「difference pattern」を含む例文一覧(1082)
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シリコン層３９と下地層３７のエッチング選択比の差により誘発されるノッチング（ｎｏｔｃｈｉｎｇ）現象を利用し、下部が側面エッチングされた“Ｔ”字形態のシリコン層パターン４０にて導電配線を形成する。 - 特許庁 - Each color misregistration fluctuation is obtained from the pattern position information recorded in the memory, and from the obtained misregistration fluctuation of each color, one having the largest amplitude is regarded as a reference color to be used for obtaining the phase difference of the photoreceptor drum 1.
メモリに記録されたパターン位置情報から、各色の位置ずれ変動を求め、求めた各色の位置ずれ変動から、その振幅が最も大きいものを感光体ドラム１の位相差を求める際の基準色とする。 - 特許庁 - To realize high speed transmission in a CMOS LSI by reducing the phase difference among a plurality of data by a correction circuit consisting of a fixed pattern generating means, a variable delaying means and a simple digital circuit.
複数データの位相を、固定パターン発生手段と、可変可能な遅延手段と、簡易なディジタル回路で構成する補正回路によりデータ間の位相差を低減することで、ＣＭＯＳ ＬＳＩにおける高速伝送を実現する。 - 特許庁 - Figure 5(a) shows that the sensor output changes according to the gradation of the pattern when color toner patterns in cyan C, magenta M and yellow Y are measured by the diffuse reflection type sensor 18, so that the sensor functions completely by setting a limit to a point for measuring the difference of the gradation.
図５(a) ：拡散反射型センサ１８でシアンＣ、マゼンタＭ、イエローＹのカラートナーのパターンを測定するとパターンの濃淡に応じてセンサ出力が変化し濃淡の差を測定する点に限れば十分に機能する。 - 特許庁 - In this embodiment, the transmitted light signal of the paper sheet, obtained by means of a light source and a signal obtaining part, is subjected to detection of a partial amount of transmitted light and a pattern difference so as to verify the paper sheet.
そこで、本実施の形態では、光源および信号取得部により得られる紙葉類の透過光信号に対して、部分的な透過光量、パターンの違いを検出することにより紙葉類の真偽判別を行なう。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition excellent in the adaptability for a halftone phase difference shift mask and resolution for the formation of a contact hole pattern and to provide a positive resist composition having little deformation of a hole during etching and a wide exposure margin for under exposure.
コンタクトホールパターン形成時のハーフトーン位相差シフトマスク適性と解像力に優れたポジ型レジスト組成物、更には、エッチング時のホール変形が少なく、アンダー露光時の露光マージンが広いポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To improve the accuracy of measuring the displacement of solder by previously calculating correction data composed of a difference between the height of resist and the height of a conductive pattern and correction data composed of the dyeing amount of solder to a laser beam.
レジストの高さと導電性パターンの高さとの高低差からなる補正データやレーザビームに対する半田の染み込み量からなる補正データを予め算出することにより、半田の変位量の測定精度の向上を図る。 - 特許庁 - In such a flexible wiring board 10, a pattern transfer region 13 for eliminating the connecting failure due to the difference of the wiring states is formed between the adjacent wiring regions 12A and 12B of different wiring states.
このようなフレキシブル配線基板１０において、配線形態の異なる隣接した配線領域１２Ａ，１２Ｂの間に、配線形態の差異による接続不良を解消するためのパターン移行領域１３が形成されている。 - 特許庁 - For patterning the transparent conductive film 2 formed on the transparent base material 1, visibility of pattern shape of the transparent conductive film 2 due to the difference of the refractive indices of the transparent conductive film 2 and the transparent base material 1 can be lowered.
透明基材１の表面に形成した透明導電膜２をパターニングするにあたって、透明導電膜２と透明基材１の屈折率の差による、透明導電膜２のパターン形状の視認性を低くすることができる。 - 特許庁 - To provide a register mark which helps grasp each color drift by difference in a striped pattern or color nonconformity and enables an easy visual recognizing of the color drift even by an unskilled person, as well as printed matter with a register mark.
各色のずれを縞模様の相違や色の違いで把握することができ、熟練者でなくても容易に色ずれを視認することができる見当合わせマーク及び該見当合わせマークが印刷された印刷物を提供すること。 - 特許庁 - From a plurality of original images, corresponding individual encryption patterns can be generated by comparing cells at the same position between the original image and the common encryption pattern and determining the value of the cell on the basis of the difference and under a prescribed condition.
複数の元画像から対応する個々の暗号パターンの生成は、元画像と共通暗号パターンとの間で、同一位置のセル同士を比較し、その差分に基づき所定の条件でセルの値を決定することで実現できる。 - 特許庁 - Further, the adjustment substrate is pattern-coated with the material, deviation (pitch D) from the target position is measured by observing the position of coating dot, a movement amount is calculated from the difference, and XYθ direction position correction of the nozzle between respective heads is performed.
さらに、調整用基板に材料をパターン塗布し、塗布ドットの位置を観測することで目標位置からのズレ（ピッチＤ）を計測し、その差分から移動量を計算し、各ヘッド間のノズルのＸＹθ方向位置補正を行う。 - 特許庁 - Correction data D1 composed of a difference between the height of the resist 5 and the height of the conductive pattern 6 and correction data D2 consisting of amount of impregnation h of solder with respect to the laser beam are previously stored in a correction data storing means 3.
レジスト５の高さと導電性パターン６の高さとの高低差からなる補正データＤ１やレーザビームに対する半田ｈの染み込み量からなる補正データＤ２を、予め補正データ記憶手段３に記憶させておく。 - 特許庁 - The reception-side integrated circuit detects a phase difference by comparing a data signal of the initialization pattern with a frequency division clock being a clock obtained by dividing the frequency of a reference clock for every data path corresponding to each transmission path.
前記受信側集積回路が、前記各伝送経路に対応するデータパス毎に、前記初期化パタンのデータ信号と、基準クロックを分周したクロックである分周クロックと、を比較することにより、位相差を検出する。 - 特許庁 - To carry out exposure for erasing any unnecessary pattern in the periphery of a wafer, and for forming a predetermined difference in level in the periphery of the wafer without deteriorating most of through-put, or using any special reticle formed with various patterns.
スループットを殆ど低下させることなく、また種々のパターンが形成された特殊レチクルを用いることなく、ウエハの周辺の不要なパターンを消すため、又はウエハの周辺部に所定の段差等を形成するための露光を行う。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of eliminating difference in polishing speed due to density of a trench pattern by a relatively simple process in manufacturing the semiconductor device including trenches having an insulation film buried.
絶縁膜が埋め込まれたトレンチを備えた半導体装置の製造に際し、比較的簡単なプロセスでトレンチパターンの疎密による研磨速度の差異を解消することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The defects can thereby be detected correctly even when there is a difference of brightness in the same pattern between the images.
また、パターン検査装置を、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 - 特許庁 - A table selection unit 343 compares a difference (distance) dPOC calculated by a distance calculation unit 342 with a distance threshold dPOC_th supplied from a distance threshold acquisition unit 341, and selects a table (bit sequence allocation pattern) Sn according to the comparison result.
テーブル選択部３４３は、距離算出部３４２が算出した差（距離）dPOCと、距離閾値取得部３４１から供給された距離閾値dPOC_thとを比較し、その比較結果に応じてテーブル（ビット系列の割り当てパターン）Snをを選択する。 - 特許庁 - To provide a phase difference optical element which prevents production of an irregular bright/dark pattern in a displayed image and effectively suppresses degradation of display quality even when the element is disposed between a liquid crystal cell and a polarizing plate.
液晶セルと偏光板との間に配置した場合でも、表示画像に明暗模様を発生させることがなく、表示品位が低下してしまうことを効果的に抑制することができる、位相差光学素子を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure mask and a method for making a mask pattern by which not only the focus margin is improved in a photolithographic process but shrinkage in a line end is suppressed, and difference in the finish dimension in an etching process is suppressed.
フォトリソグラフィー工程において、フォーカスマージンを向上させるだけでなく、ライン末端部の縮みを抑制し、かつエッチング工程において仕上がり寸法差を抑制する、露光用マスクとマスクパターンの作成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a display device with which no black lattice pattern caused by a difference in relative luminosity is visible on the screen, and with which a picture with sufficient brightness and high display quality is formed, and to provide a projector using the display device.
比視感度の差によって画面上に黒い格子模様が見えてしまうことがなく、かつ、十分な明るさを有する表示品位の高い画像を形成する表示装置を提供し、またこれを用いたプロジェクタを提供すること。 - 特許庁 - To simulate a light transmissive electromagnetic wave shielding sheet by reducing a difference of appearances (color tone/metal gloss feeling) of front and rear surfaces by a shielding pattern together with light transmission properties and electromagnetic wave shielding performance so as to be applicable to a window, etc. of a building.
光透過性電磁波遮蔽シートを、建築物の窓等にも適用できる様に、光透過性、電磁波遮蔽性能と共に、シールドパターンによる表裏の外観（色調・金属光沢感）差を少なくし類似させる。 - 特許庁 - An output signal having a pattern which differs depending on whether the mount or the dummy mount is transported is outputted from a photocoupler 54 along with the driving of a mount pusher pawl 23 on the basis of the difference in shape between the mount and the dummy mount subjected to scanning.
スキャニングに供されるマウントとダミーマウントとの形状の相違に基づいて、これらのいずれが搬送されるかで異なるパターンの出力信号が、マウント押出爪２３の駆動に伴ってフォトカプラ５４から出力される。 - 特許庁 - To solve the problem that the estimation precision is extremely deteriorated in a case having phase difference between a plurality of wave sources or in an environment having large measurement noise, in an SPM (sampled pattern matching) method which is the technique for estimating the source position of a radio wave leaking out from an electronic device.
電子機器から漏洩する電波の波源位置を推定する技術であるＳＰＭ法は、複数波源に位相差がある場合や、計測ノイズが大きい環境では推定精度が著しく劣化することが知られている。 - 特許庁 - To provide a printing plate which can minimize a difference in the width of a printing paste printed in stripes in a printing start position and a printing end position, when a striped printing pattern is printed.
この発明は、ストライプ状の印刷パターンを印刷する際の、印刷スタート位置と印刷終了位置における印刷されたストライプ状の印刷ペーストの幅の差を最小にできる印刷版を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The roll-like printing blanket 1 including a shaft 2 and an elastic body layer 4 held on the outer circumferential surface thereof is used in order to print the ink pattern on the uneven surface for printing with 5 to 16 mm in elevation difference h.
５〜１６ｍｍの高低差ｈがある凹凸を有する被印刷面へインキパターンを印刷するために、シャフト２と、シャフト２の外周面に担持される弾性体層４と、を備えるロール状印刷用ブランケット１を用いる。 - 特許庁 - The time converter 7 reads a conversion table corresponding to the detected phase difference pattern from a storage unit 10, and converts a first time code (TC_30) and a second time code (TC_24) based on the conversion table which is read from the storage unit 10.
タイムコード変換器７は、検出した位相相違パターンに応じた変換テーブルを記憶器１０から読み出し読み出した変換テーブルに基づいて第１のタイムコード（ＴＣ_３０）を第２のタイムコード（ＴＣ_２４）に変換する。 - 特許庁 - To provide a nozzle for powder coating which is fitted to the tip of a static powder coating gun 1 to control a discharge pattern of the discharged powder coating materials, wherein the difference of the discharge quantity between that in the vicinity of the center part and that in the peripheral part is made small.
静電粉体塗装ガン１のガン先に装着して、吐出する粉体塗料の吐出パターンを制御する粉体塗装用ノズルにおいて、中心付近とその周辺部の吐出量の差を少なくする。 - 特許庁 - A transfer state (transfer position or the like) is corrected by using the ideal lattice as a reference and on the basis of the difference information, and a pattern is successively transferred to a plurality of section areas on a substrate W to be exposed by using the aligner 20A.
そして、理想格子を基準として前記誤差情報に基づいて転写状態（転写位置など）を補正して、露光装置２０Ａを用いて露光対象の基板Ｗ上の複数の区画領域にパターンを順次転写する。 - 特許庁 - A pitch controller 262 calculates a pitch shift value for matching the key of the audio block to a master key based upon the difference between the key that the remix pattern data represents and the master key and the time stretch value, and sets it to the audio signal generator 282.
音高制御部２６２は、リミックスパターンデータに示されるキーとマスタキーとの差およびタイムストレッチ値に基づいて、音声ブロックのキーをマスタキーに合わせるためのピッチシフト値を算出し、音声信号生成部２８２に設定する。 - 特許庁 - To provide a paper money discriminating method for discriminating a paper quality without depending on a shade pattern generated by a difference in a manufacturing process, and discriminating the paper quality of a paper sheet without being influenced by humidity and the deterioration of the paper quality.
製造工程の差異によって生じた濃淡パターンに依存せずに紙質を識別し、湿度の影響や紙質の劣化の影響を受けることなく、紙葉類の紙質を識別する紙幣識別方法を提供することにある。 - 特許庁 - Discrimination between the VC defect and the surface defect is enabled by paying attention to the difference between displacement of a VC defect generation position to a hole pattern and displacement of a surface defect generation position, to thereby enable classification into each defect.
穴パターンに対するＶＣ欠陥発生位置のずれ量と表面欠陥発生位置のずれ量との違いに着目することで，ＶＣ欠陥と表面欠陥とを弁別することを可能にし、それぞれに分類するようにした。 - 特許庁 - Since the divergent light from the light source 5 is diffused by the diffusion plate 21 and the diffusion plate 21 is rotated in the prescribed cycle by the motor 23, the brightness difference of the speckle pattern of a laser beam received by the photoreceptor 9 is reduced.
これにより、光源５からの発散光が光拡散板２１にて拡散され、且つ、モータ２３により所定の周期で移動するため、受光器９にて受光するレーザ光のスペックルパターンの明暗の差が小さくなる。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern by which a resist film can be made thin by using a lower layer film formed by a coating method, the required mask thickness is maintained, and the difference caused by conversion in processes is suppressed to process the objective film with high dimensional accuracy.
塗布法により成膜できる下層膜を用いてレジスト膜の薄膜化を図るとともに必要なマスク厚を確保し、加工変換差を抑制して寸法精度よく被加工膜を加工し得るパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - An irregularity shape can be formed on the surface of an organic insulation film 1 depending on a level difference between the signal line 3 and the insulation film 2 by forming the organic insulation film 1 after pattern-forming the signal line 3 and the insulation film 2.
信号線３および絶縁膜２をパターン形成した後に有機絶縁膜１を形成することで、信号線３および絶縁膜２の段差に依存して、有機絶縁膜１の表面に凹凸形状が形成できる。 - 特許庁 - If a group winning pattern hand is won in a regular bonus (RB) mode transition game in a big bonus (BB) mode, a different number calculating part 37 calculates the difference between the upper limit value of the number of net increase of tokens in the BB mode and the value counted by a net increase number counter 35.
ＢＢモードでのＲＢモード移行ゲームでグループ絵柄当選役が当選すると、差枚数算出部３７では、ＢＢモードでの純増メダル枚数の上限値と純増枚数カウンタ３５のカウント値との差を算出する。 - 特許庁 - For modulating an interference pattern obtained by giving variation to the light path length difference of two light fluxes in an interference optical system 5, AOM 54 and 55 are arranged on the two split light paths, and EOM 56 is arranged on one.
干渉光学系５において二つの光束の光路長差に変化を与えて得られる干渉縞を変調するために、分割された二つの光路上にＡＯＭ５４，５５を配置し、一方にはＥＯＭ５６を配置する。 - 特許庁 - The level difference is located, in a plane view, on a position where a pattern is formed by superimposing a single pitch to diffract light of a specific wavelength at a specific angle and another single pitch to diffract light of another specific wavelength at a specific angle.
段差は、面方向に見て、１つの特定の波長の光を特定の角度に回折する単一のピッチと、他の特定の波長の光を特定の角度に回折する他の単一のピッチとを重ねたパターンをなす位置にある。 - 特許庁 - To provide a hands-free speech unit and a mobile phone capable of attaining stably high voice recognition by preventing reduction in a voice recognition rate due to a difference between a surrounding environment at voice pattern registration and a surrounding environment at voice recognition.
音声パターン登録時の周囲の環境と音声認識時との周囲の環境の違いによる音声認識率の低下を防止し、安定した高い音声認識が可能なハンズフリー通話装置及び携帯電話機を提供する。 - 特許庁 - Particularly in a low resolution, a compound light quantity at two or more light emitting points is used to draw the dot pattern, reducing the light quantity distribution difference and obtaining a stable image quality irrespective of the high or low degree of resolution.
特に、低解像度において、２以上の発光点の合成光量でドットパターンを描画するようにしたため、光量分布差を軽減することができ、高解像度、低解像度に関わらず、安定した画質を得ることができる。 - 特許庁 - Since the pattern of the luminance distribution in a low luminance area is difference between the area of a finger to press an original and its shadow and the area of an index, etc., the area of the finger and its shadow and the area of the index, etc., can be discriminated from each other.
ここに、低輝度領域の輝度分布のパターンは、原稿を押さえる指とその影の領域とインデックス等の領域とで異なるので、指とその影の領域とインデックス等の領域とを判別することができる。 - 特許庁 - When detecting dust in through-image display, a message is displayed, and the position of the image of the dust is detected from a difference between imaging data obtained by imaging in such a state where the camera 1 turns toward the sky and the fixed pattern image.
スルー画表示時において塵埃を検知する際には、メッセージを表示させ、カメラ１を空方向に向けた状態で撮像して得られた撮像データと固定パターンの画像との差分から塵埃の画像の位置を検知する。 - 特許庁 - A substrate device includes the pattern film which is formed on the substrate, has the side face part, and comprises the single layer, wherein the side face part is formed so as to have a plurality of angles of slope toward the substrate surface, or is formed so as to produce a level difference shape.
基板上に形成され、側面部を有すると共に単一層からなるパターン膜を備え、側面部は、基板の表面に対して複数の傾斜角度を有するように形成され、又は段差状に形成されている。 - 特許庁 - Variation in an output level of a sensor output signal caused by an individual difference or heating of a magnetic sensor element 40 is corrected by the offset adjustment processing, thereby avoiding or suppressing reduction in detection accuracy of the magnetic pattern.
オフセット調整処理によって磁気センサ素子４０の個体差や発熱などに起因するセンサ出力信号の出力レベルのばらつきが是正されるので、磁気パターンの検出精度の低下を回避あるいは抑制できる。 - 特許庁 - Further, in the light emitting layer, an organic EL element in which a patter is made visible by the difference in the color tone is also available by forming a display pattern made of light- emitting materials different from those of other parts, for instance, by including doping agent.
また、発光層において、ドーピング剤を含む等、他の部分とは異なる発光材料からなる表示パターン部を形成することによって、色調の差によりパターンを視認することができる有機ＥＬ素子とすることもできる。 - 特許庁 - To provide a cloth feeding device capable of preventing a sewing failure such as puckering and pattern displacement by eliminating dispersion of the feed of an upper cloth and a lower cloth when feeding the cloth due to difference of a frictional resistance value of the surface of the cloth and expansion ratio of the cloth.
生地送り時の上生地と下生地の送り量が、生地表面の摩擦抵抗値や、生地の伸縮率によって異なるのを解消して、パッカリングや柄ずれ等の縫い不良を防止できる生地送り装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a photomask with a level difference to be used in forming a columnar spacer by subjecting a normal transparent resin photosensitive layer to pattern exposure by a proximity exposure method, to provide a color filter substrate having a columnar spacer formed with uniform height all over the region by using the photomask with a level difference, and to provide a method for manufacturing the color filter substrate.
通常の透明樹脂感光層を近接露光（プロキシミティー）法にてパターン露光して柱状スペーサーを形成する際に使用する段差付フォトマスク及び段差付フォトマスクを使って全領域にわたって柱状スペーサーの高さを均一に形成したカラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - This image defect inspection device 10 is equipped with an image alignment part 22 for detecting a sub-pixel offset amount between two images which are objects under inspection, and a correction amount determination part 25 for determining a correction amount for a gray level difference detected by a difference detection part 26 at pattern edge parts of the two images based on the detected offset amount.
画像欠陥検査装置１０は、検査対象たる２つの画像のサブピクセルずれ量を検出する画像アライメント部２２と、検出したサブピクセルずれ量に基づいて、差分検出部２６により検出されるグレイレベル差の、前記の２つの画像のパターンエッジ部における補正量を決定する補正量決定部２５とを備えることとする。 - 特許庁 - With use of this specified pattern information, an output data generater 20 detects difference information between the data read out from the register 50 and the data read out at the last time, and speeds up a clock signal for writing generated from a frequency control circuit 11 in a section in which it is determined that the difference information is the same with each other.
この特定したパターン情報を用いて、データ保持レジスタ５０から読み出されるデータについて、出力データ生成部２０において、直前に読み出されたデータとの差分情報を検出し、差分情報が同じであると判別した区間において、周波数制御回路１１において生成する書き込みのためのクロック信号を高速化する。 - 特許庁 - By doing this, the relative pitch difference between analysis frames which are different in time, is expressed by the relative pitch difference with the pitch frequency of the template frequency characteristics, and even when the voiceless sound is included in the middle of a voice waveform, it is avoided that continuity of a relative pitch pattern before and after the voiceless sound becomes inappropriate.
このようにすることにより、時間的に前後する分析フレーム間での相対ピッチ差は、テンプレート周波数特性のピッチ周波数との相対ピッチ差で表現されることとなり、音声波形の途中に無声音が含まれるような場合においても、その無声音の前後において相対ピッチパターンの連続性が不適切になることを回避することができる。 - 特許庁
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