「flatness」を含む例文一覧(3514)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 70 71 次へ＞- MIRROR-SURFACE POLISHING METHOD OF HIGH FLATNESS OXIDE WAFER
高平坦度酸化物ウエハーの鏡面研磨加工方法 - 特許庁 - METHOD FOR STABLY POLISHING SILICON WAFER HAVING HIGH FLATNESS
高平坦度のシリコンウェーハを安定して研磨する方法 - 特許庁 - ALUMINUM ALLOY SHEET EXCELLENT IN FLATNESS AFTER MACHINING
切削加工後の平坦性が優れたアルミニウム合金板 - 特許庁 - To precisely inspect the flatness for a surface of a work all the time without being affected by the flatness of a mounting table.
載置台の平坦度の影響を受けることなく、常時精度良くワーク表面の平坦度を検査する。 - 特許庁 - Consequently, the nano-topography is reduced, and the flatness is improved.
その結果、ナノトポグラフィが小さくなり、平坦度が高まる。 - 特許庁 - To provide an excellent method and a system for supervising flatness or non-flatness of a lithographic optical element.
リソグラフ光学要素の平坦度または非平坦度を監視するための良好な方法およびシステムを提供する。 - 特許庁 - HOT-ROLLED STEEL SHEET STRIP FLATNESS CONTROLLING METHOD AND EQUIPMENT
熱延薄鋼帯の平坦度制御方法および装置 - 特許庁 - The road face is divided by a flatness settled distance, the sum of absolute values in the peak value data is found in the every flatness settled distance, and a unit flatness settled distance is found by dividing the flatness settled distance with the number of the peak value data therebetween.
路面を平たん性まとめ距離で分割し、平たん性まとめ距離毎に波高値データの絶対値の和を求め、平たん性まとめ距離をその間の波高値データの数で割った単位平たん性まとめ距離を求める。 - 特許庁 - Then, the amount of flatness in the bent pipe is calculated from a flatness ratio at the position of the amount-of-flatness measurement section 41 and the measured amount of flatness in the straight pipe, thus calculating axial and circumferential stress generated in the bent pipe.
次に、扁平量測定部４１の位置における扁平比と、測定された直管の扁平量とから曲管の扁平量を算出し、曲管に生じる軸方向および円周方向の応力を算出する。 - 特許庁 - RETICLE FLATNESS MEASURING APPARATUS AND EXPOSURE APPARATUS EQUIPPED WITH RETICLE FLATNESS MEASURING APPARATUS, RETICLE FLATNESS MEASURING METHOD AND EXPOSURE METHOD USING RETICLE FLATNESS MEASURING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE BY USING EXPOSURE APPARATUS
レチクル平坦度計測装置、およびレチクル平坦度計測装置を搭載した露光装置、並びにレチクル平坦度計測方法、およびレチクル平坦度計測方法を用いた露光方法、並びに露光装置を用いたデバイスの製造方法 - 特許庁 - To provide a flatness correction jig quickly improving flatness even if a flat plate member has a thin thickness lacking rigidity.
剛性を欠く薄肉の平板部材であっても迅速に平面度を向上させる平面度修正ジグを提供する。 - 特許庁 - To obtain ideal phase flatness by suppressing characteristic variations.
特性ばらつきを抑圧し、理想的な位相平坦性を得る。 - 特許庁 - Each of terminal devices calculates flatness based on a propagation path estimation result and notifies the base station device 200 of the flatness.
各端末装置は、伝搬路の推定結果に基づいて、平坦度を算出し、基地局装置２００へ通知する。 - 特許庁 - To keep flatness of a memory cell array having a lamination structure.
積層構造を有するメモリセルアレイの平坦性を保持する。 - 特許庁 - To obtain a flatness measuring device capable of accurately predicting and measuring the flatness of semiconductor wafer during drawing.
描画時の半導体ウエハの平坦度を精度良く予測・測定することができる平坦度測定装置を提供する。 - 特許庁 - To improve the flatness of the bottom of a thermoplastic resin container.
熱可塑性樹脂容器の底部の平坦度を改善する。 - 特許庁 - To enable flatness control without accompanying equipment modification.
設備改造を伴うことなく平坦度制御を可能とする。 - 特許庁 - MEASURING RULER AND FLATNESS CORRECTION METHOD OF BURIED RESIN PIPE
測定定規及び埋設樹脂管の扁平矯正方法 - 特許庁 - Thus, the degree of flatness for a silicon wafer W is increased.
結果、シリコンウェーハＷの平坦度を高めることができる。 - 特許庁 - MEASURING METHOD AND APPARATUS FOR LINEARITY AND FLATNESS
直線度ならびに平面度測定手法および測定装置 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD OF MEASURING FLATNESS OF SEMICONDUCTOR WAFER
半導体ウエハの平坦度を測定する装置及び方法 - 特許庁 - SYSTEMATIC ERROR MEASURING METHOD IN FLATNESS MEASURING SYSTEM ON OBJECT SURFACE TO BE INSPECTED, FLATNESS MEASURING METHOD AND APPARATUS USING THE SAME
被検体表面の平坦度測定系の系続誤差測定方法、これを用いた平坦度測定方法、及び、装置 - 特許庁 - Thereby, the thin films having high flatness can be formed.
これにより平坦度の高い薄膜が形成可能となる。 - 特許庁 - To improve the flatness of a wafer mounted on a wafer holder.
ウエハホルダに搭載されるウエハの平坦度を向上する - 特許庁 - Consequently, if flatness is kept in the initial state, the flatness is not impaired by the subsequent projection of the components or the like.
このため、初期状態にて平坦性を保てば、その後部品等の突出により平坦性が損なわれることがない。 - 特許庁 - To keep the flatness of a polishing pad in a polishing process.
研磨工程において、研磨パッドの平坦性を維持させる。 - 特許庁 - To provide a measuring instrument for flatness, etc. to measure a change in flatness of a measuring object with high accuracy and a measuring method for flatness, etc.
高精度に測定対象物の平坦度の変化を測定することができる平坦度等の測定装置および平坦度等の測定方法を提供することを目的としている。 - 特許庁 - A plurality of kinds of prescribed intervals for evaluating the road flatness is selected to find the flatness data in every prescribed interval value, and the each flatness data is settled in the every flatness settled distance in the plurality of kinds of the respective prescribed intervals.
路面の平たん性を評価する複数種類の所定間隔を選択し、所定間隔値毎に平たん性データを求め、複数種類の所定間隔においてそれぞれの各平たん性まとめ距離毎に各平たん性データをまとめる。 - 特許庁 - PLANE FLATNESS MEASURING METHOD AND MEASURING DEVICE
平面平坦度測定方法及び平面平坦度測定装置 - 特許庁 - METHOD OF FLATNESS CONTROL OF STRIP AND CONTROL SYSTEM THEREFOR
帯板の平坦度を制御する方法と、そのための制御システム - 特許庁 - FLATNESS MEASURING DEVICE OF SUBSTRATE AND ITS SHAPE DIMENSION MEASURING DEVICE
基板の平坦度測定装置および形状寸法測定装置 - 特許庁 - FLATNESS MEASUREMENT OF CONTACT PART IN VACUUM- ATTRACTING DEVICE
真空吸着器における接触部の平坦度測定方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING FLATNESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE PACKAGE
半導体装置実装体の平坦度検査方法及び装置 - 特許庁 - METHOD FOR CONTROLLING THICKNESS AND FLATNESS IN MULTIPLE PASS ROLLING
複数パス圧延における板厚及び平坦度制御方法 - 特許庁 - To provide a flatness measuring interferometer capable of highly accurately measuring flatness of a wafer that a dielectric substance film is formed.
誘電体膜が形成されたウエハの平面度を高精度に測定できる平面度測定用干渉計を提供すること。 - 特許庁 - FLATNESS KEEPING METHOD FOR THIN PLATE AND LAMINATE USING THE METHOD
薄板の平坦度維持方法、並びにそれを用いた積層体 - 特許庁 - This means a state (flatness) where the object is 80μm raised from a reference surface.
基準面から８０μｍ浮いた状態（平坦度）である。 - 特許庁 - SENSOR RING, FLATNESS INSPECTION METHOD, AND ROTATION DEFLECTION ACCURACY INSPECTION METHOD
センサリングと平面度検査方法と回転振れ精度検査方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING STAINLESS STEEL SHEET EXCELLENT IN FLATNESS AFTER ETCHING
エッチング後の平坦性に優れたステンレス鋼板の製造方法 - 特許庁 - To provide a substrate of a mask for use of EUVL with high flatness.
平面度の高いＥＵＶＬ用マスクの基板を提供する。 - 特許庁 - To improve both cleanability and flatness of a semiconductor substrate.
半導体基板の清浄度と平坦度を共に向上させる。 - 特許庁 - To secure flatness of a pixel electrode surface in a display device.
表示装置において、画素電極面の平坦性を確保する。 - 特許庁 - To improve flatness of a layer below an n-clad layer comprising AlxGa1-xN.
Al_xGa_1-xNから成るｎクラッド層の下層の平坦度を向上させる。 - 特許庁 - To make manufacturable an exposure mask substrate having desired flatness.
所望の平坦度を有する露光マスク基板を製造すること。 - 特許庁 - To obtain sheet glass particularly having excellent flatness with high productivity.
特に平坦性に優れた板硝子を、高い生産性で得る。 - 特許庁 - HEATING AND PRESSURIZING DEVICE AND METHOD FOR ADJUSTING FLATNESS OF PRESSURE CONTACT SURFACE
加熱圧着装置および圧接面の平坦度調整方法 - 特許庁 - To improve the flatness of a resist solution applied on a substrate.
基板上に塗布されたレジスト液の平坦性を向上する。 - 特許庁 - FLATNESS MEASURING METHOD AND DEVICE OF SLIDING SURFACE OF THRUST ROTARY PLATE
スラスト回転板すべり面の平坦度測定方法及び装置 - 特許庁 - To provide a flatness gage 31 capable measuring flatness all over the measuring span, which has good workability for flatness measurement without constraint to a lower limit of a measurable measuring span.
平坦度測定の作業性が良好であり、測定可能な測定スパンの下限に制約がなく、測定スパン内の全範囲について平坦度を測定できる平坦度測定装置３１を提供する。 - 特許庁 - Consequently, the flatness of a color-filter substrate can be improved.
よって、カラーフィルタ側基板の平坦性を向上させることができる。 - 特許庁
- 特許庁
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