「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 12 13 14 15 16 17 18 19 20 .... 90 91 次へ＞- An electric component is soldered on a conductive pattern 2 on an insulating substrate 1 to form an electric circuit.
絶縁基板１上の導体パターン２に電気部品を半田付け接続して電気回路を構成する。 - 特許庁 - To provide an exposure system which makes it possible to form a pattern with high precision at a high speed.
高速、高精度でパターンを形成することを可能にする露光システムを提供することを課題とする。 - 特許庁 - The patterns are arranged in a lattice form and the information is embedded by shifting each pattern in vertical directions.
パターンは格子状に配置され、各パターンを上下方向にずらすことにより、情報が埋め込まれる。 - 特許庁 - To efficiently form a fine pattern with a high precision in the surface or the inside of glass at a low cost.
ガラスの表面または内部に対し微細なパターンを高精度で効率良く、低コストで形成する。 - 特許庁 - To simply form a repeating pattern being fine and regular with high accuracy on a molding surface of a mold.
モールドの成形表面に、微細にして規則的な繰返しパターンを高い精度で簡易に形成する。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition which can form a pattern having excellent MEEF (Mask Error Enhancement Factor) and profile.
優れたＭＥＥＦ及び形状を有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供。 - 特許庁 - To ensure excellence in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and to accurately and stably form a fine pattern.
ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成できる。 - 特許庁 - The substrate is etched with use of the resist pattern 3 as a mask to form a contact hole 4 in the TEOS film 2.
このレジストパターン３をマスクとしたエッチングにより、ＴＥＯＳ膜２内にコンタクトホール４を形成する。 - 特許庁 - The transparent substrate 11 is irradiated with light A to form a resist pattern 21 on the surface of the transparent substrate 11.
透明基板１１に光Ａを照射し、透明基板１１の表面にレジストパターン２１を形成する。 - 特許庁 - Then, by removing the resist pattern formed earlier, it is possible to form the upper gate electrode 124.
この後、先に形成してあるレジストパターンを除去すれば、上部ゲート電極１２４が形成できる。 - 特許庁 - A light shielding material is coated in a bank between the bank pattern and the color filter layer to form a light shielding layer.
土手パターンとカラーフィルタ層との間のバンクに遮光性材料を塗布して遮光層を形成する。 - 特許庁 - This method can form the first space 111 towards the lower part of the stripe pattern 103a.
このことにより、第１空間１１１が、ストライプパターン１０３ａの下部にかけて形成された状態とする。 - 特許庁 - To easily form the side or inside conductive pattern of electronic parts with high position precision.
電子部品の側面あるいは内部の導体パターンを容易、かつ、位置精度良く形成することを可能にする。 - 特許庁 - Then, in order to form a resist pattern 21c, light is exposed to the resist film 21a with two light flux illumination.
次に、レジストパターン２１ｃを形成するためにレジスト膜２１ａを２光束照明にて露光を行う。 - 特許庁 - To easily form, on a substrate, a rib pattern suitable for formation of a lattice-like rib using a nozzle part.
ノズル部を用いた格子状のリブの形成に適したリブパターンを基板上に容易に形成する。 - 特許庁 - In order to form a P body 4a, boron ions are implanted into the pattern 3b from its edge by self alignment.
Ｐボディ４ａを形成するために、ポリシリコンパターン３ｂのエッジからセルフアラインでボロンを注入する。 - 特許庁 - To provide a screen mask which can easily form a printing pattern of high precision and high density with no bleeding.
滲みがなく、高精度かつ高密度な印刷パターンを容易に形成可能なスクリーンマスクを提供する。 - 特許庁 - To form a high precision pattern even when a light transmissive substrate is exposed.
光透過性の基板を露光する場合であっても、高精度なパターンを形成できるようにすることである。 - 特許庁 - To provide a resist composition which can form a pattern having excellent resolution and shape.
優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To form a conductor pattern finer than a conventional one in an electronic component and a manufacturing method of the electronic component.
電子部品とその製造方法において、従来よりも微細な導体パターンを形成すること。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition which can form a pattern having an outstanding mask error enhancement factor.
優れたマスクエラーエンハンスメントファクターを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To ensure a high resolution for a resist layer having a predetermined composition so as to form a resist pattern.
レジストパターンを形成するために、所定の組成を有するレジスト層に対して高い解像度をもたらす。 - 特許庁 - To form a resist pattern having few defects, an excellent shape, and excellent line edge roughness.
欠陥が少なく、かつ優れた形状及びラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁 - Subsequently, the first resist mask 10 is used as an etching mask to form a gate electrode 11, which is a working pattern, by RIE.
そして、これをエッチングマスクにしＲＩＥで加工パターンであるゲート電極１１を形成する。 - 特許庁 - To produce a liquid crystal display device which can form a negative pattern with high display quality and at low prices.
反転表示（ネガパターン）を形成可能で、表示品位の高い液晶表示装置を安価に製造する。 - 特許庁 - To form a metallic film of a specific pattern with a fewer processes without a mask by a resist film.
レジスト膜によるマスクなしに、少ない工程で、特定のパターンの金属膜を形成できるようにする。 - 特許庁 - Then, the conductive film pattern 13 is etched from the aperture 15 so as to form the end part in a taper shape.
次に、開口部１５から、導電膜パターン１３を、端部がテーパー状となるように、エッチングする。 - 特許庁 - (2) In a case where the repeating surface pattern is to be applied to a two-dimensional article, the representation may be in the form of a specimen.
(2) 反復平面模様を2次元の物品に用いる場合は，表示は，見本によることができる。 - 特許庁 - A resist film is formed on the conductive film 2 and then is exposed to light and developed to form a resist pattern 4.
導電膜２上にレジスト膜を成膜し、露光と現像を施しレジストパターン４を形成する。 - 特許庁 - The series of magnetic metal strips on the first and second parts (30 and 34) form a lattice pattern.
第１部分および第２部分（３０、３４）上の一連の磁性金属ストリップは格子パターンを形成する。 - 特許庁 - A lower hard mask 109 is etched using the first and second etching mask patterns to form a hard mask pattern.
第１及び第２のエッチングマスクパターンで下部のハードマスク１０９をエッチングし、ハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁 - The obtained photosensitive resist is used as a mask to etch the halftone film to form the specified pattern in the halftone film.
感光性レジストをマスクとしてハーフトーン膜をエッチングして、ハーフトーン膜に所定のパターンを形成する。 - 特許庁 - The receiving means receives information written by an electronic pen in the entry form printed in a dot pattern.
受信手段は、ドットパターンが印刷された記入用紙への電子ペンによる記入情報を受信する。 - 特許庁 - In a second templating step, a pattern of the first template is imprinted to form a second template.
第２のテンプレート作製ステップは、前記第１のテンプレートのパターンを転写して第２のテンプレートを作製する。 - 特許庁 - To form a substrate with a pattern whose surface is highly liquid repellent by a simple technique.
表面が撥液性に優れたパターン付き基板を簡便な手法で形成することを目的とする。 - 特許庁 - The receiving device can then form the repeating pattern of data words in response to receipt of the representation.
次いで、受信デバイスは、表示の受信に応じて、データワードの繰り返しパターンを構成することができる。 - 特許庁 - To form an isolated pattern such as a contact hole in high resolution with an enough depth of focus.
コンタクトホールのような孤立的なパターンを、良好な解像度で且つ十分な焦点深度で形成する。 - 特許庁 - The development is further carried out to completely remove the auxiliary line patterns 4 to thereby form the line pattern 3.
現像をさらに進めることにより、補助ラインパターン４を完全に除去してラインパターン３を形成する。 - 特許庁 - To form a solder bump at a predetermined height without solder wetting through a metallic post or a wiring pattern.
金属製のポストや配線パターンまで半田が濡れることがなく、半田バンプを所定の高さにする。 - 特許庁 - The patterning device imparts the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.
パターン化デバイスは、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームの断面にパターンを付与する。 - 特許庁 - A resin is embedded into the matrix to cure and form a resin film 15 for bearing the pattern (Fig.(e)).
この母型に樹脂を埋設し、これを硬化して、パターンを担う樹脂膜１５を形成する（図１（ｅ））。 - 特許庁 - To form a pattern having excellent adhesion property of a chemically amplifying type resist on a silicon nitride film in a short time.
密着性の優れたパターンを化学増幅型レジストでシリコン窒化膜上に短時間で形成する。 - 特許庁 - An electric field is generated within the etchant solution to cause an anisotropic etch pattern to form on a surface of the workpiece.
エッチャント溶液内に電界が生成され、加工物の表面に異方性エッチング・パターンを形成させる。 - 特許庁 - To pattern in a stable form of an unexposed part for fine patterning.
より微細なパターニングにおける非露光部分を安定した形状でパターニングすることを可能とすること。 - 特許庁 - To stably form a micro-protrusion pattern suitable for an anti-reflection structure.
本発明は、反射防止構造に好適な微細突起パターンを安定的に形成することを可能にする。 - 特許庁 - To provide a finishing method for mortar, which can form an arbitrary pattern rich in variation.
変化に富んだ任意の模様を形成することができるモルタルの仕上げ工法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a method for forming textiles which can form any pattern and color.
本発明は、いずれの模様及び色彩を形成することができる繊維製品の成型方法を提供する。 - 特許庁 - To perform retrieval of an image containing a similar form pattern between image groups belonging to dissimilar categories.
異種のカテゴリに属する画像群間で、類似する形態パターンが含まれる画像の検索を行う。 - 特許庁 - To form a pattern comprising liophilic parts and liophobic parts by a simple process as compared with a conventional one.
従来に比べて簡単な工程で、親液性部分と疎液性部分とからなるパターンを形成する。 - 特許庁 - To form a conductor pattern on the surface of a substrate with high accuracy by a print method using a mask.
マスクを使用する印刷方法を用いて基板の表面に導体パターンを高精度に形成する。 - 特許庁
