「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 .... 90 91 次へ＞- A robot arm may be used to move a laser generator 12 so as to form the preweakening pattern.
ロボットアームが、予脆弱化するパターンを形成するようレーザ発生器１２を移動すべく用いられてもよい。 - 特許庁 - To form a copper wiring pattern on a resin layer, not including a filler, by plating with a higher adhesion force.
フィラーを含まない樹脂層上に銅配線パターンをメッキにより高い接着力で形成する。 - 特許庁 - To form a substrate having an irregular pattern finer than that formed in a master stamper manufacturing stage.
マスタリング工程で形成できる凹凸パターンより微小な凹凸パターンを有する基板を形成する。 - 特許庁 - To enable to form an organic pattern layer of an organic electronic device of high positional accuracy by a letterpress printing.
有機電子デバイスの有機パターン層を凸版印刷により高い位置精度で形成可能とする。 - 特許庁 - Then, a ceramics slurry is applied on the surface of the layer formed by the pattern, to form a ceramics green sheet 1.
次に、これらのパターンによる層の表面にセラミックスラリーを塗工してセラミックグリーンシート１を形成する。 - 特許庁 - Next, the system is exposed to light with a reticle 22 as a mask to form a resist pattern 21a having a desired dimension (c).
次に、レチクル２２をマスクとして露光し、所望の寸法のレジストパターン２１ａが形成される(c)。 - 特許庁 - A sidewall part of the silicon nitride film N is melted to form a pattern N1 on the silicon nitride film N (Fig.7(e)).
シリコン窒化膜Ｎの側壁部を溶解して、シリコン窒化膜ＮにパターンＮ１を形成する（図７（ｅ））。 - 特許庁 - Next, the given solvent is used to etch the conductive layer 5a and thereby to form a conductor pattern 5.
次に、所定の溶媒を用いて導体層５ａをエッチングすることにより導体パターン部５を形成する。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive paste which enables to stably form an inorganic fine pattern.
無機物の微細パターンを安定に形成することを可能にするポジ型感光性ペーストを提供する。 - 特許庁 - To reduce manufacturing steps in number and to form a pattern smaller than the condensing spot of a light beam.
製造工程を削減することができ、かつ光ビームの集光スポット以下のパターンを形成する。 - 特許庁 - ZrO_x is formed in pattern by making into paste-form a zirconium oxide available generally as a reagent.
ＺｒＯ_ｘは一般に試薬として入試できる酸化ジルコニウムをペースト状にしてパターン形成する。 - 特許庁 - PATTERN-TRANSFERRING BOARD FOR CONCRETE DECORATIVE FORM AND METHOD FOR CONSTRUCTING DECORATIVE CONCRETE MOLDED BODY USING THE BOARD
コンクリート化粧型枠用の模様転写板及びこれを用いた化粧コンクリート成形体の施工方法 - 特許庁 - a coordinate is extracted from the input signal waveform pattern drawn on the drive waveform input form.
駆動波形入力フォーム上に描画した入力信号波形のパターンから座標を抽出する。 - 特許庁 - To form a pattern which is polyimide under heat treatment at ≤300°C and has good chemical resistance after the heat treatment.
３００℃以下の熱処理でポリイミドであり、かつ熱処理後の耐薬品性が良いパターンを形成する。 - 特許庁 - To obtain a polymeric compound for use in photoresist that has excellent etching resistance and can form a fine pattern precisely.
耐エッチング性に優れ、微細なパターンを精度よく形成できるフォトレジスト用高分子化合物を得る。 - 特許庁 - To form a template histogram capable of precisely performing the inspection of a pattern on a semiconductor substrate.
半導体基板上のパターンの検査を精度よく行うことができるテンプレートヒストグラムを生成する。 - 特許庁 - To uniformly form a fine stripe-shaped pattern in a vertical alignment division type liquid crystal display.
垂直配向分割型液晶表示装置において、微細なストライプ状パターンを均一に形成する。 - 特許庁 - The mask body 2 consists of plastic sheets formed with seeable-through parts 4 and hiding parts 5 to a striped pattern form.
マスク体２は、透視可能部４と隠蔽部５とが縞模様状に形成してあるプラスチックシートからなる。 - 特許庁 - To provide a method and device for measuring a form which can measure a fine pattern accurately.
微細なパターンを正確に測定することができる形状測定方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - On the top surface of a flexible board 11, a wiring pattern 12 is formed to form a ground conductor 16 on its rear surface.
フレキシブル基板１１には配線パターン１２と裏面に接地導体１６が形成されている。 - 特許庁 - After the insulating film 5 is formed, the insulating film 5 is lifted-off to form an opening part of a mask pattern 6.
絶縁膜５の形成後、該絶縁膜５をリフトオフ処理してマスクパターン６の開口部を形成する。 - 特許庁 - The patterning device can form patterned radiation beams by providing a pattern to the cross section of radiation beams.
パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができる。 - 特許庁 - The surface is copper-plated 103 to form a resist 104, inner and outer connection terminals and a wiring part are left to form a circuit pattern 105 by etching.
表面を銅メッキ１０３し、レジスト１０４を形成して内外接続端子、配線部を残してエッチングにより回路パターン１０５を形成する。 - 特許庁 - To provide a mold which can accurately form a recessed and protruded pattern having a nanosize, and also excellently transfer to form to the part to be processed; and its manufacturing method.
ナノサイズの凹凸パターンが精度良く形成され、また被加工部に対し良好に転写形成することが可能なモールドとその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To form a metallic film on a base, and to require an etching process in order to form a circuit pattern by using an inprint technology or a photolithography technology.
インプリント技術やフォトリソグラフィー技術を用いて回路パターンを形成するためには、下地に金属膜を形成し、さらにエッチング工程を必要とする。 - 特許庁 - The business form processor detects the reference position in a pattern in the input business form image, and recognizes the size information of the region 2.
帳票処理装置は、入力した帳票画像中のパターンにおける基準位置を検出すると共に領域２のサイズ情報を認識する。 - 特許庁 - In this processing system 100, the business form 3 for the electronic pen is produced by printing background information on a dot pattern business form by the printer 4.
処理システム１００において、電子ペン用帳票３は、プリンタ４によりドットパターン帳票に背景情報を印刷することで製造される。 - 特許庁 - As a result, when an amount of variable data increases and the form is expanded downward in a drawing, the pattern is expanded with the same margin 601 interlocked with expansion of the form.
その結果、帳票が可変データの量が増して図中下方に拡大すると、それに連動して地紋画像も同じマージン６０１を持って拡大する。 - 特許庁 - The surface 7 is irradiated with laser L from an irradiation nozzle 20 to form burnt parts 8 on a crown member 4 of the head to thereby form the display part such as a pattern.
照射ノズル20からのレーザーＬを地肌７に照射して焼付け部８をヘッドのクラウン部材４に形成して模様などの表示部を形成する。 - 特許庁 - Also, in both cases of a time shortening state and the latent probability variable state, a display form of a background and a performance form based on a variation pattern are made to be the same.
また、時短状態および潜伏確変状態のいずれの場合にも背景の表示態様や変動パターンにもとづく演出態様を同じにする。 - 特許庁 - Page data are input to the modulation table 12 of a control section 2 in the form of signal bit column and modulated to the form of block pattern and sent out to an SLM 3.
ページデータは、信号ビット列の形式で制御部２の変調テーブル１２に入力され、ブロックパターンの形式に変調されてＳＬＭ３に送出される。 - 特許庁 - To provide a surface modifying material and a resist pattern forming method which can form a resist pattern with excellent adhesion to a support, good pattern collapse resistance and high resolution, and a pattern forming method in which such a resist pattern hardly comes unstuck from the support in etching treatment.
支持体との密着性に優れ、パターン倒れの耐性が良好で、解像性の高いレジストパターンを形成できる表面改質材料及びレジストパターン形成方法と、エッチング処理を行った際に支持体からレジストパターンが剥がれにくいパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - The pattern forming method is carried out by using a pattern forming material having at least a photosensitive layer on a supporting body, and includes steps of laminating the photosensitive layer on a substrate to be processed, exposing and developing the photosensitive layer to form a resist pattern, and shaping the resist pattern by a dry process on the resist pattern.
支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、該感光層を露光し、現像してレジストパターンを形成した後、該レジストパターンに対してドライプロセスによりレジストパターン整形工程が行われるパターン形成方法。 - 特許庁 - In a flat display device provided with a conductive pattern, the method for forming a conductive pattern includes: a step of preparing a base member; a step of forming recessed portions having same pattern as the conductive pattern on the base member; and a step of coating conductive material in the recessed portions to form the conductive pattern.
導電パターンを備える平板表示装置において、ベース部材を用意するステップと、ベース部材に導電パターンと同じ形態の凹部を形成するステップと、凹部に導電性物質を塗布して導電パターンを形成するステップと、を含む導電パターンの形成方法である。 - 特許庁 - A process for producing the glass plate having an electric conductor pattern, which comprises using such the toner to form the pattern of the toner on the surface of the glass plate by an electronic printing system, then heating the glass plate having the pattern of the toner formed on its surface at a predetermined temperature to convert the pattern of the toner to the pattern of the electric conductor.
該電子印刷用トナー使用し、ガラス板面に電子印刷方式で該トナーからなるパターンを形成した後、ガラス板を所定温度に加熱することにより前記トナーパターンを焼成して導電体パターンに変換する、導電体パターンをガラス板面に形成する方法。 - 特許庁 - A resist film pattern 26B independent of the pattern of a beam passing hole 27 of a color selection mechanism is formed on the color selection mechanism, and the resist pattern 26B is used for a mask for exposure to form a fluorescent screen 44.
色選別機構上に該色選別機構のビーム透過孔２７のパターンと独立したレジスト膜パターン２６Ｂを形成し、レジストパターン２６Ｂを露光用マスクに用いて蛍光面４４を作成する。 - 特許庁 - After pattern transfer is completed to all the divided regions, the resist layer 71 is collectively developed to form a resist pattern 79 and the substrate or the working layer 70 is subjected to cutting treatment by using the resist pattern as a mask.
すべての分割領域毎にパタン転写が終了したのち、レジスト層７１を一括現像してレジストパタン７９を形成し、これをマスクにして基板又は加工層７０を切削加工する。 - 特許庁 - A screen plate for printing comprises a screen mesh 51, a pattern forming material mounted on the mesh to form a print pattern 55, and a surface layer vapor-deposited on surfaces of the mesh and the pattern forming material.
スクリーンメッシュ５１と、スクリーンメッシュに取り付けられ、印刷パターン５５を形成したパターン形成材と、スクリーンメッシュとパターン形成材との表面に蒸着された表面層とを備えた印刷用スクリーン版。 - 特許庁 - Thus, whether or not it is the high probability period can not be recognized by the player on the basis of the form (variation pattern and stop pattern) of the variation display displayed at the big object pattern display device.
このため、大物図柄表示装置に表示される変動表示の態様（変動パターンおよび停止図柄）に基づいては高確率期間中であるか否かが遊技者に認識されない。 - 特許庁 - A resist film 44 is formed on an Al film 42h (c), exposed to light with a reticule 45a as a mask (d), and a pattern of the reticule 45a is transferred to the resist film 44 and is put into a pattern to form a resist pattern 44a.
Ａｌ膜４２ｈ上にレジスト膜４４を形成し(c)、レチクル４５ａをマスクとして露光し(d)、レチクル４５ａのパターンがレジスト膜４４に転写されてパターン化され、レジストパターン４４ａを形成する。 - 特許庁 - By the single body that joins them, an antenna part pattern 9 of the dielectric block 7a is electrically connected to an antenna part pattern 9 of the dielectric block 7b to form one antenna pattern 8.
この接合一体化によって誘電体ブロック７ａのアンテナ部分パターン９と誘電体ブロック７ｂのアンテナ部分パターン９とが電気的に接続されて１つのアンテナパターン８が形成される。 - 特許庁 - To form a small-width pattern in a large thickness, and to prevent a surface thereof in its intersection part from becoming uneven when forming the small-width pattern and a large-width pattern intersecting with each other.
互いに交差する幅小パターンおよび幅大パターンを形成する際に、幅小パターンを厚膜に形成することができるとともに、その交差部における表面が凸凹になることを抑制する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material or the like which has high sensitivity, gives a good resist pattern shape, and can form a pattern having high tent film strength, high definition and a high aspect ratio by incorporating carboxylic acid.
カルボン酸を含有させることにより、感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつテント膜強度が強く、高精細で高アスペクト比のパターンを形成可能なパターン形成材料等の提供。 - 特許庁 - To provide an active light sensitive or a radiation sensitive resin composition which provides a fine pattern superior in exposure latitude and a pattern form, and to provide a pattern forming method using the same.
露光ラチチュード、パターン形状に優れた微細パターンを提供することができる、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide pattern forming processes that may form permanent patterns such as a wiring pattern with high fineness and preciseness, and sufficient efficiency due to suppressing the deformation of images formed on pattern forming materials.
前記パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - The coating agent for making the pattern finer, used to cover a resist pattern formed on a substrate to form the fine pattern, contains water-soluble peptide and water-soluble resin.
基板上に形成されたレジストパターンを被覆し、微細パターンを形成するために用いられるパターン微細化用被覆剤であって、水溶性ペプチドと、水溶性樹脂と、を含有するパターン微細化用被覆剤。 - 特許庁 - A wiring pattern is formed on at least one plane of a substrate to form a wiring board, and adhesives for adhering the substrate to the wiring pattern are disposed only beneath the wiring pattern.
基材の少なくとも片面に配線パターンが形成されている配線板であり、基材と配線パターンを接着する接着剤が該配線パターン下部にのみ配置されていることを特徴とする配線板。 - 特許庁 - Consequently, the uneven pattern can be suitably changed in accordance with a desired three-dimensional pattern structure, thereby suppressing the number of imprint molds needed to form the desired three-dimensional pattern structure.
このため、所望する３次元パターン構造体に応じて、適宜凹凸パターンを変更することが出来、所望する３次元パターン構造体の形成に必要なインプリントモールド個数を抑制することが出来る。 - 特許庁 - A latent image formed by exposing a resist film 2 is removed through development to form a pattern 3' corresponding to a line pattern 3 and a set of auxiliary line patterns 4 which are parallel to each other on both sides of the pattern 3'.
レジスト膜２を露光して形成された潜像を現像により除去して、ラインパターン３に対応するパターン３’と、パターン３’の両側に並列する１組の補助ラインパターン４とを形成する。 - 特許庁 - The pattern forming process 20 comprises the steps of removing the primary coating film on the part where the liquid-repellent film is not formed, coating the liquid pattern material and annealing it to form a pattern of a specified shape.
パターン形成工程２０は、撥液膜の形成されていない部分の下地膜を除去し、液体パターン材料を塗布してアニールすることにより、液体パターン材料を所定形状のパターンにする。 - 特許庁
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