「diffraction」を含む例文一覧(7687)
＜前へ 1 2 .... 121 122 123 124 125 126 127 128 129 .... 153 154 次へ＞- A light-emitting element module 10 comprises a semiconductor light-emitting element 12 and an optical fiber 14 having a built-in diffraction grating 30 and forms a resonator between the element 12 and the grating 30 to oscillate a laser.
発光素子モジュール１０は、半導体発光素子１２と、回折格子３０が内蔵された光ファイバ１４とを備えて構成され、半導体発光素子１２と回折格子３０との間で共振器を構成してレーザ発振する。 - 特許庁 - This near-field optical head is formed with a grating that has a diffraction function and a converging function combinedly in a part of a waveguide for propagating light parallelly to media, enabling compatibility to be realized between improvement in optical efficiency and miniaturization of size.
本近視野光ヘッドは、メディアに対し平行な方向に光を伝搬させる導波路の一部に回折機能と集光機能を併せ持ったグレーティングを形成しており、光効率の向上と小型化の両立を実現できる。 - 特許庁 - When a glass substrate of a measuring object is irradiated with convergence light via a condenser lens 114, diffraction light generated by the array pattern of the electrodes 31 is generated to be reflected on a surface 3a and a reverse face 3b of the substrate.
測定対象のガラス基板に集光レンズ１１４を介した集束光を照射すると、電極３１の配列パターンにより生じた回折光が発生し、基板の表面３ａおよび裏面３ｂで反射する。 - 特許庁 - The diffraction lattice 18 is constituted of the InGaAsP barrier layer 30e in the quantum well structure active layer and the lattice layer of InGaAs quantum well layers 28f and 28e and an InP buried layer having composition different from the quantum well layer.
回折格子１８が、量子井戸構造活性層のＩｎＧａＡｓＰ障壁層３０ｅ及びＩｎＧａＡｓ量子井戸層２８ｆ、２８ｅの格子層と、量子井戸層とは異なる組成のＩｎＰ埋め込み層２０とから構成される。 - 特許庁 - To crystallize with a minute amount of a sample using a gel counter diffusion method, and to mount a crystal producing instrument as it is without taking out crystal to the sample holder of an X-ray diffraction device.
ゲル・カウンタ・ディフュージョン法を用いて微量のサンプルで結晶化を実施できて、かつ、結晶を取り出すことなく結晶作製器具をそのままの状態でＸ線回折装置の試料ホルダーに取り付けることができるようにする。 - 特許庁 - This invention adds an improvement to a spectral device, in which a first polarization resolution plate separates a light beam to be measured and the separated first and second separated beams are emitted in different angles for each wavelength by a diffraction grating.
本発明は、被測定光を第１の偏光解消板が分離し、この分離した第１および第２の分離光を回折格子が波長ごとに異なる角度に出射して分光する分光装置に改良を加えたものである。 - 特許庁 - The diffraction optical device consists of layers of at least two kinds of different optical materials 3, 4 which are substantially transparent for the wavelength region to be used and has a relief pattern 5 on the interface of at least one optical material 3.
回折光学素子は、使用する波長帯域で実質的に透明であり、異なった少なくとも２つの光学材料３，４が積層され、少なくとも一方の光学材料３の境界面にレリーフパターン５が形成されている。 - 特許庁 - For example, with a porous surface structure, a structure supporting a very thin film or a structure with narrowed island part (reflection surface) of a reflection diffraction grating, the apparent atomic density on the reflection surface can be reduced.
例えば、多孔質表面構造や、極薄の薄膜を支持する構造、又は、反射回折格子の島状部（反射面）を狭くした構造などによって、反射表面の見かけ上の原子密度を少なくすることができる。 - 特許庁 - To provide a small-sized array waveguide diffraction grating type optical multiplexer/demultiplexer which allows MUX and DEMUX modules to be disposed in one package and allows an input/output fiber array to be connected to one end surface thereof.
ＭＵＸおよびＤＥＭＵＸモジュールを一つのパッケージに配置することが可能であるとともに、一方の端面に入出力用のファイバアレイを接続可能な小型のアレイ導波路回折格子型光合分波器を提供する。 - 特許庁 - This includes emitting light from the light source, dispersing light emitted from the light source into one of a diffraction pattern and an interference pattern, and imaging the patterned light onto the object using a lens 38.
この方法に、光源から光を発することと、光源から発した光を回折パターンと干渉パターンとのうちの１つに分散させることと、レンズ（３８）を使用してパターン付きの光を物体上に撮像することとが含まれる。 - 特許庁 - To provide a means of detecting a tracking error signal which is easily assembled and is strong against the angle change of a track, and a diffraction grating, an optical pickup and an optical disk device for attaining the means.
本発明は、組み立て工程の安易で、かつまたトラックの角度変化に強いトラッキングエラー信号検出の手段、およびその手段を実現するための回折格子、光ピックアップ、光ディスク装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A diffraction grating 42 receives the calibration signal and the tested signal reflected by the mirror 12, and separates the tested signal into spectral components while it returns spectral lines of second order or higher in the calibration signal to the mirror 12.
回折格子４２は、放物面境１２で反射された校正光信号及び試験光信号を受け、試験光信号のスペクトル成分を分離すると共に、校正光信号の２次以上のスペクトル線を放物面境１２に戻す。 - 特許庁 - Also, when read light (reference light and applied DC component) converged by the lens 20 during reproduction passes through an amplitude modulation mask 22S, amplitude of the zeroth order diffraction component is adjusted by an amplitude adjusting part 22D.
また、再生時にレンズ２０で集光された読出し光（参照光及び付与する直流成分）は、振幅変調マスク２２Ｓを通過するときに、振幅調整部２２Ｄにより０次の回折成分の振幅が調整される。 - 特許庁 - A hologram 13 formed on the 1st area and a hologram formed on the 2nd area are formed so as to have different focal points in the plane including the optical axis 9 and the straight line 12, and have different diffraction angles from each other.
第１領域に形成されたホログラム１３と第２領域に形成されたホログラム１４は、光軸９と直線１２を含む平面内に異なる集光点を有し、各々回折角が異なるように構成されている。 - 特許庁 - An embossed part like a relief type hologram or a hologram, embossed with minute ruggedness related to a diffraction grating, is provided in at least a part of an iridescent multilayered film, formed by alternately laminating two or more kinds of thin films.
二種またはそれ以上の種類の薄膜が交互に積層されてなる虹彩性多層フィルムの少なくとも一部に、レリーフ型ホログラムか回折格子に係る微小な凹凸がエンボスされてなるホログラム等エンボス部を設ける。 - 特許庁 - To provide a method that readily obtains the distribution of crystal nonuniform structure of a measuring sample, using a speckle diffraction light generated by irradiating a crystalline measuring sample with coherent X-rays.
コヒーレント性を有するＸ線を、結晶性のある測定試料に照射することによって得られるスペックル状の回折光を用いて、該測定試料の結晶の不均一構造の分布を、容易に得ることができる方法を提供する。 - 特許庁 - Especially, the object is considered as two knife edges disposed separately by distance δ in the optical axis direction, multiple fresnel diffraction is considered to occur in these knife edges, the light quantity distribution pattern detected by the line sensor is analyzed.
特に物体を光軸方向に距離δを隔てて設けられた２枚のナイフエッジと看做し、これらのナイフエッジにおいてフレネル回折が多重に生じたとしてラインセンサにて検出された光量分布パターンを解析する。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium which enables recording and reproducing with a recording density exceeding the diffraction limit with a short wavelength light, particularly with blue laser beam and has a high transfer speed and a recording method using the medium.
短波長光、特に青色レーザ光による回折限界を超えた記録密度で記録・再生を可能とし、かつ高転送速度を有する光記録媒体を提供するとともに、それを用いた記録方法を提供する。 - 特許庁 - Beams around a part irradiated with laser beams 1 on a work 100 incident inside a machining head 10 are split by a diffraction grating 16 into reflected laser beams 1a, infrared ray 3 and the ultraviolet ray 4.
加工ヘッド１０の内部に入射した被加工物１００へのレーザ光１の照射部分周辺の光を回折格子１６ｂによって反射レーザ光１ａ，赤外光３，紫外光４にそれぞれ分光するようにした。 - 特許庁 - An optical element (R-DOE) 16, which deflects a light beam from each VCSEL to a corresponding channel of an optical fiber array 14 and is capable of refraction and diffraction, is arranged between a VCSEL array 12 and the optical fiber array 14.
ＶＣＳＥＬアレイ１２と光ファイバー・アレイ１４との間に、各ＶＣＳＥＬからの光ビームを光ファイバー・アレイ１４の対応するチャンネルへ偏向させる、屈折かつ回折可能な光学系要素（Ｒ−ＤＯＥ）１６を配置する。 - 特許庁 - In the imaging spectrometer aboard a space flying object, an optical means for forming images to a detecting system capable of changing a wavelength resolution by a magnification-changing function is provided between a diffraction grating spectrometer 2 for splitting by wavelengths and a detector 4.
宇宙飛翔体搭載イメージングスペクトロメータにおいて、倍率変換機能により波長分解能変更が出来る検出系への結像光学手段を、波長分光する回折格子分光計２と検出器４の間に有する。 - 特許庁 - Recessed parts 221a and 221b are formed by forming a resist film 22 on an insulating film 213 and then partially removing the resist film 22 using a diffraction method generally used in a semiconductor manufacturing process or a halftone method.
凹部２２１ａ及び２２１ｂは、絶縁膜２１３上にレジスト膜２２２を形成した後、半導体製造プロセスで汎用される回折法或いはハーフトーン法を用いてレジスト膜２２２を部分的に除去することによって形成されている。 - 特許庁 - A semiconductor laser beam that is a fundamental wave beam is split by the wavelength splitting function 7, and wavelength is controlled using the diffraction grating 8, thus controlling the wavelength of harmonic light obtained by wavelength conversion to a desired wavelength.
基本波光である半導体レーザ光を波長分離機能７によって分離し、回折格子８を用いて波長制御することにより、波長変換によって得られる高調波光の波長を所望の波長に制御する。 - 特許庁 - This catalyst is for ammooxidation or oxidation of propane and isobutane, contains molybdenum, vanadium, antimony and niobium and has an X-ray diffraction peak at a specific position, a low content of molybdenum and a high content of silica serving as a catalyst carrier.
特定位置にＸ線回折ピークを有し、モリブデンの含有量が少なく、且つ触媒担体であるシリカ含有量の高いモリブデン、バナジウム、アンチモンおよびニオブを含有するプロパン、イソブタンのアンモ酸化用または酸化用触媒。 - 特許庁 - To provide a catalyst for heterogeneously catalyzed reaction, containing an active component and a catalyst carrier containing δ-Al2O3 of the amount detectable by an X-ray diffraction method, particularly a catalyst for oxychlorination of ethylene to 1,2-dichloroethane.
活性成分と、Ｘ線回折法で検出可能な量のδ−Ａｌ_２Ｏ_３を含む触媒担体を含む不均一触媒反応用触媒、特にエチレンから１，２−ジクロロエタンへのオキシ塩素化のための触媒を提供する。 - 特許庁 - The -Z surface of the quartz Lambert's ore is angularly measured by a conventional X-ray diffraction device and the Z-axis is rotated by an angle (38°13'-θ) centering around the X-axis on the basis of the r-surface to cut the quartz Lambert's ore in parallel to the obtained surface.
補助ブロックの−Ｚ面を従来のＸ線回折装置で測角し、そのｒ面を基準にＸ軸を中心にＺ軸を角度（３８°１３′−θ）回転させ、得られた面に平行に水晶ランバード原石を切断する。 - 特許庁 - The p type carrier concentration of the p type InGaAsP diffraction grid layer is specified so as to be 1.5×10^18 cm^-3-4.0×10^18 cm^-3 and especially so as to be 2.0×10^18 cm^-3-3.0×10^18 cm^-3.
ｐ型のＩｎＧａＡｓＰ回析格子層のｐ型キャリア濃度を１．５×１０^１８ｃｍ^−３から４．０×１０^１８ｃｍ^−３、特に２．０×１０^１８ｃｍ^−^３から３．０×１０^１８ｃｍ^−３とする。 - 特許庁 - A laser modulator is provided with a first slit for diffracting diffraction laser light of an optical element for modulation, and a second slit for allowing the passage of zero-order diffracted light of diffracted light which is diffracted by the first slit; and the zero-order diffracted light of the second slit serves as output light.
変調用光学素子の回折レーザ光を回折させる第１スリットと該第１スリットによる回折光の０次回折光を通過させる第２スリットを設け、該第２スリットの０次回折光を出力光とする。 - 特許庁 - When the laser beam 30 is made incident on an acousto-optic element 4, the diffraction of the laser beam 30 is induced by the ultrasonic pulses frequency-swept in such a manner that the wavelengths are made linearly shorter from the foremost part 26 to the rearmost part 25.
レーザビーム３０が音響光学素子４に入射すると、最前部２６から最後部にかけて波長が線形的に短くなるように周波数掃引された超音波パルスによってレーザビーム３０の回折が生じる。 - 特許庁 - The incident light and the recursive light are made to enter from a vertical direction to a diffraction grating groove, and an angle α making the incident light and a normal vector of the scale is larger than an angle β making the recursive light and the normal vector of the scale.
入射光および再帰光は回折格子溝に対して垂直な方向から入射され、かつ、入射光とスケールの法線ベクトルとのなす角αは、再帰光とスケールの法線ベクトルとのなす角βよりも大きい。 - 特許庁 - To enhance the function to prevent forgery and the like from being committed beyond its existing level by imparting relevancy to other information contained in a base, when a light diffraction structure of a hologram or the like is used by sealing it for the purpose of preventing an unlawful act from being committed.
ホログラム等の光回折構造を、不正を防止する目的でシールとして使用する際の、偽造等の防止性を、基材等にある他の情報との関連性を持たせることで、より一層高めることを課題とする。 - 特許庁 - Before diffraction from a diffracting structure 12c on a semiconductor wafer 12 is measured, when necessary, the film thickness and refractive index of a film 12b located below the structure are first measured using a spectroscopic reflectometer 60 or a spectroscopic ellipsometer.
半導体ウェハ１２上の回折構造体１２ｃからの回折の前に、必要な場合は、分光反射率計６０または分光エリプソメータを使って構造体の下に位置する膜１２ｂの膜厚と屈折率とをまず測定する。 - 特許庁 - In a second exposure step, a negative resist 32 is exposed, by using an exposure mask 29 having a diffraction grating 35, in an oblique direction with first-order diffracted light of the grating 35, and developed to form an inclined face.
第２回目の露光工程においては、回折格子３５を備えた露光用マスク２９を用い、回折格子３５の１次回折光で斜め方向からネガレジスト３２に露光し、現像することによって斜面を形成する。 - 特許庁 - A first modulation optical system 30 is equipped with a first relay lens system 33, a piezo mirror 34 for the correction for plane tilts, a second relay lens system 35, a diffraction divergence element 31, a condensing lens 36, a multichannel AOM32, and a collimating lens 37.
第１の変調光学系３０は、第１のリレーレンズ系３３、面倒れ補正用のピエゾミラー３４、第２のリレーレンズ系３５、回折分岐素子３１、集光レンズ３６、マルチチャンネルＡＯＭ３２、コリメートレンズ３７を備える。 - 特許庁 - Then, a refraction factor distribution which periodically changes from the side A to a side C is formed in the inside of the member 41 by the generation of the compressional wave and the object light ray is separated into a plurality of light rays by diffraction by sound effect.
疎密波の発生により、光透過性部材４１内部に辺Ａから辺Ｃへと周期的に変化する屈折率分布が形成され、音響効果による回折によって被写体光線は複数に分離される。 - 特許庁 - To provide laser diffraction-scattering type particle size distribution measuring device which has neither under-ghosts nor upper-ghosts occurring in the measured result of a measuring particle group with the precipitous distribution of monodispersity, while being able to clearly evaluate the existence of flocculates.
単分散の急峻な分布を持つ被測定粒子群の測定結果にアンダーゴーストやアッパーゴーストが生じず、また、凝集物の存在を明確に評価することのできるレーザ回折・散乱式粒度分布測定装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a color liquid crystal display with increased use efficiency of light by making use of different diffraction efficiencies of a color filter using a grating for polarized light with 45° inclination of the polarization direction, P-polarized light and S-polarized light.
回折格子を用いたカラーフィルターにおける斜め４５度偏光光とＰ偏光光とＳ偏光光とで相互に回折効率が異なる点に着目し、光の利用効率を高めたカラー液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a light intensity adjusting device capable of preventing the deterioration of an MTF by small diaphragm diffraction, of enhancing the controllability of a diaphragm, and of saving a space, and provide an optical device and a photographic device having the light intensity adjusting device.
小絞り回折によるＭＴＦの劣化を防止し、絞りの制御性を向上させ、小スペース化を図ることが可能となる光量調整装置、該光量調整装置を有する光学装置および撮影装置を提供する。 - 特許庁 - Light (72) coming out of the attenuator (56) is directed to a beam expander (58), light (74) coming out of the expander is directed to the diffraction optical element (60) and is divided into a servo beam which is a desirable beam (76) and a ghost beam which is an undesirable beam (78).
減衰器（５６）を出た光（７２）は、ビームエキスパンダ（５８）に向けられ、これを出た光（７４）は回折光学素子（６０）に向けられ、所望のビーム（７６）であるサーボビームと、不所望のビーム（７８）であるゴーストビームとに分けられる。 - 特許庁 - Diffraction light X diffracted and reflected on an imaging face of the image sensor 7R is incident again onto the emission face of the second prism 4, is reflected again on a second dichroic film formed on one face 4a, and is incident onto the image sensor 7R.
イメージセンサ７Ｒの撮像面で回折して反射した回折光Ｘは、第二プリズム４の出射面から再入射し、一面４ａに形成された第二ダイクロイック膜で再度反射してイメージセンサ７Ｒに入射する。 - 特許庁 - A beam emitted from a semiconductor laser 1 is divided into three beams, a 0th-order beam as a main beam, and ± 1st-order diffracted beams as sub-beams, by a diffraction optical element 3, and track error signals are detected respectively from the main and sub beams.
半導体レーザ１からの出射光を回折光学素子３によりメインビームである０次光、サブビームである±１次回折光の３つの光に分割し、メインビームとサブビームのそれぞれからトラック誤差信号を検出する。 - 特許庁 - The activated carbon is characterized by having ≥3.86 Å d_002 obtained by X-ray diffraction method, 700-2,400 m^2/g specific surface area obtained by BET(Brunauer-Emmett-Teller) method and a ratio of (oxygen atom)/(carbon atom) in the range of 0.01-0.10.
Ｘ線回折法により求められるｄ_002が３．８６Å以上、ＢＥＴ法による比表面積が７００〜２４００ｍ^2／ｇ、酸素原子／炭素原子の比が０．０１〜０．１０の範囲にあることを特徴とする活性炭。 - 特許庁 - The X-ray diffraction device 5 is stopped at an arbitrary measuring spot on the rail 1, and an X-ray irradiation point on the head top face 1d is irradiated with the X-ray generated by an X-ray generation device 3 from an X-ray irradiation part 6.
レール１上の任意の測定箇所でＸ線回折装置５を停止させて、Ｘ線発生装置３が発生するＸ線をＸ線照射部６から頭頂面１ｄのＸ線照射点に照射する。 - 特許庁 - Furthermore, a thing that has intensity ratios of a reflection peak under the reflective X-ray diffraction corresponding to faces (311), (400), and (111) of the lithium manganate, are (311)/(111)≥0.45, and (400)/(111)≥0.55, and (400)/(311)≥1.10) is used.
さらに、マンガン酸リチウムの（３１１），（４００）、（１１１）面に対応する反射Ｘ線回折での反射ピークの強度比が、（３１１）／（１１１）≧０．４５、かつ（４００）／（１１１）≧０．５５、かつ（４００）／（３１１）≧１．１０となっているものを用いる。 - 特許庁 - A center area 502a is equivalent to NA 0.45 of a CD system 137 of an optical recording medium, divides a first light flux into the ones for transmission and diffraction, diffracts second and third light fluxes to compensate aberration of HD, DVD and CD systems.
中心領域５０２ａは光記録媒体のＣＤ系１３７のＮＡ０．４５に相当し、第１の光束を透過と回折するものに分け、第２，第３の光束は回折し、ＨＤ，ＤＶＤ，ＣＤ系の収差を補正する。 - 特許庁 - To provide a lithographic apparatus in which a radiation beam which illuminates a patterning means polarizes to the substantially radial direction, and a diaphragm intercepts the diffraction polarized to the radial direction of patterned radiation.
パターニング手段を照明する放射線ビームがほぼ半径方向に偏光し、ダイアフラムが、パターン形成された放射線の半径方向に偏光した回折部分を遮断するよう構築、配置構成されるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁 - The light transmitted through the aperture element 41 without diffraction passes through the quarter- wave film 43 included in the aperture element 41 and is converted from linear polarized light into circular polarized light, and the light flux is made incident on an object lens 8 of a diameter D1.
開口素子４１を非回折で透過した光は、開口素子４１に含まれる４分の５波長膜４３を経て直線偏光から円偏光に変換され、対物レンズ８に直径Ｄ１の光束が入射する。 - 特許庁 - To provide an inexpensive diffractive optical device with high accuracy which has an excellent structure with respect to the manufacture, which can significantly reduce reflection on the grating face and which can maintain high diffraction efficiency, and to provide an optical appliance having the above diffractive optical device.
製造上において優れた構成を有し、格子面での反射を大幅に低減でき、高い回折効率を維持することが可能な、安価で高精度の回折光学素子、該回折光学素子を有する光学機器を提供する。 - 特許庁 - Provided that, in the formula (1), ξ is a value indicating a position in a radius direction of the lens in one period of the diffraction pattern, and ϕ(ξ) indicates a value (radian) of a phase shift amount of light passing the position ξ from the phase of light passing through a reference plane.
但し、ξは、回折パターンの１周期におけるレンズの半径方向の位置を示す値であり、φ（ξ）は、基準面を通過した光の位相に対して、ξの位置を通過する光の位相のずれ量の値（ラジアン）を示す。 - 特許庁 - Irradiated near infrared rays transmit the oleaginous confectionery (or dough for producing it) A and is focused on a line sensor 17 through a condensing lens 14, a slit 15, a diffraction grating 16 to measure optical spectrum date, followed by feeding the optical spectrum data measured to a computer 18 coupled with the sensor 17 to conduct arithmetic processing.
照射された近赤外線は、油脂性菓子（又は、油脂性菓子生地）Ａを透過し、集光レンズ１４、スリット１５、回折格子１６を介してラインセンサ１７上に焦点を結ばせ、分光スペクトルデータが計測される。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
