「form pattern」を含む例文一覧(4548)

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  • While the second resist pattern and the hard mask pattern are used as an etching mask, the organic insulating film is etched until the organic insulating film is removed inside the via hole so as to form a wiring groove 110 on the via hole, and the second resist pattern is removed.
    第2レジストパターン及びハードマスクパターンをエッチングマスクとしてビアホール内の有機系絶縁膜が除去されるまで有機系絶縁膜をエッチングしてビアホール上に配線溝110を形成し、第2レジストパターンを除去する。 - 特許庁
  • To provide a hand roller which can easily form a joint pattern to a coating formed on a substrate and can reduce waste produced by the formation of the joint pattern, and to provide a method of forming the joint pattern using the same.
    基材上に形成された塗膜に対して目地模様を容易に形成することができ、かつ目地模様の形成によって生ずる廃棄物を低減できるハンドローラおよびそれを用いた目地模様の形成方法を目的とする。 - 特許庁
  • After tentatively stopping the fluctuation of a display pattern in the display form of large winning by a non probability fluctuation pattern '6', a re-drawing image 52 for indicating that the processing of re-drawing is to be started is displayed on a special pattern display device 4 (a).
    非確変図柄「6」による大当たりの表示態様で表示図柄の変動を一旦仮停止させた後、再抽選の処理に入ることを示す再抽選画面52を特別図柄表示装置4上に表示させる(a)。 - 特許庁
  • Then a composition for a light shielding layer is applied all over the surface of the pattern forming substrate where the wettable pattern is formed so as to deposit and fix the composition for the light shielding layer on the lyophilic region only to form the light shielding layer pattern.
    そして、前記濡れ性パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、遮光層用組成物を全面に塗布し、親液性領域にのみ遮光層用組成物を付着、固着させて、遮光層パターンを形成する。 - 特許庁
  • It is preferable that the container for housing the glass is a generally circular columnar shape and the pattern formed on the side face of the transparent glass and the color pattern formed in the coaster is integrated to form the pattern suggesting a meaning.
    グラスを収納する容器は略円柱であることが好ましく、また、透明のグラスの側面に施された図柄と、コースターに施された色彩模様とが一体となって意味を連想させる図柄を形成することが好ましい。 - 特許庁
  • The opening-restricting filter is arranged so as to form the film pattern on a transparent substrate, the opening restricting film pattern is formed on a surface of the transparent substrate and the rim strength correcting film pattern is formed on the rear side of the transparent substrate.
    開口制限フィルタは、膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、透明基板の表面に開口制限用膜パターンが形成されており、透明基板の裏面にリム強度補正用膜パターンが形成されている。 - 特許庁
  • To form a metallic gloss pattern on an in-mold transfer film or a hot stamping transfer film by a heat transfer printer and to make decoration without the secession of the metallic gloss pattern possible when a metal pattern is transferred from a transfer film to a molding.
    インモールド転写フィルムやホットスタンピング転写フィルムへ熱転写プリンターにて金属光沢パターンを形成し、転写フィルムから成型物へ金属パターンを転写した際の金属光沢パターンの離脱が無い加飾を可能とする。 - 特許庁
  • A foam glaze layer 2 is provided on the surface of a building material base 1 formed of ceramics, and non-foam glaze layers 3 are partially provided to form a dotted, linear or mesh pattern or to form a pattern combining them.
    セラミックスよりなる建材素地1の表面に発泡釉薬層2を設けるとともに非発泡釉薬層3を点状又は線状又は網目状の模様或いはこれらを組み合わせたものによる模様を形成するように部分的に設ける。 - 特許庁
  • In a stage (1), a photosensitive composition (ferroelectric forming composition layer) 3 which can form a ferroelectric thin film on a substrate 2 is applied to form a photosensitive layer, which is exposed to a specific pattern and developed to pattern the ferroelectric forming composition layer 3.
    (a)工程:基板2上に強誘電体薄膜を形成可能な感光性組成物3を塗布し、感光層を形成し、所定のパターンの露光を行い、現像することにより、強誘電体形成性組成物層3をパターニングする。 - 特許庁
  • And, at inspection, a shadow of the fixed form pattern in photographed on the optical disk to be inspected 1, and compared with the reference image by an image recognition means 8, and the presence or absence of 'coat irregularity' is judged by a discrimination means 9 by recognizing deformed conditions of the fixed form pattern.
    そして検査時は、被検査光学ディスク1で定型模様の陰影を撮像し、画像認識手段8で基準画像と比較し、定型模様の変形具合を認識することにより、判別手段9で「コートむら」の有無を判定する。 - 特許庁
  • The method for forming the circuit comprises the steps of irradiating a first conductive material layer formed on the surface of the insulating material with a laser beam, removing the conductive material at the irradiated position to form a circuit pattern, and forming a second conductive material layer on the circuit pattern to form the circuit.
    絶縁材表面に形成された第1の導電材層にレーザ光を照射し、照射箇所の導電材を除去することにより回路パターンを形成し、回路パターン上に第2の導電材層を形成して回路を形成する。 - 特許庁
  • To provide a dispenser for a liquid crystal display panel which can rapidly form a seal pattern on a substrate where a plurality of image display parts are formed and form a seal pattern on a small-size liquid crystal display panel, and to provide a dispensing method by using the dispenser.
    複数の画像表示部が形成された基板上に迅速にシールパターンを形成し、小さなサイズの液晶表示パネルにシールパターンを形成し得る液晶表示パネルのディスペンサ及びこれを利用したディスペンシング方法を提供する。 - 特許庁
  • The aluminum alloy layer is then coated with a photoresist which is exposed to light using a photomask having a wiring pattern and is subjected to a development process to form a wiring pattern, and the aluminum alloy layer is then etched, by using the photoresist to form aluminum wiring 5.
    そして、アルミニウム合金層上にフォトレジストを塗布し、フォトレジストを配線パターンを有するフォトマスクを用いて露光し、現像して配線パターンを形成し、フォトレジストをマスクにして、アルミニウム合金層をエッチングしアルミニウム配線5を形成する。 - 特許庁
  • The pachinko game machine 10 variably displays mini character patterns and derives and displays the variably displayed mini character pattern as the specific display form after the decorative pattern is temporarily stopped and displayed as the display form of the losing.
    パチンコ遊技機10は、ミニキャラクタ図柄を変動表示させるとともに、装飾図柄がはずれの表示態様として仮停止表示された後に、その変動表示されているミニキャラクタ図柄を特定の表示態様として導出表示させる。 - 特許庁
  • The forming method for conductive patterns includes a lipophilic-pattern forming process of forming a lipophilic pattern on the substrate which has on a base material an insulating layer containing inorganic particles and having a hydrophilic property, and includes a conductive-pattern forming process of so feeding a fluidic electrode material to the substrate, whereon the lipophilic pattern has been formed in the lipophilic-pattern forming process as to form a conductive pattern.
    基材上に、無機粒子を含有しかつ親水性を有する絶縁性層を有する基板上に、親油性パターンを形成する親油性パターン形成工程と、前記親油性パターン形成工程で親油性パターンが形成された基板に流動性電極材料を供給して導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程とを含む。 - 特許庁
  • The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.
    透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁
  • A pachinko game machine 10 variably displays decorative patterns and executes the control of temporarily stopping and displaying the variably displayed decorative pattern as the display form of losing different from a specific display form and a ready-to-win display form constituting one part of the specific display form.
    パチンコ遊技機10は、装飾図柄を変動表示させるとともに、その変動表示されている装飾図柄を、特定の表示態様、及び、特定の表示態様の一部を構成するリーチ表示態様とは異なるはずれの表示態様として仮停止表示させる制御を行う。 - 特許庁
  • Subsequently, a conductor layer 2 of the single-sided copper clad laminate is etched to form a wiring pattern 8 and another necessary wiring pattern 9 electrically connected to the via hole 6.
    次いで、片面銅張積層板の導体層2に対するエッチング処理でビアホ−ル6と電気的に接続された配線パタ−ン8及び他の所要の配線パタ−ン9を形成する。 - 特許庁
  • Then, after removing the barrier film 103, the resist film 102 having been subjected to the pattern exposure is developed, so as to form a resist pattern 102a made of the resist film 102.
    続いて、バリア膜103を除去した後、パターン露光が行なわれたレジスト膜102に対して現像を行なうことにより、レジスト膜102からレジストパターン102aを形成する。 - 特許庁
  • An exposure pattern 1 consisting of a single set of twin patterns 2L, 2R having the same shape mutually is arranged on an exposure mask at a fixed repeated pitch in the repeating direction into the checkers-pattern form.
    互いに同一形状のツインパターン2L、2Rを1セットとした露光パターン1を、露光マスク上に、繰り返し方向に一定の繰り返しピッチで市松格子状に配置する。 - 特許庁
  • To provide a reticle which can achieve a very fine magnetic pole width and a precision pattern to form a lithographic pattern, and provide a manufacturing method of a thin film magnetic head.
    本発明は、リソグラフィパターン形成に関し、特に、超微細な磁極幅、精密パターンを実現するレチクル、およびそれによる薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものである。 - 特許庁
  • An insulation film 1 of such as a ceramic or the like and a conductor pattern 2 are laminated in an appropriate order to form a chip body 3 incorporating a coil 20 wherein the conductor pattern 2 is connected spirally.
    セラミック等の絶縁膜1と導体パターン2を適宜な順に積層し、当該内部に導体パターン2が螺旋状に繋がったコイル20を内蔵するチップ本体3を形成する。 - 特許庁
  • To form an intermediate conductive layer using a simple process, to prevent displacement of the pattern due to accumulated charge when a pattern, is made on a resist film with an electron beam.
    レジスト膜を電子ビームによりパターン描画する際に生じる電荷蓄積による描画の位置ずれを防止するための中間導電層の成形を、簡便な工程で実現する。 - 特許庁
  • In this image forming apparatus, a pattern image comprising a plurality of dots of almost the same form arranged at an almost uniform interval, is formed on an image carrier (S2) and this pattern image is photographed by an imaging apparatus (S3).
    略同一形状の複数のドットを略均一間隔で配列したパターン画像を像担持体上に形成し(S2)、このパターン画像を撮像装置で撮像する(S3)。 - 特許庁
  • The light shielding film is etched with the first resist pattern as an etching mask to form the mask pattern comprising a light shielding region where the light shielding film is left and a transmission region where the light shielding film is removed.
    第1のレジストパターンをエッチングマスクとして遮光膜をエッチングし、遮光膜が残された遮光領域と、遮光膜が除去された透過領域とからなるマスクパターンを形成する。 - 特許庁
  • Then, function liquid L is arranged in a pattern forming region AR defined by the bank B to form a film pattern F1 having a film thickness smaller than the height of the first bank B1.
    そして、バンクBによって区画されたパターン形成領域ARに、機能液Lを配置して、第1のバンクB1の高さ以下の膜厚を有した膜パターンF1を形成する。 - 特許庁
  • To provide a pattern exposure method and an apparatus for forming a pattern periodical along a conveying direction in a flexible form with a high throughput in a simple equipment with suppressed equipment investment.
    フレキシブルな形状で搬送方向に周期的なパターンを高スループットで、かつ設備投資を抑制した簡易な設備で形成することのできるパターン露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁
  • To easily form a virtual solid figure pattern (quasi solid figure pattern) with a stereoscopic effect without complicate processing and without using a specific material and equipment.
    煩雑な工程によることなく、また特別の材料、装置を用いることなく、簡単に、且つ立体感の大きい仮想的な立体図形模様(擬似立体図形模様)を形成する。 - 特許庁
  • RESIST FORM PATTERN, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS, AND MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS
    レジスト形状パターン、レジストパターン形成方法、マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置の製造方法、および磁気記録再生装置 - 特許庁
  • The surface of the woody material 1 is brought into contact with heated steam 3 in a pattern, the woody material 1 of a contact portion with heated steam 3 is denaturingly colored to form the pattern 4.
    木質材1の表面に、パターン状に加熱水蒸気3を接触させ、加熱水蒸気3の接触部分の木質材1を変性着色して模様4を形成する。 - 特許庁
  • Thereafter, a first heating is made on the resist film 102 having been subjected to the pattern exposure, and first development is applied to the heated resist film 102 to form a first resist pattern 102a.
    続いて、パターン露光が行われたレジスト膜102に第1の加熱を行い、加熱されたレジスト膜102に第1の現像を行って、第1のレジストパターン102aを形成する。 - 特許庁
  • This photosensitive adhesive composition can form a pattern by development and the storage modulus at 100°C after pattern formation is 10 MPa or lower.
    現像によるパターン形成が可能な感光性接着剤組成物であって、パターン形成後の100℃における貯蔵弾性率が10MPa以下である感光性接着剤組成物。 - 特許庁
  • On the other hand, the pattern molded article Z is manufactured by a lamination shaping method using a heat-resistant thermoplastic resin composition to integrally form a pattern having an uneven shape or a groove shape.
    一方、パターン成形物Zは、積層造形法により、耐熱性の熱可塑性樹脂組成物を使用して凹凸形状や溝形状等のパターンを一体的に形成する。 - 特許庁
  • In such a case, the tracking pattern is selected to correct the form of the tracking pattern in advance not to loose identifiability and latency because of the gamma correction using the gamma correction apparatus 204.
    ここで、追跡用パターンの選択は、ガンマ補正装置204でのガンマ補正により識別性および潜在性を失わないように、追跡用パターンの形状を予め補正するものである。 - 特許庁
  • A first process includes a step of exposing a first resist film 4 to transfer a pattern corresponding to a main aperture 5 and an auxiliary aperture 6 and developing to form a first resist pattern 4a.
    第1工程が、第1のレジスト膜4に、主開口部5及び補助開口部6に対応するパターンを露光し、現像して第1のレジストパターン4aを形成する工程を有する。 - 特許庁
  • A detection resister connected to a detection electrode pattern in series and a stray capacity of the detection electrode pattern form a high-pass filter through which a common mode noise generated in an input operation body passes.
    検出電極パターンに検出抵抗を直列に接続し、検出電極パターンの浮遊容量とで、入力操作体に発生するコモンモードノイズが通過するハイパスフィルターを形成する。 - 特許庁
  • Then when respective plates in a lot are exposed in a step 220, the formation state of the pattern is corrected using a suitable offset to form the pattern on the plates.
    そして、ロット内のプレートのそれぞれに対して、ステップ220で露光を行う際に、適切なオフセットを用いてパターンの形成状態を補正して、そのパターンをプレート上に形成する。 - 特許庁
  • To efficiently form a fine magnetized pattern more accurately in the technology of forming a magnetized pattern on a magnetic disk by combining local heating and external magnetic field application.
    局所加熱と外部磁界印加を組み合わせて磁気ディスクに磁化パターンを形成する技術において、微細な磁化パターンを効率よく更に精度よく形成することができるようにする。 - 特許庁
  • The lower warps 33 push up, on the obverse side, only the colored yarns 10 necessary for pattern expression among the set of colored yarns 10, 11, 12 and 13 to form the obverse side in a satin weave-photograph-fashioned pattern.
    下経糸33は、1組の色糸10、11、12、13のうち柄表現に必要な色糸10のみを表面側に押し上げ表面を繻子織の写真風柄に形成している。 - 特許庁
  • After a test resist film consisting of a chemically amplifying resist material is formed, the test resist film is subjected to pattern exposure and developing to form a test resist pattern 14A.
    化学増幅型レジスト材料よりなるテスト用レジスト膜を形成した後、該テスト用レジスト膜に対してパターン露光及び現像を行なって、テスト用レジストパターン14Aを形成する。 - 特許庁
  • An address storage part 4 stores an address to be outputted form the address pattern generation part 2, and at the same time successively outputs the address corresponding to data to be outputted from the data pattern generation part 3.
    アドレス記憶部4は、アドレスパターン発生部2から出力されるアドレスを記憶すると共に、データパターン発生部3から出力されるデータに対応するアドレスを順次出力する。 - 特許庁
  • Then, a pattern is drawn by the step of discharging a functional liquid to the tape 80 from a liquid discharge head, and the step of drying the functional liquid to form a pattern on the tape 80.
    その後、液滴吐出ヘッドからテープ80へ機能液を吐出するステップと、機能液を乾燥させてテープ80上にパターンを形成するステップと、によってパターンを描画する。 - 特許庁
  • To provide an exposing system which can predict the quantity of exposure enough to form a resist pattern having a line width equivalent to a design value even if there is any manufacturing error in the line width of a mask pattern.
    マスクパターンの線幅が製造誤差を有する場合も、設計値と等しい線幅を有するレジストパターンを形成可能な露光量を予測する露光システムを提供する。 - 特許庁
  • The outward form of the line segment pattern is, e.g. a quadrangle and the line segment pattern comprises the quadrangle and a plurality of line segments tying a point on one side of the quadrangle with a point of another side.
    線分パターンは、外形がたとえば四辺形であって、その四辺形と、四辺形の1辺の点と他の1辺の点とを結んだ複数の線分とから構成される。 - 特許庁
  • Further, a dry film etc., are laminated on the copper thin film 3, and exposed and developed to form a plating resist in the reverse pattern of a conductor pattern to be formed in postprocessing.
    続いて、銅薄膜3上にドライフィルム等をラミネートし、露光および現像することにより、後工程で形成される導体パターンとは逆パターンのめっきレジストを形成する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can easily form a wiring pattern of not more than a resolution limit of lithography and a wiring pattern of an optional dimension other than that.
    リソグラフィの解像限界以下の配線パターンと、それ以外の任意の寸法の配線パターン等を簡易に形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The lamp has a structure to form in superposition a light distribution pattern for lane mark irradiation PA to irradiate the lane mark LM1 on a road shoulder side on a low-beam light distribution pattern PL.
    路肩側のレーンマークLM1を照射するレーンマーク照射用配光パターンPAを、ロービーム用配光パターンPLに対して重畳的に形成する灯具構成とする。 - 特許庁
  • To provide a coating apparatus which prevents the film thickness at the peripheral part of a prescribed pattern from becoming thicker than that at another part when a solution is applied onto a substrate to form the pattern.
    この発明は基板に溶液を所定のパターンで塗布したときに、そのパターンの周辺部の膜厚が他の部分よりも厚くなるのを防止する塗布装置を提供することにある。 - 特許庁
  • Thus, during the probability variation, the appearing rate of a variation form of tentatively stopping and displaying the normal pattern, then varying it again and deriving a losing pattern is increased.
    これにより、確率変動時には、通常図柄を一旦停止表示した後に再変動して外れ図柄を導出するという変動態様の出現率を高くすることができる。 - 特許庁
  • The internal form of a fixed area is estimated from the thickness data of the plant facility, and by finding a wall thinning speed caused by the pattern of thickness or pattern of thinning distribution, thinning of wall is predicted.
    プラント設備の肉厚データから一定領域の内部形状を推定し、その肉厚のパターンや減肉分布のパターンに起因する減肉速度を求めることで、減肉の予測を行う。 - 特許庁
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