「form pattern」を含む例文一覧(4548)

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  • To provide a semiconductor device which can form a fine circuit pattern, and its manufacturing method.
    本発明は、微細な回路パターンを形成することができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a dry autolithography technique effective to form a semiconductor integrated circuit having a pattern size of <0.18 μm.
    0.18ミクロン未満のパターンサイズを有する、半導体集積回路の形成に有効な乾式オートリソグラフィ技術を提供する。 - 特許庁
  • To form a Cu film in even deep parts of a fine pattern by cleaning a substrate to be treated with a medium in a supercritical state.
    超臨界状態の媒体を用いた被処理基板のクリーニングにより、微細パターンへのCu膜の埋め込みを可能にする。 - 特許庁
  • A portion between the between-gate oxide films of the mask pattern is removed to form a spacer on a inner wall of a second opening portion.
    マスクパターンのゲート間酸化膜の間の部分を除去して定義された第2開口部の内壁にスペーサを形成する。 - 特許庁
  • To provide a stack block capable of forming a relief pattern of various shapes with good face precision on a retaining wall face at a low form cost.
    低い型枠コストで擁壁面に面精度の良好な種々の形状のレリーフ模様を形成できる積みブロックを得る。 - 特許庁
  • To easily form a circuit pattern without using a screen mask.
    スクリーンマスクを使用せずに、容易に回路パターンの形成が可能な回路パターン形成装置及び回路パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • Further, the pattern constituting the two-dimensional periodical structure may be partially changed to form an optical waveguide (Fig.(b)).
    また、この2次元周期構造を構成するパターンの一部を変更し(図3(a))、光導波路(図3(b))を形成することができる。 - 特許庁
  • To form a highly precise mask pattern-shaped mask on a workpiece, and to highly precisely carry out patterning to the workpiece by using the mask.
    被加工物に高精度のマスクパターンのマスクを形成すると共に、そのマスクを用いて被加工物を高精度にパターニングする。 - 特許庁
  • To form a resist pattern into a predetermined target size even when a substrate includes resist patterns of different densities.
    基板上に疎密なレジストパターンが混在して形成される場合でも、それぞれのレジストパターンを所定の目標寸法に形成する。 - 特許庁
  • When no tile is lacking, the pattern for turning two tiles to form three consecutive tiles to three consecutive tiles or turning two same cards to three same cards is judged as the tile to be picked.
    不足牌がないときには、塔子を順子、または対子を刻子にする図柄を自摸すべき牌として判定する。 - 特許庁
  • Further, the coating of the coating for the pattern may be performed after the coating for the substrate is applied, baked and dried to form the coating film of the substrate.
    なお、柄模様用塗料の塗布は、基地用塗料を塗布し焼付乾燥して基地塗膜を形成したのちとしてもよい。 - 特許庁
  • A second reflection side 26 is formed inside the second reflection plate to form a light distribution pattern by the second reflection side.
    第2の反射板の内側に第2の反射面26が形成され、この第2の反射面によって配光パターンが形成される。 - 特許庁
  • The colored photosensitive resin composition is patterned to form a colored pattern and a color filter can be produced.
    本発明の着色感光性樹脂組成物をパターンニングして着色パターンを形成し、カラーフィルターを製造することができる。 - 特許庁
  • The wiring pattern 122 has a connecting form in the mounting region 12 in which the specified inner leads 121 are connected mutually.
    配線パターン122は、所定のインナーリード121どうしが接続されるような実装領域12内部の接続形態を有する。 - 特許庁
  • To form a film pattern of a function film, wiring, or the like having a uniform film thickness and shape without requiring a dummy zone, a bank, and the like.
    ダミー領域、バンク等を必要とせず、膜厚及び膜形状が均一な機能膜や配線等の膜パターンを形成する。 - 特許庁
  • Light receiving elements groups constituted in 3×3 unit are combined to form a 12×12 array-like pattern of light receiving elements.
    3×3の単位で構成される受光素子群を組み合わせて12×12のアレイ状の受光素子のパターンを形成する。 - 特許庁
  • To print a tracing pattern which is not image noise and easy to analyze according to the kind of a form where an original image is outputted.
    原画像を出力する用紙の種類に基づいて、画像ノイズとならず、かつ解析も容易な追跡パターンを印刷する。 - 特許庁
  • When a dot pattern allowing the electronic pen 1 to acquire the coordinate and the document form are overlapped mutually to be printed, an electronic pen sheet 100 is created.
    電子ペン1が座標を取得するためのドットパターンと帳票フォームを重ねて印刷して、電子ペン用紙100を作成する。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive composition that forms an electrode having low volume resistivity and an excellent pattern form.
    本発明は、体積抵抗が低く、パターン形状に優れる電極を形成することができる感光性組成物を提供する。 - 特許庁
  • To accurately form fine pattern wiring and reduce a time for a manufacturing process.
    微細パターンの配線を高精度に形成することを可能とし、かつ製造工程に要する時間を短縮することを可能とする。 - 特許庁
  • The laser perforating and cleaning are executed with the cover film 14 attached thereto to form vias exposing the inner layer pattern 50.
    そして,カバーフィルム14がついたままレーザ穴開けおよびクリーニングを行い,内層パターン50が露出するビアホールを形成する。 - 特許庁
  • The obtd. film is easily separated from the substrate 102, and shaped into a desired pattern and assembled to form a compensator.
    このフィルムは基板から容易に離すことができ、所望のパターンに整形され、新規な補償器を形成するよう組合せられる。 - 特許庁
  • The upper pushing plate and the lower pushing plate are connected through connecting bolts 30 and integrated to form a lost foam pattern unit U.
    前記上部押圧板と下部押圧板とを連結ボルト30を介して連結して一体にし消失模型ユニットUを形成する。 - 特許庁
  • This enables to form a small light distribution pattern P1b extended along the horizontal cutoff line CL1 in a simple optical system.
    これにより、簡単な光学系で、水平カットオフラインCL1に沿って延びる小配光パターンP1bを形成可能とする。 - 特許庁
  • The long STM is constituted of a pseudo STM 57 and a genuine STM 33 which form a part of AGC/PLL pattern 31.
    AGC/PLLパターン31の一部を構成する擬似STM57と真正STM33でロングSTMを構成する。 - 特許庁
  • A dot pattern 4a is provided to the surface of the roll 4 to form dots on the surface of a molded object becoming a reflecting surface.
    ロール4の表面には、ドットパターン4aが設けられており、反射面となる成型体の表面にドットを形成する。 - 特許庁
  • To provide an inexpensive robot to be fed with music in the form of audible sound signals and executing a motion pattern in conformity to the music.
    音楽を可聴音信号として入力し、この音楽に合わせた動作パターンを実行するロボットを安価に提供する。 - 特許庁
  • To form the pattern of a film to be processed having a space between minute patterns exceeding resolution limit of a mask layer such as a resist.
    レジストなどマスク層の解像限界を超えた微細なパターン間スペースを有する被加工膜のパターンを形成可能にする。 - 特許庁
  • Using the resist pattern 104 as a mask, the surface of the semiconductor wafer 101 is etched to form trenches 105 for trench isolation.
    レジストパターン104をマスクに用いて、半導体ウェハ101の表面をエッチングし、トレンチ分離用溝105を形成する。 - 特許庁
  • To provide a winning device of compact form which can readily be set even in a pachinko game machine having a large pattern display device.
    大きな図柄表示装置を有するパチンコ機にも問題なく設置することができるコンパクトな入賞装置を提供する。 - 特許庁
  • After patterning by exposure and development of the master optical disk, a resist surface is subjected to surface treatment to form a specified pattern.
    光ディスク原盤の露光及び現像によりパターニングした後に、レジスト表面を表面処理して所定のパターンを形成する。 - 特許庁
  • To efficiently form a circumferential structure, when forming a three-dimensional structure, using a large tone pattern.
    グレートーンパターンを用いて3次元構造物を形成するにあたり、周辺構造物も効率よく形成できるようにすること。 - 特許庁
  • To provide an electroconductive ink composition for screen printing which can form a high precision pattern and an electroconductive coated film.
    高精細なパターンを形成することが可能なスクリーン印刷用導電性インキ組成物及び導電性塗膜の提供。 - 特許庁
  • a carpet with a strong linen warp and a heavy pile of colored woolen yarns drawn up in uncut loops to form a pattern
    パターンを形成するためにカットしていない輪で引かれた着色済みの羊毛糸の重い塊と強い麻の輪のあるカーペット - 日本語WordNet
  • To form further precise wiring pattern by the lift-off method by getting rid of critical factors in the lift-off method.
    リフトオフ法における致命的な要因を一掃し、リフトオフ法により一層精密な配線パターンを形成できるようにする。 - 特許庁
  • The ink composition 12 is applied to a substrate 10 in the form of a pattern and a metal plating layer 14 is formed on the ink layer.
    支持体10上にパターン状にインク組成物12が塗設され、その上に金属めっき層14が形成されている。 - 特許庁
  • On the buffer film, an oxidation prevention film pattern having an opening in the form of line crossing the active region 302 is formed.
    この緩衝膜上に活性領域302を横切るライン形態の開口部を有する酸化防止膜パターンを形成する。 - 特許庁
  • The electron emitting elements are exposed through gate electrodes (50) in pattern which form a further upper layer of the insulating layer.
    電子放出性素子は、絶縁性層の更に上層をなすパターニングされたゲート電極(50)を通して露出されている。 - 特許庁
  • At least one pattern feature is scanned in order to form an amplitude modulated waveform signal and proximity interval characteristic.
    少なくとも1つのパターン・フィーチャは、振幅変調波形信号および近接間隔特性を生成するために走査される。 - 特許庁
  • Plating is then performed using the first resist pattern 41 as a mask to form a plated coating 42 at the required part of the copper layer 21.
    第1のレジストパターン41をマスクとしてめっきを施し、銅層21の所要部位Wにめっき被膜42を形成する。 - 特許庁
  • To provide a cleaning method and a cleaning liquid for removing photo-resist which sticks on a photomask to form a mask pattern.
    フォトマスクに付着したマスクパターンを形成するためのレジストを除去するための洗浄方法と洗浄液とを提供する。 - 特許庁
  • Photolithographic processing including PEB processing of the corrected heating temperature is performed to form a resist pattern on the wafer (a step S5).
    補正された加熱温度のPEB処理を含むフォトリソグラフィー処理を行い、ウェハ上にレジストパターンを形成する(ステップS5)。 - 特許庁
  • Etching is conducted using the resist pattern as a mask on the a-Si membrane by dry etching by using CF_4 gas to form a Si mask 5.
    レジストパターン4をマスクとしてCF_4ガスを用いたドライエッチングでa−Si膜をエッチングしてSiマスク5を形成する。 - 特許庁
  • An anisotropic etching is performed to a single-crystal silicon film using a hard mask HM to form a single-crystal silicon pattern.
    ハードマスクHMを用いて単結晶シリコン膜について異方性エッチング処理を実施し、単結晶シリコンパターンを形成する。 - 特許庁
  • The photoresist having a vamp opening is patterned on the protecting film pattern and a metal is grown in the vamp opening to form the vamp.
    保護膜パターン上にバンプ開口部を有するフォトレジストをパターンし、バンプ開口部に金属を成長させてバンプを形成する。 - 特許庁
  • In addition, the linear pattern 13 of the face 12a side is silk screen-printed in the form of a lenticular lens using an ultraviolet-curable ink.
    加えて、表面12a側の線状パターン13を、紫外線硬化インキを用いてレンチキュラーレンズ状にシルクスクリーン印刷する。 - 特許庁
  • To precisely form a catalyst layer into an arbitrary pattern without using a resist so that the patterned surface can be electroless-plated.
    無電解めっき方法を可能とするための触媒層を、レジストを用いることなく正確に任意のパターンに形成する。 - 特許庁
  • An insulating layer and a conductor pattern are laminated in a proper sequence to form a coil in which the conductor patterns are spirally connected therein.
    絶縁層と導体パターンを適宜な順に積層し、当該内部に導体パターンが螺旋状に繋がったコイルを形成する。 - 特許庁
  • To form a wiring pattern, excellent in flexibility and improved in fine-pitch and high-aspect features, on a flexible board with a small number of man-hours.
    耐屈曲性に優れファインピッチ化及び高アスペクト化された配線パターンを、小さな工数でフレキシブル基板上に形成する。 - 特許庁
  • The plurality of unit pixel patterns are arranged in an array form so that the distance-measuring pixel of a unit pixel pattern and that of an adjacent distance-measuring pixel are next to one another.
    該単位ピクセル・パターンは、隣接する単位ピクセル・パターンと、距離測定ピクセルとが互いに隣接するように配される。 - 特許庁
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