「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 .... 90 91 次へ＞- In addition, the rugged pattern can also be defined as a second pattern to become fine as a pitch to form the projected part is set apart from the center side by defining height of the project part as fixed.
なお、凹凸パターンを、凸部の高さを一定として凸部を形成するピッチが中心側から離れるにつれて細かくなる第２のパターンとしてもよい。 - 特許庁 - According to the image data, a gradation generating means comprising printing equipment 5 prints the gradation pattern on a filmy transparent substrate to form a gradation pattern sheet 7 (step S2).
この画像データに基づき、印刷機器５から成るグラデーション形成手段で、フィルム状の透明基板にグラデーションパターンを印刷してグラデーションパターンシート７を形成する（ステップＳ２）。 - 特許庁 - To provide a method which can form a conductive joining material for joining a wiring pattern and an electronic component together on a base body as a fine joining pattern.
配線パターンと電子部品とを接合するための導電性接合材料を基体上に微細な接合パターンとして形成することができる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition having excellent surface smoothness, high resolution to form a fine pattern, and a superior recovery rate and giving a pattern such as a photospacer.
表面平滑性に優れ、微細なパターンまで解像可能で、更に、回復率に優れ、フォトスペーサーのようなパターンを形成しうる感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - To accurately form a light-shielding pattern on the lower surface of a lens sheet, by uniformly and stably forming the fine pattern of an adhesive part and a non-adhesive part on a photosensitive adhesive layer.
感光性粘着層に粘着部と非粘着部の微細パターンを均一かつ安定に形成して、レンズシート下面に遮光パターンを高精度に形成する。 - 特許庁 - To provide a water-in-water type multi-colored pattern paint composition which can form a constant and smooth multi-colored pattern regardless of a painting condition such as a painting tool and a painting temperature.
塗装器具、塗装温度等の塗装条件が変動しても一定の平滑な多彩模様が形成可能な水中水型多彩模様塗料を提供する。 - 特許庁 - An insulating film 1 and a conductor pattern 2 is laminated in an appropriate order to form a chip body 3 with an incorporated coil 20 to which the conductor pattern 2 is spirally linked internally.
絶縁膜１と導体パターン２を適宜な順に積層し、当該内部に導体パターン２が螺旋状に繋がったコイル２０を内蔵するチップ本体３を形成する。 - 特許庁 - To obtain a good pattern shape when a resist film is patternwise exposed with light of 1 nm band to 180 nm band to form a resist pattern.
露光光として１ｎｍ帯〜１８０ｎｍ帯の光を用いてパターン露光を行なってレジストパターンを形成する場合に、良好なパターン形状が得られるようにする。 - 特許庁 - A conductor (Cu) thin film 6 is further deposited on the dielectric thin film 5 under normal temperature at the substrate temperature of 150°C or below and then the conductor thin films 4, 6 and the dielectric thin film 5 are stripped along with the resist pattern 2 to form a wiring pattern 7 lift-off method.
この後、レジストパターン２と共にその上の導体薄膜４，６と誘電体薄膜５を剥離させ、リフトオフによって配線パターン７を形成する。 - 特許庁 - To provide a projector type headlight can prevent dazzle to an opposite lane and form an auxiliary light distribution pattern at a suitable height against a main light distribution pattern.
対向車線での眩惑を防止しつつ主配光パターンに対する適切な高さ位置に補助配光パターンを形成することができるプロジェクタ型ヘッドランプを提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the diffraction optical device is performed by calculating an interference fringes pattern using a computer and recording the interference fringes pattern on a recording medium surface to form a master diffraction optical device 10.
計算機を用いて干渉縞パターンを算出し、この干渉縞パターンを記録媒体面に記録することでマスター回折光学素子１０を形成する。 - 特許庁 - To easily and surely form, with the existing photolithography technology, a wiring pattern in the line width which is thinner than that of a resist pattern formed by the photolithography.
従来のフォトリソグラフィの技術を用いながら、容易且つ確実に、フォトリソグラフィによって形成されるレジストパターンの線幅よりも細い線幅の配線パターンを形成する。 - 特許庁 - Respective structures are so arranged as to make a plurality of rows of tracks on the surface of the substrate and to form a hexagonal lattice pattern or a quasi-hexagonal lattice pattern.
各構造体は、基体表面において複数列のトラックをなすように配置されているとともに、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを形成する。 - 特許庁 - Then, the resist pattern 2 is irradiated with ultraviolet rays at an irradiation intensity density of 100 to 650 mw/cm2 for 5 to 20 seconds, to form a hardened layer 5 on the surface of the resist pattern 2.
つづいて、レジストパターン２に照射強度密度１００〜６５０ｍｗ／ｃｍ^2 の紫外線を５〜２０秒照射し、レジストパターン２の表面に硬化層５を形成する。 - 特許庁 - To form a desired pattern by preventing discharged ink from spreading on a substrate in a printing and drying process in forming a conductor pattern by an ink jet method.
インクジェット法により導体パターンを形成する際、印刷および乾燥工程において、吐出されたインクが基板上で広がることを抑制し、所望のパターンを形成する。 - 特許庁 - Then, the resist film 102 after the pattern exposure is heated and development is performed to the heated resist film 102 to form a resist pattern 102a from the resist film 102.
続いて、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱し、加熱されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 - 特許庁 - To obtain a pattern in a desired form without varying thickness of a silicon layer in an optical plane circuit type optical element having an oxidation process of a silicon pattern when manufacturing.
製造時にシリコンパターンの酸化工程を有する光平面回路型光学素子において、シリコン層の厚さを変化させずに所望の形状のパターンを得る。 - 特許庁 - Then, a basic film of the second silicon nitride film pattern 11 is removed by wet etching to form a hollow portion between the second silicon nitride film pattern 11 and a silicon substrate 1.
そして、第２のシリコン窒化膜パターン１１の下地膜をウェットエッチングによって除去し、第２のシリコン窒化膜パターン１１とシリコン基板１との間に中空部を形成する。 - 特許庁 - To uniformly form a coating liquid layer on the entire main surface of a semiconductor wafer, where a large step or an uneven pattern having a large pattern is formed.
段差が大きく或るいは大パターン部を有する凹凸パターンが形成された半導体ウェハに対して、主面全体に均一な厚みの塗布液層を形成する。 - 特許庁 - An auxiliary film is formed on a side wall of the pattern and etched to form a second etching mask pattern 121a between first etching mask patterns in an automatic alignment manner.
このパターンの側壁に補助膜を形成し、これをエッチングすることにより、第１のエッチングマスクパターン間に第２のエッチングマスクパターン１２１ａを自動整列方式で形成する。 - 特許庁 - In the formation of the mask pattern, a coating composition including the proton donor polymer, proton acceptor polymer, and a base is prepared to form the gel layer on the resist pattern.
マスクパターンの形成において、レジストパターン上にゲル層を形成するために、陽子供与ポリマー、陽子受容ポリマー、及び塩基を含むコーティング組成物を準備する。 - 特許庁 - The 2nd photoresist film is exposed by using a photomask having a trench pattern and the 2nd photoresist film and 1st photoresist film are developed at the same time to form the trench resist pattern.
次に、トレンチパターンのフォトマスクを用いて第２のフォトレジスト膜を露光し、第２のフォトレジスト膜および第１のフォトレジスト膜を同時に現像してトレンチレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide an X-ray mask and an X-ray exposure method using this mask which can satisfactorily form from both a fine pattern and a large pattern.
微細パタン及び大パタンの両者を良好に形成することができるＸ線マスク及びこれを用いたＸ線露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a positive type photoresist composition which can form a resist pattern good in shape and is preferable for use in manufacturing a system LCD, and provide a method for forming the resist pattern.
形状の良好なレジストパターンを形成でき、システムＬＣＤ製造用として好適なポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - In the resin film 102, the resin is coagulated on a portion on which the electric field acts to form a pattern that is grown in a direction of the mold 104 into the resin pattern 105.
樹脂膜１０２においては、電界の作用した部分に凝集してパターンが形成されてモールド１０４の方向に成長して樹脂パターン１０５となる。 - 特許庁 - To provide a salt for use as an acid generating agent to give a chemical amplification type resist composition that can make up a pattern having a good pattern form and shows a high resolution.
良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a wiring pattern which can finely and accurately form a wiring pattern, and to provide a method of manufacturing a wiring substrate using the same.
配線パターンを微細かつ高精度に形成することを可能にする配線パターンの形成方法およびこれを用いた配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The pattern is formed in the form of stripe by measured color, and the pattern of the measured color is arranged so that the characters embossed by the amount of the color shift with respect to the measured color are changed.
測定色により縞状にパターンを形成し、測定色に対する色ずれの量によって浮き出てくる文字が変わるように、測定色のパターンを配置する。 - 特許庁 - The pattern exposure plane of the electrode pad PAD is configured, while having a rugged form by being reflected with a rugged pattern 101 formed on a layer insulating film 10 of the lower layer.
電極パッドＰＡＤのパターン露出面が、下層の層間絶縁膜１０に形成された凹凸パターン１０１を反映して凹凸形状を有して構成されている。 - 特許庁 - The surface treating agent for resist pattern formation contains: a chemical species which reacts with a functional group contained in a resist pattern upon heating to form a bond; and a solvent.
加熱により、レジストパターンに含まれる官能基と反応し、結合を形成する化学種と、溶媒を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁 - A conductor mat is formed at an area overlapping with the conductor pattern of the coil, and the conductor pattern of the coil is printed and laminated on the conductor mat, thus improving the print precision of the conductor pattern to form the coil.
コイルの導体パターンに重なる領域に導体マットを形成し、この導体マットの上に上記コイルの導体パターンを印刷積層することにより、上記コイルを形成する導体パターンの印刷精度を高める。 - 特許庁 - This resist pattern forming method is characterized to form a resist pattern on a wafer, and to irradiate residue generated between resist side walls forming the resist pattern with an electronic ray under decompression.
本発明にかかるレジストパターン成形方法は、ウエハ上にレジストパターンを形成した後に、該レジストパターンを形成するレジスト側壁間に発生した残さに、減圧下において電子線を照射することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which can bring an insolubilization layer with higher etching resistance than before as a mask material when polysilazane is coated on a resist pattern to form the insolubilization layer as a pattern.
レジストパターンにポリシラザンを塗布し、不溶化層を形成してパターンを形成する場合に、従来に比して不溶化層にマスク材としてのエッチング耐性を持たせることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Then the resist film 21 is developed to form a resist pattern 21A having an isolated hole pattern 23 corresponding to the isolated shading part 11 and a massed hole pattern 24 corresponding to the massed shading part 12.
その後、レジスト膜２１を現像することにより、孤立遮光部１１と対応する孤立ホールパターン２３と、密集遮光部１２と対応する密集ホールパターン２４とを有するレジストパターン２１Ａを形成する。 - 特許庁 - This pattern layer 9 is etched to form a pre-mask pattern 10 made fine and the PMGI layer 3 is dissolved and removed with an aqueous alkali solution to obtain the objective mask pattern 11 made fine.
この金属パターン層９にエッチング処理を施すことにより、狭小化されたプレマスクパターン１０を形成し、ＰＭＧＩ層３をアルカリ水溶液で溶解除去することにより、狭小化されたマスクパターン１１を得る。 - 特許庁 - To form a resist pattern which allows a projection part of a resist pattern after a process of etching a remaining film to have a desired width equal to or larger than a width of the projection part of the resist pattern before the process of etching the remaining film.
レジストパターンの形成において、残膜をエッチングする工程後のレジストパターンの凸部の幅が、残膜をエッチングする工程前におけるレジストパターンの凸部の幅以上の所望の幅となることを可能とする。 - 特許庁 - A pattern 8a connected to an electrode 6 and a pattern 8b connected to GND form a noise protection gap G in the circuit pattern on a board 7 on which an oscillation circuit and a chip component 10 or the like are mounted.
発振回路やチップ部品１０等を搭載した基板７上の回路パターンのうち、電極６に接続されるパターン８ａとＧＮＤに接続されるパターン８ｂとでノイズ保護用ギャップ部Ｇが形成されている。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste causing neither pattern bottom thickening nor pattern meandering, free of lowering of the sensitivity and capable of reliably improving light exposure margin, in order to form a pattern having high definition and a high aspect ratio.
高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成するために、パターンの底部太りやパターンの蛇行、感光性ペーストの感度低下がなく、露光量マージンを確実に向上できる感光性ペーストを提供する。 - 特許庁 - In the circuit forming transfer material where metal foil formed into a circuit pattern is pasted on a base material, the land pattern of the circuit pattern has a polygonal form.
基材上に回路パターン状の金属箔が貼着されている回路形成用転写材料において、上記回路パターンの内、ランドパターンの形状が多角形であることを特徴とする回路形成用転写材料。 - 特許庁 - The mask for defect inspection is produced by forming the basic pattern on a photomask substrate, applying a resist on the basic pattern, and exposing and developing the resist to form a specified pattern defect.
また、この欠陥検査用マスクは、フォトマスク基板に、基本パターンを形成し、この基本パターン上に、レジストを塗布した後、レジストに、露光及び現像処理を施し、所定のパターン欠陥を形成することにより形成される。 - 特許庁 - A gate electrode formation metal is vapor-deposited on the resist pattern 19 comprising the opening part 18, and the gate electrode formation metal on the resist pattern 19 and the resist pattern and removed to form a gate electrode 20.
開口部１８を含むレジストパターン１９上にゲート電極形成用金属を蒸着するとともに、レジストパターン１９上のゲート電極形成用金属およびレジストパターンを除去して、ゲート電極２０を形成する。 - 特許庁 - Moreover, the image forming apparatus includes a generation part for generating third dot pattern data using the first dot pattern data and the shift amount to form a dot pattern canceled in shift amounts in the image forming part.
さらに、本画像形成装置は、ズレ量の相殺されたドットパターンを画像形成部において形成すべく、第１のドットパターンデータおよびズレ量を用いて第３のドットパターンデータを生成する生成部を含む。 - 特許庁 - To provide a photosensitive color composition which reduces a rise of a color pattern in an overlap portion when used to form a color pattern having the overlap portion on a pattern structure (for example, a resin black matrix).
パターン構造物（例えば、樹脂ブラックマトリクス）上に重なり部を有する着色パターンの形成に用いたときに、該重なり部における着色パターンの盛り上がりを低減できる感光性着色組成物を提供する。 - 特許庁 - When a pattern P is transferred to the transfer-target substrate 10 by the nano-imprint-pattern forming metal mold 1A, the notch forming projections 3A penetrates a transfer pattern forming layer to form the notches 13a in the substrate body 11.
被転写基板１０にナノインプリントパターン形成用金型１ＡによってパターンＰが転写されると、ノッチ形成用凸部３Ａが転写パターン形成層を貫通して、基板本体１１にノッチ１３ａが形成される。 - 特許庁 - To provide a reflow method and a pattern forming method for forming a pattern of a desired shape when resist portions adjacent to each other are integrated by a reflow process to form a resist layer of another pattern.
互いに隣接するレジスト部をリフロー処理により一体化して別のパターンのレジスト層を形成する際に、所望の形状のパターンを形成することができるリフロー方法およびパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - A mold 1 having fine suction holes in it and a tile-like irregular pattern is installed in a form 4, a plastic film 9 is laid on the surface of the form 4, and air is sucked.
型内に微少吸引孔を設けタイル様凹凸模様を有する型を型枠に設置し、この型枠表面にプラスチックフィルムを敷設して空気を吸引する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive and enables to form a low-resistance and high-definition pattern having high adhesion strength to a substrate in the form of a thin film.
安価で、低抵抗、高精細かつ基板に対して薄膜で密着強度が高いパターンを形成することが可能な感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To form a different identification mark without using many pattern formation versions to form identification marks, when forming an identification mark on a printed board.
プリント基板に識別マークを形成するにあたり、識別マークを形成するためのパターン形成用の版を多数用いることなく、異なる識別マークを形成することである。 - 特許庁 - And, thickness A of the mesh part 2 is set to 1 through 30 μm, and a depth B of a reentrant part 5 which has a plane form corresponding to a printing pattern form is set to 1 through 30 μm.
また、メッシュ部２の厚みＡを１〜３０μmとし、印刷パターン形状に対応する平面形状を有する凹部５の深さＢを１〜３０μmとする。 - 特許庁 - Meanwhile, the page data obtained in an image pickup element 7 are demodulated to a form of signal bit column from a form of block pattern by the modulation table 12 of the control section 2.
一方、撮像素子７にて得られたページデータは制御部２の変調テーブル１２により、ブロックパターンの形式から信号ビット列の形式に復調され、出力される。 - 特許庁
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