート寸法の変形を防止する有効な補正パターンを簡便に生成できるようにする。 - 特許庁 - To reduce difference between a drawing area of an input image and a graphic image included in a hatching pattern as small as possible when applying hatching to the drawing area of the input image.
入力画像の描画領域にハッチング処理を施す際に、そのハッチングパターンに含まれる図形画像と入力画像の描画領域との間のずれをできるだけ小さくする。 - 特許庁 - To sufficiently assure lithography process tolerance, such as exposure tolerance and depth of focus, while reducing the line width difference by the pattern density of resist patterns without exerting load on manufacturing a mask.
マスクの製造に負荷をかけることなく、レジストパターンのパターン密度による線幅差を縮小しつつ、露光裕度および焦点深度などのリソグラフィプロセス裕度を十分に確保する。 - 特許庁 - A belt-like image patch pattern whose width in the conveying direction becomes equal to a distance difference (Mmax1-Mmin1) between the detected positions in the conveying direction is formed on the intermediate transfer body.
その検知された搬送方向位置の距離差（Ｍｍａｘ１−Ｍｍｉｎ１）に対して搬送方向の幅が等しくなるような帯状画像パッチパターンを中間転写体上に形成する。 - 特許庁 - To provide an observation device with a focal position control mechanism capable of performing stable AF action only within an imaging range without being influenced by the level difference and the reflectance of a pattern outside the imaging range.
撮像範囲外のパターンの段差や反射率の影響を受けず、撮像範囲内のみで安定したＡＦ動作を可能な焦点位置制御機構付き観察装置を提供すること。 - 特許庁
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