METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT, AND THE OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT 光導波路型回折格子素子製造方法、光導波路型回折格子素子製造装置および光導波路型回折格子素子 - 特許庁
To manufacture a diffraction optical element having the grating height with high accuracy. 高精度な格子高さを有する回折光学素子を製作する。 - 特許庁
METHOD OF FORMING POSITRON BEAM FOR REFLECTED FAST POSITRON DIFFRACTION 反射高速陽電子回折の陽電子ビームを形成する方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING DIFFRACTION GRATING AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LASER 回折格子の形成方法及び半導体レーザの製造方法 - 特許庁
The protective film has the X-ray diffraction peak intensity of (110) plane of chromium higher than the X-ray diffraction peak intensity of (200) plane. 保護膜は、X線回折によるクロムの(110)面の回折ピーク強度が、クロムの(200)面の回折ピーク強度よりも大きい。 - 特許庁
DIFFRACTION TYPE OPTICAL PICKUP LENS AND OPTICAL PICKUP DEVICE USING THE SAME 回折型光ピックアップレンズおよびこれを用いた光ピックアップ装置 - 特許庁
Therefore, even if temperature changes are produced, the center side diffraction grating 35, and the outer periphery side diffraction grating 36 will complement the effect. このため、温度変化が起こっても、その影響を中心側回折格子35および外周側回折格子36が補完してくれる。 - 特許庁
The device has, further, a coupling lens (20) with diffraction grating which performs both functions of the second diffraction grating and the coupling lens and is a single part. 第2の回折格子およびカップリングレンズの両機能をなす、単一部品である回折格子付きカップリングレンズ(20)を有している。 - 特許庁
To provide a method of optimally selecting the diffraction characteristics of a reticle. レチクルの回折特性を最適に選択する方法を提供する - 特許庁
The electrodes 23a to 23i are provided for chirp diffraction grating portions 21a to 21i forming a portion of the chirp diffraction grating 21. 電極23a〜23iは、チャープ回折格子21の一部分をなすチャープ回折格子部分21a〜21iのためにそれぞれ設けられる。 - 特許庁
To provide a multilayer diffraction optical element that can maintain a state of high diffraction efficiency over the whole visible range without variation over time. 可視域全体の高い回折効率状態を経時変化することなく維持することができる多層回折光学素子を提供する。 - 特許庁
To optimize both the diffraction efficiency and the diffraction angle of recording and reproducing light generated from a plurality of light sources and having different wavelengths. 複数の光源から発生され異なる波長を有する記録再生光の回折効率及び回折角を同時に最適にする。 - 特許庁
To provide a tunable diffraction grating apparatus capable of controlling a grating interval of a diffraction grating to be applied to various wavelengths. 多様な波長に適用可能に回折格子の格子間隔を制御することができる可変型回折格子装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a diffraction optical element which has high mass productivity and environmental resistance performance and has a high diffraction efficiency in a wide wavelength region. 量産性および耐環境性能が高く、しかも広い波長域で高い回折効率を有する回折光学素子を得ること。 - 特許庁
Diffraction grating patterns 7a, 7b are exposed to a resist 6 and developed. 回折格子パターン7a,7bをレジスト6に露光して現像する。 - 特許庁
To accurately measure the optical characteristics of diffraction type optics, especially the diffraction efficiency of laser beam, branching uniformity and the like. 回折型光学部品の光学特性、中でもレーザビームの回折効率や分岐均一性などの高精度測定を可能ならしめる。 - 特許庁
A diffraction grating layer G_n having a plurality of grooves 22 (diffraction gratings) cyclically formed thereon is first formed on an active layer A_n. まず、活性層A_n上に、表面に周期的な複数の溝22(回折格子)が形成された回折格子層G_nを形成する。 - 特許庁
DISPLAY OF RASTER SCAN SYSTEM USING DIFFRACTION TYPE OPTICAL MODULATOR 回折型光変調器を用いたラスター走査方式のディスプレイ装置 - 特許庁
LASABLE LABEL MADE BY DIFFRACTION GRATING FOR ANTIFALSIFICATION 回折格子により製造された、偽造防止用、レ—ザ—マ—ク可能なラベル - 特許庁
To provide a chirped diffraction grating suppressing a fluctuation in characteristics caused by an anomaly, and to provide a small type demultiplexer using this diffraction grating. アノマリによる特性変動を抑制したチャープ型回折格子、及びこの回折格子を用いた小型なデマルチプレクサを提供すること。 - 特許庁
Diffraction patterns S1', S2' and S3' by these reflected light beams are formed on a second diffraction element 3 and received by a light receiving element 10. これらの反射光による回折パターンS1′,S2′,S3′が第2の回折素子3上に形成され、受光素子10で受光される。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a diffraction grating which has a shape similar to a diffraction grating of a sine-wave shape. 本発明は、正弦波形状の回折格子に近い形状の回折格子を製造する回折格子製造方法を提供する。 - 特許庁
TURNING DEVICE OF DIFFRACTION GRATING AND SCANNING OPTICAL DEVICE HAVING THE SAME 回折格子の回動装置及びそれを有する走査光学装置 - 特許庁
A diffraction signal is acquired from a measurement coordinate position and detection data are stored (50) in a detected diffraction signal storage unit 42. 測定座標位置から回折信号の取得が実行され、検出回折信号記憶部42に検出データが収容される(50)。 - 特許庁
To provide an optical element having a stable diffraction efficiency in respective use wavelength regions over the entire visible ranges of a diffraction optical element. 回折光学素子の可視領域全域における各使用波長領域の回折効率が安定した光学素子を提供する。 - 特許庁
ELECTROSTATIC MACHINE ELEMENT, LIGHT DIFFRACTION MODULATION ELEMENT AND IMAGE DISPLAY DEVICE 静電気機械素子、光回折変調素子、及び画像表示装置 - 特許庁
To provide a diffraction optical element capable of maintaining high diffraction efficiency in the whole service wave length area and an optical system using it. 使用波長全域で高い回折効率を維持することができる回折光学素子及びそれを用いた光学系を得ること。 - 特許庁
To provide a diffraction optical element for achieving high diffraction efficiency, with small dependance on the wavelength, with respect to a light of a wide wavelength band. 広い波長帯域の光に対して波長の依存度が少なく高い回折効率を発揮する回折光学素子を提供する。 - 特許庁
MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEM ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND DIFFRACTION TYPE MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEM ELEMENT MEMS素子とその製造方法、回折型MEMS素子 - 特許庁
DEVICE FOR MANUFACTURE OF OPTICAL FIBER GRATING TO MINIMIZE DIFFRACTION EFFECT 回折効果を最小化するための光ファイバ格子の製作装置 - 特許庁
To prevent the formation of a reflection prevention film on a diffraction pattern side face. 回折パターン側面への反射防止膜の成膜を防止する。 - 特許庁
To change a shape of a diffraction grating according to a position in a wafer surface. ウェハ面内での場所によって回折格子の形状を変える。 - 特許庁
OPTICAL DIFFRACTION STRUCTURE EXCELLENT IN POST- PROCESSING SUITABILITY AND DURABILITY 後加工適性および耐久性に優れた光回折構造体 - 特許庁
SAMPLE HOLDER FOR X-RAY DIFFRACTION MEASUREMENT AND SAMPLE FIXING METHOD X線回折測定用試料ホルダーおよび試料固定方法 - 特許庁
To provide an optical diffraction element whose thickness can be made small. 厚みを小さくすることが可能な光回折素子を提供する。 - 特許庁
The light can be provided to the input via a diffraction mechanism. 光は、回折機構を介して入力に提供することができる。 - 特許庁
DIFFRACTION GRATING, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND RADIOGRAPHIC DEVICE 回折格子及びその製造方法、並びに放射線撮影装置 - 特許庁
OPTICAL SYSTEM USING SURFACE REFLECTION DIFFRACTION GRATING AND OPTICAL APPARATUS 表面反射回折格子を用いた光学系及び光学装置 - 特許庁
POLARIZED DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, OPTICAL PICKUP, AND OPTICAL DISK DRIVE DEVICE 偏光回折光学素子、光ピックアップ及び光ディスクドライブ装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, EXPOSURE DEVICE USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE BY USING THE SAME 回折光学素子製造方法および回折光学素子およびそれを用いた露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法 - 特許庁
A second surface 12 is a consecutive surface without having the diffraction lens structure. 第2面12は、回折レンズ構造を持たない連続面である。 - 特許庁
To provide a downright backlight module using a diffraction optical element. 回折光学素子を用いた直下型バックライトモジュールを提供する。 - 特許庁
Consequently, formation of an interference fringe formed by diffraction light and non-diffraction light of the return light from the non-target layer can be prevented. そのため、目的外層からの反射光の回折光と非回折光とで形成する干渉縞の形成を防ぐことができる。 - 特許庁
To provide a polarized diffraction optical element of which the diffraction efficiency for incident luminous flux is high and the mass productivity is high. 入射する光束に対する回折効率が高く、しかも、量産性が高い偏光回折光学素子を提供することである - 特許庁
The light receiving element 11 receives primary diffraction light diffracted by the diffraction grating 6 out of the reflected beams from the optical recording medium 80. 受光素子11は光記録媒体80からの反射光束のうち透過型回折格子6による1次回折光を受光する。 - 特許庁
The intermediate side part 1D has a diffraction structure 4, and a longitudinal axis y and a horizontal axis x of the diffraction structure 4 has different pitches. 中間部側方1Dには回折構造4が設けられ、この回折構造4の縦軸yと横軸xとで異なるピッチとした。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHASE TYPE DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER X線タルボ干渉計用位相型回折格子の製造方法 - 特許庁
The patterned beam is formed by using a diffraction patterning device. パターニングされたビームは回折パターニングデバイスを用いて形成される。 - 特許庁
METHOD FOR ANALYZING STRUCTURE OF MATERIAL USING CONVERGENT BEAM ELECTRON DIFFRACTION 収束電子線回折を用いた材料の構造分析方法 - 特許庁
Provided that Δθ means the difference (°) of a diffraction angle between the respective interference fringe patterns, and Δη means the difference (%) of diffraction efficiency between the respective interference fringe patterns. ただし、Δθ:各干渉縞パターンでの回折角度の差(°)、Δη:各干渉縞パターンでの回折効率の差(%)である。 - 特許庁