「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 10 11 12 13 14 15 16 17 18 .... 90 91 次へ＞- To form an antenna pattern having expected pattern width by removing a conductive film by a desired width.
導電膜を所期の幅で除去することで、所期のパターン幅を有するアンテナパターンを形成することができるアンテナの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To form a high-accuracy pattern so that a residual film of a photosensitive material may not be generated on a joint of the pattern on a boundary line of a scanning band.
走査バンドの境界線上におけるパターンのつなぎ目に感光材料の残膜が生じないように、高精度のパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a semiconductor device which can form a precise fine pattern by reducing the influence of uneven density of the pattern.
パターンの粗密の影響を低減し、精度のよい微細パターンを形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which enables to form a pattern with few development defects, and an organic processing liquid used in the method.
現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる有機系処理液を提供する。 - 特許庁 - A shrinkable 1st yarn is sewn into a cloth 1 to form a pattern the 1st yarn is allowed to shrink with heat to form a creased pattern the pattern is fixed by hot press, a soluble 2nd yarn is dissolved and the 1st yarn is removed to form a creased pattern 3 corresponding to a design on the circumference of the hole formed by the removal of the yarn.
収縮性を有する第１糸を生地１に縫い取り、模様を形成し、前記第１糸を熱により収縮させ、前記模様に皺を寄らせ、この皺を熱プレスによって固定し、溶解性を有する第２糸を溶解させ、前記第１糸を取り除くことによって、取り除き糸孔の周りにデザインに応じた皺模様３を設ける。 - 特許庁 - Each structure is disposed to form a plurality of circular tracks on the substrate surface as well as to form a quasi-hexagonal lattice pattern.
各構造体は、基体表面において複数列の円弧状トラックをなすとともに、準六方格子パターンをなすように配置されている。 - 特許庁 - This game machine generates a special game condition advantageous to a player when a game pattern combination form becomes a special display form.
遊技図柄の組合せ態様が特別表示態様となった場合に遊技者にとって有利な特別遊技状態を発生する遊技機である。 - 特許庁 - To form a thin film pattern on a film substrate at reduced manufacturing cost needed to form a precise positioning mark on the film substrate in advance.
フィルム基板に予め精密な位置合せマークを形成するために要する製造コストを低減してフィルム基板に薄膜パターンを形成する。 - 特許庁 - Further the second substrate is subjected to dry etching and wet etching to form an ink ejection port, and the latent image pattern is eluted to form the ink channel.
そして、第２の基板をドライエッチング及びウェットエッチングしてインク吐出口を形成し、潜像パターンを溶出してインク流路を形成する。 - 特許庁 - The laser beam impinges the inside surface of the cover to form a groove scoring 20 or spaced perforations to form a preweakening pattern.
レーザビームはカバー１６の内側表面に衝突し、溝の刻み２０或いは離間された孔を形成して、予脆弱化するパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a form processing system which can improve use efficiency of dot pattern printed as position information on a document of a form.
帳票の書面に位置情報として印刷されるドットパターンの利用効率を向上させることのできる帳票処理システムを提供する。 - 特許庁 - A form system 106 acquires the dot size from a form system 105, and generates print data for printing a form provided with a dot pattern based on the acquired dot size.
そして、帳票システム１０６が帳票システム１０５からドットサイズを取得し、該取得されたドットサイズに基づいて、ドットパターンが配置される帳票を印刷する印刷データを生成する。 - 特許庁 - The printer 40 checks the form ID of the received electronic document, decolors the ground tint pattern image of the electronic document to eliminate the ground tint pattern when the form ID satisfies the ground tint pattern invalidation condition, and prints out the image after the elimination.
印刷装置４０は、受け取った電子文書のフォームＩＤを調べ、そのフォームＩＤが地紋無効化の条件を満足する場合、その電子文書の地紋画像を無色化することで地紋を除去し、その除去結果の画像を印刷する。 - 特許庁 - A coil portion where insulator layers and a conductor pattern are laminated and the conductor pattern between the insulator layers is connected spirally to form a coil, and an impedance portion where insulator layers and a conductor pattern are laminated to form an impedance element are stacked one over the other.
絶縁体層と導体パターンを積層し、絶縁体層間の導体パターンを螺旋状に接続してコイルが形成されたコイル部と、絶縁体層と導体パターンを積層してインピーダンス素子が形成されたインピーダンス部とが積層される。 - 特許庁 - To provide a head light for a vehicle constituted so as to form a light distribution pattern for low beam, capable of forming the light distribution pattern for low beam with an intended pattern form and lightness distribution.
ロービーム用配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、その光源として半導体発光素子を用いた場合においても、所望するパターン形状および光度分布でロービーム用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - Because a dot pattern printed on the version-recognition area is different for each version of the form, the version recognition device recognizes the version of the form by using the pattern.
バージョン認識用エリアに印刷されたドットパターンは、電子ペン用帳票のバージョン毎に異なるものであるので、バージョン認識装置は、これを利用して電子ペン用帳票のバージョンを認識する。 - 特許庁 - To form a light distribution pattern for over-head signal (OHS) irradiation after achieving downsizing and weight saving of a shade, for a projector type vehicle headlight composed to form a low-beam light distribution pattern.
ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、シェードの小型軽量化を図った上で、ＯＨＳ照射用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - With the formed pattern of the intensity distribution pattern 2a, a predetermined form which corrects the spherical aberrations is available as a mirror face form, when pressure is applied to the deformable member 2.
この強度分布パターン２ａの形成パターンによって、可撓性部材２に圧力が印加された際のミラー面の形状として球面収差を補正することのできる所定の形状を得ることができる。 - 特許庁 - A method for manufacturing a semiconductor device includes a step of applying the resist pattern thinning material to cover the surface of a resist pattern formed on a base layer to form a mixing layer with the resist pattern thinning material on the surface of the resist pattern and developing to form a thinned resist pattern, and a step of patterning the base layer by etching using the resist pattern as a mask.
下地層上に形成したレジストパターンの表面を覆うように該レジストパターン薄肉化材料を塗布し、レジストパターンの表面に該レジストパターン薄肉化材料とのミキシング層を形成し現像処理し、薄肉化したレジストパターンを形成する工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - To avoid lowering the yield due to breaking of a resist pattern and prevent an etching liquid flow from being blocked in the gap between thick film patterns to accurately form a desired pattern over the entire substrate, when photosensitive layers on a substrate are exposed and developed to form a mask pattern and the substrate is etched with the mask pattern to form the pattern of the same shape as that of the mask pattern on the substrate.
基板上に形成された感光層に露光および現像によりマスクパターンを形成し、そのマスクパターンを用いて基板をエッチングすることにより、基板にマスクパターンと同一形状のパターンを形成する際に、レジストパターンの破れによる歩留の低下を防止する一方で、厚膜パターン同士の隙間でエッチング液の流れが阻害されることを防止し、基板全体にわたり所望のパターンを精度良く形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method of forming a conductive pattern on a substrate that can form a wiring pattern without using photolithography and improve adhesion between a region on the substrate where the wiring pattern should be formed and the wiring pattern.
フォトリソグラフィを用いずに配線パターンを形成することが可能で、基板上の配線パターンを形成すべき領域と配線パターンとの密着性を向上することができる基板上への導電パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - A specific pattern which may form a peak in the transmitting data series is previously checked and stored in memories built in the pattern comparison circuits 15a, 15b and the specific pattern is compared with practical transmitting data to detect a pattern which may generate a peak.
ピークとなるような送信データ系列の特定のパターンをあらかじめ調べてパターン比較回路１５ａ、１５ｂ内のメモリに記録しておき、実際の送信データと特定のパターンとを比較し、ピークが発生しうるパターン検出を行う。 - 特許庁 - A first pattern 1 is formed on a substrate 3, and a layer 2 made of a material to be patterned is formed in the opening 4 of the first pattern 1, and then the first pattern 1 is removed to form a second pattern made of a material to be patterned.
基板３上に第一のパターン１を形成し、その第一のパターン１の開口部４に被パターン材料からなる層２を形成し、その後、第一のパターン１を除去して被パターン材料からなる第二のパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a composition for nano imprint excellent in pattern formability and mold releasability, can form a good pattern, and give a pattern after the etching that is small in line edge roughness, and to provide a pattern and a patterning method using this.
パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The resist pattern 3 and the coating layer 4 are heat treated to form a modified layer 5 insoluble with a developing solution on the surface of the resist pattern 3, and then developed to obtain a pattern having the modified layer 5 on the resist pattern surface.
レジストパターン３及び被覆層４を加熱処理することにより、レジストパターン３の表面に現像液不溶性の変性層５を形成し、現像することによりレジストパターン表面に変性層５を有するパターンを得る。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material which is excellent in operability and follow-up feature for unevenness of a base material surface, can prevent the sensitivity of a photosensitive layer from lowering, and can form a high precision pattern, and to provide a pattern forming device provided with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.
操作性、及び基体表面の凹凸追従性に優れ、かつ、感光層の感度低下を抑制可能であると共に、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - In a special pattern game performed by the fluctuation of three left, middle and right display patterns, when a pattern apparently forming a big hit is formed after the left pattern and the right pattern are temporarily stopped to form a next-to-win display mode, a plurality of dot matrix patterns of the middle pattern is aligned and displayed so as to display the middle pattern as the whole.
左、中、右の３つの表示図柄の変動で行われる特図ゲームにおいて、左図柄と右図柄が仮停止してリーチ表示態様となった後、見かけ上、大当たりとなる図柄となったときに、中図柄のドットマトリクスパターンを複数個配列して、全体として中図柄を表すように表示する。 - 特許庁 - The auxiliary pattern 12 is formed into a shape and dimension in such a manner that when the objective pattern 11 is transferred onto a wafer to form a circuit pattern, the circuit pattern can keep its essential functions, as well as the pattern 12 is formed in a position to allow the circuit pattern to keep its essential functions.
補助パターン１２は、測定対象パターン１１が転写されてウェーハ上に回路パターンが形成されたときに、その回路パターンの本来有すべき機能を維持させるような形状と寸法で形成されるとともに、その回路パターンの本来有すべき機能を維持させるような位置に形成される。 - 特許庁 - To provide a pattern form in which a pattern having vastly different property has been efficiently formed and a method for manufacturing the same.
本発明は、特性の大きく異なるパターンが効率的に形成されたパターン形成体や、その製造方法等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - The RCHX layer is formed by vapor deposition, the energy active material is patterned to form a pattern and this pattern is transferred to the RCHX layer.
ＲＣＨＸ層は、蒸着により形成し、エネルギー活性材料をパターニングしてパターンを形成し、このパターンをＲＣＨＸ層に転写する。 - 特許庁 - After an FPC material is blanked efficiently into a prescribed pattern, the FPC material is folded into a prescribed component pattern to form an FPC connected to contact parts 1-1.
接点部１−１に接続されるＦＰＣは、ＦＰＣ素材を材料取りの良い所定形状にブランク後、所定の部品形状に折り曲げて成形する。 - 特許庁 - The decision process to the winning pattern form is shown variously by including the color element, so that the pattern can be expressed richly with various colors.
また、当り図柄態様への確定過程が、色要素を含んだ変化に富んだものとなり、色彩豊かな図柄表現を可能とすることができる。 - 特許庁 - By this arrangement, disturbance between the normal zigzag pattern and the ending stop sewing pattern is reduced so as to form stitches of high quality and with beauty.
このような構成では、通常の針振りパターンと終わり止め縫いパターン間の乱れが少なくなり、高品質で美観に優れた縫い目が形成される。 - 特許庁 - To provide a color image forming device which can form an excellent pattern without repeating pattern generation processing for position shift detection.
位置ずれ検出用パターン作成処理を複数回繰り返すことなく、良好なパターンを作成することを可能にしたカラー画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a mask pattern forming method, which is capable of carrying out complementary split processing at a high speed without creating a pattern which is impossible or hard to form on a stencil mask.
ステンシルマスクに形成不可能または形成困難なパターンを発生させずに、高速で相補分割処理を行えるマスクパターン作成方法を提供する。 - 特許庁 - The grinding particles 62 passing through the openings of the pattern portion form a recessed portion on the outer peripheral face of the cylindrical member W corresponding to the openings of the pattern portion.
パターン部の開口部を通過した研削粒子６２は、円筒部材Ｗの外周面に、パターン部の開口部に対応する凹部を形成する。 - 特許庁 - To provide a wiring film thickness control means able to stably form a wiring pattern of a desired thickness, and to provide a configuration for a conductive pattern forming apparatus using the means.
所望の厚さの配線パターンを、安定に形成できる配線膜厚制御手段と、それを用いた導電パターン形成装置構成の提供。 - 特許庁 - At least a part of the periphery of the first emboss pattern 20 is heated/cooled to form a second emboss pattern having an indefinite shape.
この第一のエンボス模様２０の周囲の少なくとも一部を加熱・冷却して、不定形状の第二のエンボス模様を形成するようにしてもよい。 - 特許庁 - While the main body 2 is in a folded state, the first antenna pattern 9 is connected to the second antenna pattern to form a first antenna part 12 with a small diameter.
本体ケース２の折畳み状態で、第１のアンテナパターン９と第２のアンテナパターンとが接続され小径な第１のアンテナ部１２が構成される。 - 特許庁 - To provide a pasting applicator that shortens a time required to form a paste pattern, is conveniently used and prevents errors of pattern data and a control process thereof.
ペーストパターンの形成にかかる時間を短縮させ、使用を便利にし、パターンデータのエラーを防止するペースト塗布器及びその制御方法を提供する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the resist pattern, the resist composition is applied to form a coating film, the coating film is exposed to light in a pattern shape and then dry etching is performed.
前記レジスト組成物を塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜にパターン状に露光を行った後、ドライエッチングを行うレジストパターンの製造方法。 - 特許庁 - The first patterns 2d and the second pattern 2f form a predetermined pattern which changes transmittance, whereby unevenness in a luminance distribution on the light emitting plane is reduced.
第一パターン２d及び第二パターン２fは、透過率を変化させる所定のパターンを形成し、光出射面上の輝度分布の不均一を低減する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a substrate, which prevents formation of a plated layer on a needless part, and can form a fine pattern, namely a clearer pattern of a circuit.
無駄な部分のめっき層の形成を防止し、ファインパターン、即ちより鮮明な回路パターンの形成が可能な基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming apparatus in which an adjustment mechanism and a control mechanism are simplified and which can form a pattern highly precisely and efficiently.
調整機構及び制御機構を簡素化すると共にパターン形成を高精度かつ効率的に行うことを可能とするパターン形成装置等を提供する。 - 特許庁 - At the time, a small role pattern and a bonus pattern are turned to a double ready-to-win state display form by reel control and the expectations of winning are increased.
このとき、リール制御によって小役図柄とボーナス図柄とがダブルテンパイの表示態様となり、入賞の期待感を盛り上げることができる。 - 特許庁 - The resist film 102 that has been subjected to pattern exposure is heated, and the heated resist film 102 is developed to form a resist pattern 102a from the resist film 102.
続いて、パターン露光されたレジスト膜１０２を加熱し、加熱されたレジスト膜１０２を現像して、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 - 特許庁 - Discharge of a chemical from an application head is controlled on the base of the acquired pattern image data P to form a prescribed application pattern on a substrate sheet.
そして、取得したパターン画像データＰに基づいて塗布ヘッドからの薬液の吐出を制御して、基材シート上に所定の塗布パターンを形成させる。 - 特許庁 - Then, the second resist film R2 is selectively exposed to light, and development is made to form a second resist pattern P2 on the same layer as the first resist pattern P1 (Fig.7(f)).
その後、第２のレジスト膜Ｒ２を選択的に露光し、現像して、第１のレジストパターンＰ１と同じ層に第２のレジストパターンＰ２を形成する（図７（ｆ））。 - 特許庁 - Then the pressure-sensitive adhesive sheet 30 is peeled from the color filter substrate 22 leaving the sealing pattern 14 to form the sealing pattern 14 on the color filter substrate 22.
しかる後に、シールパターン１４を残して粘着シート３０をカラーフィルタ基板２２から剥離することにより、カラーフィルタ基板２２にシールパターン１４を形成する。 - 特許庁 - The pattern generator is used to pattern light from an illumination system, and the light is directed by a projection optical system onto a substrate to form features.
照射システムからの光をパターニングするためにパターンジェネレータが使用され、光は投影光学系によって基板上に配向されてフィーチャが形成される。 - 特許庁
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