「flatness」を含む例文一覧(3514)

<前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 70 71 次へ>
  • To surely maintain flatness while reducing heat transfer through a spacer.
    スペーサを介した伝熱を抑制するとともに、平面性を確実に維持する。 - 特許庁
  • APPARATUS FOR MEASURING FLATNESS OF SURFACE MOUNTED ELECTRONIC UNIT AND MEASURING METHOD THEREOF
    面実装用電子ユニットの平坦度測定装置、及びその測定方法 - 特許庁
  • According to such a method, a flatness of a surface of the gate electrode is enhanced, and a flatness of a surface of a gate insulating film (12) formed thereon is enhanced.
    かかる方法によれば、ゲート電極の表面の平坦性が向上し、その上に形成されるゲート絶縁膜(12)の表面の平坦性も向上する。 - 特許庁
  • To provide a multilayered wiring board excelling in dimensional accuracy and flatness.
    寸法精度および平坦性の良好な多層配線基板を提供する。 - 特許庁
  • Incidentally, if the flatness of an active layer is low, the luminance intensity is lowered.
    なお、活性層の平坦性が低い場合には発光強度が低下する。 - 特許庁
  • FLATNESS AND SHAPE MEASURING DEVICE FOR SURFACE PLATE FOR SURFACE GRINDING/POLISHING DEVICE
    平面研削・研磨装置の定盤の平坦度及び形状測定装置 - 特許庁
  • A first flatness detector 20 detects flatness of two pixel data G1 and G3 included in a top field and outputs a detection signal Kt.
    第1の平坦検出部20は、トップフィールドに含まれる2つの画素データG1,G3の平坦性を検出し、検出信号Ktを出力する。 - 特許庁
  • To provide an electrostatic chuck device excellent in flatness of a suction surface.
    吸着面の平面度が良好である静電チャック装置を提供する。 - 特許庁
  • The glass substrate 28 has higher rigidity than the electrode substrate 25, and has flatness good enough to secure the flatness of the entire shutter device 21.
    ガラス基板28は電極基板25よりも剛性が高く且つシャッタ装置21全体の平面性を確保するだけの優れた平面性を備えている。 - 特許庁
  • To make the flatness of the ball terminal vertex position of a semiconductor package uniform.
    半導体パッケージのボール端子頂点位置の平坦度を均一化する。 - 特許庁
  • To provide a useful technology for improving the flatness of a substrate which is held.
    保持された基板の平坦度を改善する有用な技術を提供する。 - 特許庁
  • Here, the flatness of the surface of the multipolar magnet 23 is 0.2 mm or smaller.
    ここで、多極磁石23の表面の平面度は、0.2mm以下である。 - 特許庁
  • To provide a flatness anomaly detecting technique with good throughput capable of detecting anomalies of flatness by examining the test substance during short time.
    短時間に被検査物体の検査を行い、平坦度の異常を検出できるスループットの良好な平坦度異常検出方法を提供すること。 - 特許庁
  • A flatness keeping hole 9c is formed at the projecting part 9b of the upper cover 9.
    上カバー9の凸部9bに、平面性維持孔9cを形成する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a semiconductor wafer which can improve flatness of a wafer even after polishing and satisfy requirements for high flatness to a wafer.
    ポリッシングの後でもウェーハの平坦度を改善することができ、高平坦度ウェーハへの要求を満足し得る半導体ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an aluminum alloy sheet excellent in flatness after machining in such a manner that the flatness of a surface is made excellent, and a production cost is reduced.
    表面平坦性に優れ、生産コストの削減が可能となるような切削加工後の平坦性が優れたアルミニウム合金板を提供する。 - 特許庁
  • The flatness of a surface of the wafer, a for example, TTV and the like, is thereby improved.
    その結果、ウェーハ表面の平坦度、例えばTTVなどが高まる。 - 特許庁
  • The second contact hole 242 is used for measuring the flatness of the flat layer 26.
    第2コンタクトホール242は平坦層26の平坦度の測定用とされる。 - 特許庁
  • To provide an apparatus for inspecting a dynamic flatness of a mirror, capable of checking flatness values of the mirror when being irradiated with a laser beam and being deformed maximally.
    レーザ光照射時点や最大変形時におけるミラーの平面度を確認することができるミラーの動的平面度の検査装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a flatness measuring method for solving current problems in the measurement of flatness under present conditions, and to provide a measuring device using the same.
    平面度測定の現状での問題点を解消することできる平面度の測定方法とこの方法を用いた測定装置を提供すること。 - 特許庁
  • The electric planarizing method attains a superior surface flatness of a wafer 14.
    電気平坦化技術はウェーハ(14)の面のすぐれた平坦度を達成する。 - 特許庁
  • To provide a wide band amplifier with high flatness of output characteristics.
    出力特性の平坦度が良好な広帯域増幅器を提供する。 - 特許庁
  • To measure the surface flatness with high accuracy.
    表面の平坦性を精度よく測定できるようにすることを目的とする。 - 特許庁
  • To obtain a beam splitter capable of ensuring flatness with a high degree of accuracy at a low cost.
    低コストで平面度を高い精度で確保できるビームスプリッタを得る。 - 特許庁
  • To reduce work in measurement of flatness and improve measurement accuracy.
    平面度測定における作業労力低減および測定精度の向上 - 特許庁
  • Flatness of the surface of the displacement Sn plating 23 is improved.
    そして、置換Snめっき23の表面の平坦性が良好なものとなる。 - 特許庁
  • To improve an interconnecting line in flatness and processability so as to obtain an embedded wiring structure which is free from defects and highly improved in flatness.
    配線形成時の平坦化及び加工性能を向上させ、欠陥のない、高い平坦性を有する埋込み配線構造が得られるようにする。 - 特許庁
  • To realize flatness of a capacity coefficient in a flattened torque converter.
    偏平化されたトルクコンバータにおいて、容量係数のフラット化を実現する。 - 特許庁
  • To provide a brake disk inspecting device measuring flatness of the upper surface or the under surface of a brake disk to judges a specification demand of the above flatness from the measurement results.
    ブレーキディスクの上面又は下面の平坦度を測定し、測定結果が前記平坦度の仕様要求を判断するブレーキディスク検査装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide ink for an inkjet color filter excellent in flatness within pixels.
    画素内の平坦性に優れたインクジェットカラーフィルター用インクを提供する。 - 特許庁
  • To provide a curable resin sheet with excellent thickness accuracy and flatness.
    厚み精度および平面性に優れた硬化性樹脂シートを提供する。 - 特許庁
  • To improve flatness and plane tilt precision of a mirror surface of a rotary polygon mirror.
    回転多面鏡のミラー面の平面度、面倒れ精度を向上させる。 - 特許庁
  • To solve the problem that pixel flatness deteriorates and to prevent color shading due to the deterioration in the pixel flatness of an ink jet type color filter as to a manufacturing method for the ink jet type color filter.
    本発明はインクジェット方式におけるカラーフィルタの製造方法において、画素平坦性が悪化する問題を解決することを課題とする。 - 特許庁
  • In the method for determining the flatness of a transparent substrate for an electronic device, the flatness of a transparent substrate for an electronic device is determined so that the flatness of a mask blank becomes the desired value in consideration of a variation in flatness due to the film stress of a thin film formed on the principal surface of the transparent substrate.
    電子デバイス用透明基板の主表面上に形成する薄膜の膜応力に起因した平坦度変化量を見込んで、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となるように、前記透明基板の平坦度を決定することを特徴とする電子デバイス用透明基板の平坦度決定方法。 - 特許庁
  • To provide a template superior in flatness by reducing a warp and deformation.
    反りや変形の少ない平面度の優れた型板を提供することである。 - 特許庁
  • SURFACE SHAPE EVALUATION METHOD AND HIGH ACCURACY FLATNESS POLISHING METHOD USING IT
    表面形状評価方法およびこれを用いた高精度平滑研磨方法 - 特許庁
  • INCLINATION ADJUSTING DEVICE AND FLATNESS MEASURING DEVICE FOR PLATE BODY USING THE SAME
    傾き調整装置およびこれを用いた板状体の平坦度測定装置 - 特許庁
  • To measure the flatness of a semiconductor wafer while suppressing deformation due to own weight.
    半導体ウエハの平坦度を自重による変形を抑制して測定する。 - 特許庁
  • METHOD FOR SETTING AND CALCULATING DRAFT SCHEDULE OF PLATE ROLLING AND METHOD FOR CONTROLLING FLATNESS
    板圧延のドラフトスケジュール設定計算方法及び平坦度制御方法 - 特許庁
  • To manufacture a polymer film excellent in flatness by reducing oblique irregularity or thickness irregularity.
    斜めムラや厚みムラを低減して平面性に優れたフイルムを製造する。 - 特許庁
  • The flatness of the surface of the reference flat surface member 33 is previously prepared.
    基準平面部材33の表面の平坦度は予め準備されている。 - 特許庁
  • To provide a polishing pad for improving the flatness of an object to be polished, and suppressing end face sagging.
    被研磨物の平坦性を改善するとともに、端面だれを抑制する。 - 特許庁
  • To place a substrate on a substrate tray which is used to transfer the substrate, with good flatness.
    基板の搬送に用いる基板トレイ上に基板を平面度良く載置する。 - 特許庁
  • To improve flatness of a connector and to repair the connector without any stress.
    コネクタの平坦度が向上でき、コネクタのリペアをストレスを掛けずに行えること。 - 特許庁
  • To provide a polishing pad capable of improving flatness in a polishing object.
    被研磨物の平坦性を向上させることができる研磨パッドを提供する。 - 特許庁
  • COLD-ROLLED STEEL SHEET SUPERIOR IN FLATNESS AFTER HAVING BEEN STAMPED AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
    打抜き加工後の平坦度に優れた冷延鋼板およびその製造方法 - 特許庁
  • PRODUCTION OF STEEL PLATE AS COLD-ROLL EXCELLENT IN FLATNESS OF PUNCHED PARTS
    打抜き部品の平坦度に優れる冷間圧延まま鋼板の製造方法 - 特許庁
  • METHOD OF EVALUATING FLATNESS OF ELECTRODE PAD PROVIDED ON MOUNTING SURFACE OF MOUNTING SUBSTRATE
    実装用基板の実装面における電極パッドの平坦性評価方法 - 特許庁
  • Further, an insulator film containing organic material is provided so as to be given flatness.
    平坦性を持たせるため、有機材料を含む絶縁膜をさらに設ける。 - 特許庁
  • FLATNESS MEASURING DEVICE OF WORKPIECE EQUIPPED WITH WORKPIECE PEDESTAL, AND THE WORKPIECE PEDESTAL
    ワーク受け台ならびにこのワーク受け台を備えたワークの平坦度測定装置 - 特許庁
<前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 70 71 次へ>

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.