「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 29 30 31 32 33 34 35 36 37 .... 90 91 次へ＞- A first green sheet 10a where a first internal electrode pattern 12a is formed and a second green sheet 11a where a second internal electrode pattern 13a is formed are laminated to form a primary laminate 20.
第１内部電極パターン１２ａが形成された第１グリーンシート１０ａと第２内部電極パターン１３ａが形成された第２グリーンシート１１ａを積層して一次積層体２０を形成する。 - 特許庁 - Thereafter, the wiring pattern 13 is formed, by removing the exposed first metal layer 20 other than the part to form the wiring pattern, by uniformly conducting the etching process to the entire part of the surface of the substrate.
その後、基板表面全体に均一にエッチングを施すことにより、配線パターンを形成する部位以外の、露出する第１の金属層２０を除去して配線パターン１３を形成する。 - 特許庁 - To form a high aspect etching pattern without being accompanied with positive-negative reverse or increasing the number of etching steps, to improve etching durability of a photoresist pattern and to prevent line thinning by electron beam irradiation.
ポジネガ反転を伴うことなく、エッチング回数増なく、高アスペクトエッチングパターンを形成でき、また、フォトレジストパターンのエッチング耐性を向上させ、電子ビーム照射によるライン細りを防止できる。 - 特許庁 - The current-collecting electrode may also be integrally formed at least one side of the separator in the form of a pattern such as a conductive pattern printed with conductive ink.
あるいは、通液型集電電極として、セパレーターの少なくとも片面に導電パターンとして一体的に形成されたもの、例えば導電性インクで印刷された導電パターンを用いることもできる。 - 特許庁 - The photoresist 3 is exposed using a photomask having a pattern where circles are two-dimensionally arranged and developed to form a pattern where circular openings are arranged on the photoresist 3.
円形が二次元的に配列されたパターンを有するフォトマスクを用いてフォトレジスト３を露光し、次いでこれを現像することにより、フォトレジスト３に円形の開口が配列されたパターンを形成する。 - 特許庁 - Then a thin film 15 is allowed to selectively grow on the organic single molecular film pattern 14, and transferred to a 2nd substrate 16 to form a micro-pattern 17 consisting of the thin film 15 on the 2nd substrate 16.
次いで、有機単分子膜パターン１４上に薄膜１５を選択成長させ、第２の基板１６に転写することにより、第２の基板１６に薄膜１５よりなるマイクロパターン１７を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for measuring temperature for a finely writing device which can form a high-accuracy pattern by accurately measuring the temperature of a substrate while the substrate is transported and while the pattern is written on the substrate.
搬送途中の基板温度及び描画中の基板温度を正確に測定し、高精度なパターンを形成できる微細描画装置における温度測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A thin plate conductor formed into a required pattern is pinched by insulating films, and the thin plate conductor and the insulating films are integrated with each other to form the required pattern of a flexible flat wiring material 43.
所要の配線パターンに形成された薄板導体を絶縁フィルムで挟んで薄板導体と絶縁フィルムを一体化して所要のパターンの可撓性フラット配線材４３を形成する。 - 特許庁 - An a-Si film 3 and an Si oxide film 4 are sequentially formed in this order so as to cover the side and upper surfaces of a core material pattern 2, and thereafter these films are etched back to form sidewalls of the core material pattern 2.
芯材パターン２の側面および上面を覆うようにａ−Ｓｉ膜３とＳｉ酸化膜４を順に形成した後、これらの膜をエッチバックして芯材パターン２の側壁部を形成する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which ensures a small viscosity change during storage, achieves resolution up to a fine pattern, and can form a pattern or a film excellent in solvent and heat resistances.
保存時の粘度変化が小さく、微細なパターンまで解像可能であり、耐溶剤性、耐熱性に優れたパターンや塗膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The striking-through and the failure of the color tone can be prevented from being generated by injecting the ink on a blanket roll from an ink-jet mechanism to form a pattern and increasing the viscosity of the ink and transferring the pattern on the paper from the blanket roll.
インキジェット機構からインキをブランケットロールに射出し、絵柄を形成して、インキの粘度を増して、ブランケットロールから用紙に絵柄を転写することで、裏抜けや色調不良を防ぐ。 - 特許庁 - To provide a pattern-forming method which can form a desired pattern on a substrate to be processed, by conveniently improving the wettability of a resist with a developer, without causing the process cost to increase.
簡便にかつプロセスコストを増大させることなしに、レジストと現像液との濡れ性を改善して被加工基板に所望のパターンを形成することのできるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure mask which can form a design pattern having roughness and fineness in compliance with design data with good accuracy and a method of manufacturing the same, and a method of forming a transfer pattern using this exposure mask.
疎密を有する設計パターンを設計データ通りに精度よく形成することが可能な、露光マスクその製造方法、ならびにこの露光マスクを用いた転写パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - The manufacturing device 100 of a display device is to be faced a substrate 2 formed a pattern 24 to form a display part to a positioning member (mask 3), and carries out positioning between the pattern 24 and the mask 3.
表示装置の製造装置１００は表示部を形成するためのパターン２４が形成された基板２に被位置合わせ部材（マスク３）を対面させてパターン２４とマスク３との位置合わせを行う。 - 特許庁 - The method for designing a mask includes steps of: defining a chip region; reducing the chip region to form a parent dummy pattern; forming a mesh dummy pattern; and forming offspring dummy patterns 150, 230 by removing portions of the parent dummy pattern and the mesh dummy pattern where they overlap each other.
マスクの設計方法は、チップ領域を定義するステップと、前記チップ領域を縮小して母ダミーパターンを形成するステップと、メッシュ（Ｍｅｓｈ）ダミーパターンを形成するステップと、前記母ダミーパターンと前記マッシュダミーパターンとの重なる部分を除去して子ダミーパターン１５０，２３０を形成するステップと、を含む。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which can form a pattern on a second layer by exposing while maintaining the pattern formed on a first layer by inactivating it for preventing it from becoming alkali soluble due to photosensing at the second exposing in a double exposing pattern formation.
二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目に形成されるパターンを不活性化させ、第二層目のパターン形成時における露光の際に、第一層目のパターンが感光してアルカリ可溶性とならず、第一層目のパターンを保持したまま第二層目のパターンを形成可能なパターン形成方法等を提供する。 - 特許庁 - To form a pattern shape by which a wide angle of view and good reflexivity are ensured by using a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern of μm unit, excellent in verticality at the side portions of the pattern shape and having such moderate thermal fluidity as to be able to make the flat face of the top of the pattern a curved surface.
μｍ単位の微細なパターンを形成することができ、さらにパターン形状の側面部分における垂直性に優れ、パターン頂上部の平坦面を曲面化できる適度な熱流動性を有する感光性樹脂組成物により、広い視野角で良好な反射特性が得られるパターン形状を形成する。 - 特許庁 - The conductive pattern forming method comprises transferring the printing pattern formed by filling the conductive paste in a recessed portion of an intaglio plate to the surface of a base material via the surface of the transfer printer whose surface is formed of a silicone rubber to form the conductive pattern corresponding to the pattern of the intaglio plate on the surface of the base material.
導電パターンの形成方法は、上記導電性ペーストを凹版の凹部に充てんして形成した印刷パターンを、その表面をシリコーンゴムにて形成した転写体の表面を介して基材表面に転写させて、基材表面に、凹版のパターンに対応した導電パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern forming method which, in double patterning, can form a second resist pattern while retaining a first resist pattern without dissolving the first resist agent in the second resist agent, and which can suppress a line width variation of the first resist pattern and is suitably adopted even for a liquid immersion exposure process.
ダブルパターニングにおいて、第二のレジスト剤に第一のレジスト剤が溶解することなく、第一のレジストパターンを保持したまま第二のレジストパターンを形成することができ、更には第一のレジストパターンの線幅変動を抑制することができ、液浸露光プロセスにも好適に採用されるレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for forming simply and conveniently a first wiring pattern including patterns of less than resolution limit in a first wiring pattern formation region and a second wiring pattern comprised of usual patterns of more than or equal to resolution limit in a second wiring pattern formation region, by using an SADP method (Self Align Double Patterning) through two-time lithography steps is used to form.
２回のリソグラフィ工程によるＳＡＤＰ法（Self Align Double Patterning）を用いて、第１配線パターン形成領域には解像限界未満のパターンを含む第１配線パターンを形成し、第２配線パターン形成領域には解像限界以上の通常パターンからなる第２配線パターンを簡便に形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition which is used to form a pattern by ultraviolet exposure and development, enables to convert the formed pattern to a pattern of a forward tapered shape excellent in smoothness when the formed pattern is heat treated, and forms a coating film excellent in heat resistance and weatherability.
紫外線露光と現像とによりパターンを作製するために用いられる感光性組成物であって、作製したパターンに熱処理を行うことによって平滑性に優れた順テーパー形状のパターンに変化させることができ、かつ耐熱性と耐候性とに優れた塗膜を形成できる感光性組成物の提供。 - 特許庁 - The pattern forming apparatus 1 is equipped with: a stage 3 to hold a substrate 9; an injection part 52 to inject a pattern forming material containing a photosetting resin onto the substrate 9 to temporarily form the pattern; a light emitting part 53 to irradiate the temporarily formed pattern with UV rays; and a diffusing plate 55 to diffuse the UV rays.
パターン形成装置１は、基板９を保持するステージ３、基板９に向けて光硬化性樹脂を含むパターン形成材料を吐出してパターンを仮形成する吐出部５２、仮形成されたパターンに向けて紫外線を照射する光出射部５３、および、紫外線を拡散する拡散板５５を有する。 - 特許庁 - A method for forming a pattern is characterized by adjusting the relative positional relationship between a provision means for providing a material used to form a pattern and a surface on which the pattern is formed with respect to the direction in which the material is provided from the provision means to the surface using information based on which the pattern is formed.
パターンを形成するための材料を付与する付与手段と、前記パターンが形成される面との相対的な位置関係を、前記パターンを形成するための情報を用いて、前記材料が前記付与手段から前記面に付与される方向に関して調整することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a pattern former manufacturing method can efficiently form a conductive pattern etc. like a high fine pattern in a simple manufacturing process; a wiring substrate manufacturing method using a pattern former formed by its method; and an organic thin film transistor manufacturing method.
本発明は、簡易な製造工程で高精細なパターン状に導電性パターン等を効率よく形成可能なパターン形成体の製造方法、およびその方法により形成されたパターン形成体を用いた配線基板の製造方法や有機薄膜トランジスタの製造方法等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - A method for forming a pattern comprises: forming a resist film on a substrate or a layer to be processed; transferring a pattern onto the resist film by using a photomask in which the dimension of a mask pattern is defined in accordance with a reflectance for light of a base layer of the resist film; and developing the resist film to form a resist pattern.
基板上又は被加工層上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜の下地層の光反射率に応じてマスクパターンの寸法を規定したフォトマスクを用いて前記レジスト膜にパターンを転写し、前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - The laser light in a pattern reflected by two-dimensionally arranged micromirrors 106 controlled based on the mask data of a mask pattern data output device 107 forms an enlarged pattern 110, which is reduced and projected by a reduction projecting optical system 102 onto a mask substrate 109 to form a drawn pattern 111.
マスクパターンデータ出力装置１０７のマスクデータに基づいて制御されている二次元配列微小ミラー１０６で反射するパターン状のレーザ光は、拡大パターン１１０を形成し、これを縮小投影光学系１０２によってマスク基板１０９上に縮小投影して、描画パターン１１１が形成される。 - 特許庁 - The elastic warp knit having the uneven pattern is the warp knit knitted by a warp knitting machine having the pattern reed, and is obtained by forming the uneven patterns by inserting the pattern yarns having different thicknesses and the extensibilities by the pattern reed to form a plurality of regions having the different elastic powers and/or the extensibilities.
柄筬を備えた経編機により編成された経編地であって、柄筬で、太さ及び／又は伸長性の異なる柄糸を挿入することにより凹凸模様を形成し、伸縮パワー及び／又は伸長性を変化させた領域が複数設けられていることを特徴とする凹凸模様を有する伸縮性経編地。 - 特許庁 - To provide a laminated body which can form a pattern without being restricted to a photolithography technique, can suppress a cost because an inexpensive pattern formation method can be used, further, has a wide range of product application because size and shape of a wiring pattern can be freely designed, is capable of mass production and can make the wiring pattern invisible.
フォトリソグラフィー技術に限定されることなくパターンの形成が可能であり、安価なパターン形成方法を使用できるためコストを抑制でき、また、配線パターンのサイズや形状を自由に設計できるため、製品応用への範囲が広く、大量生産が可能な、配線パターンの見えない積層体を提供すること。 - 特許庁 - It this electric circuit board 2 on which a commercial power source 1 and an electric component 6 are connected through a wiring pattern 12 to form a closed circuit, at least a part of the wiring pattern 12 is formed by a wiring pattern 43 narrower than the other part, and the narrow wiring pattern 43 is fused in the time of a short-circuit, to protect an overcurrent.
商用電源１と電気部品６とが配線パターン１２を介して接続され、閉回路が形成される電気回路基板２において、前記配線パターン１２の少なくとも一部を他部よりも細い配線パターン４３で形成し、短絡時に、この細い配線パターン４３を溶断させ、過電流保護をする。 - 特許庁 - To provide a colored curable composition for ultraviolet laser exposure which enables to form a pattern having high linewidth stability in a developing step on a substrate, to provide a pattern forming method giving stable pattern profile, and to provide a method for manufacturing a color filter suitable for forming a colored pixel pattern of a color filter.
現像工程における線幅安定性が高いパターンを基板上に形成しうる紫外光レーザー露光用着色硬化性組成物を提供し、パターン形状の安定なパターン形成方法を提供し、カラーフィルタの着色画素パターンの形成に好適なカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A Pachinko game machine determines that a specified pattern can be stop-displayed in a pattern display area when the result of the variable display of identification information does not become a specified display form and determines patterns so as to stop-display the specified pattern in the pattern display area when the operation of the operation means is performed at prescribed timing.
パチンコ遊技機は、識別情報の可変表示の結果が特定の表示態様とならない場合には、図柄表示領域に特定の図柄が停止表示可能に決定し、操作手段の操作が所定のタイミングで行われたときに、図柄表示領域に特定の図柄が停止表示させるように図柄を決定する。 - 特許庁 - To improve products in manufacturing yield by reducing influence of irregularities in a line width of a pattern formed on a reticle so as to form the pattern having a uniform line width on a wafer, in a process of forming a prescribed pattern by transferring a pattern formed on the reticle onto the wafer by the use of photography.
レチクルに形成されたパターンを写真技術を利用してウェハ上に転写することにより所定のパターンを形成するプロセスにおいて、レチクルに形成されたパターンの線幅のばらつきによる影響を低減することにより、ウェハ上に均一の線幅を有するパターンを形成して製品の歩留まり向上を図る。 - 特許庁 - In the pattern electrode forming process of the manufacturing method, after the pattern electrodes 2 are formed on the flat face S of the support plate 1, it is desirable to make the surfaces of the pattern electrodes 2 rough and it is also desirable to form the pattern electrodes 2 after mold release is applied to the flat face S.
前記製造方法のパターン電極形成工程において、前記支持板１の平坦面Ｓにパターン電極２を形成した後、そのパターン電極２の表面を粗面にすることが好ましく、また前記平坦面Ｓに離型剤を塗布した後、パターン電極２を形成することが好ましい。 - 特許庁 - To provide a plasma etching method realizing more accurate size and form control in plasma etching than ever and obtaining an etched pattern of desired size and form.
プラズマエッチングにおける寸法制御及び形状制御を従来に比べて高精度で行うことができ、所望寸法及び所望形状のエッチングパターンを得ることのできるプラズマエッチング方法等を提供する。 - 特許庁 - To image a printing form while decreasing production of visible hairlines in the form having the image or in a printed image without influenced by limitation in an area having a low area rate of a pattern.
絵柄面積率の低い領域における領域における制約という代償を払うことなく、画像付けされた版や印刷画像で目に見えるヘアーラインの発生が減るように版に画像付けを行なう。 - 特許庁 - The stack is pattern-formed (step 30) so as to form an opening part which is used in order to form the side-wall capacitor (step 35) when a via or a groove of the dual damascene structure is formed.
スタックは、二重ダマシーン構造のバイアまたは溝が形成される際に側壁コンデンサを形成するために用いられる開口部が形成され（ステップ３５）得るようにパターン化される（ステップ３０）。 - 特許庁 - After calculating the chain resistance R by two terminal resistance measuring process, the current wave form is observed by chain pattern while scanning a laser beams for calculating the defect numbers x by the positive-negative frequency of the current wave form.
２端子抵抗測定法でチェーン抵抗Ｒを求めた後、レーザービームを走査しながらチェーンパターンでの電流波形を観測し、電流波形が正負に変化した回数から欠陥数ｘを求める。 - 特許庁 - As a basic form, a projection and recess pattern having a parabolic cross section is adopted, and projections and recesses having various sizes and similar shapes compared with the basic form are provided so that they are randomly distributed.
凹凸の断面形状を放物線形状に形成したものを基本形状とし、基本形状からみて大小各種大きさの相似形の凹凸が混在するようにばらつかせる。 - 特許庁 - To provide a business form with magnetic material marks, etc. capable of increasing the number of magnetic material marks formed on the business form to be conveyed, allowing even reversal thereof to be detected, and having a magnetization pattern surely recognized.
磁性体マークを備える帳票体等に関し、搬送される帳票体に形成される磁性体マーク数の増加を図り、反転をも検知可能として着磁パターンを確実に認識させる。 - 特許庁 - To improve particularly the distribution of plated film thickness and to shorten the lead time to form desired plated film thickness in a plating device for plating in a pattern like form on one surface of a wafer by an electroplating method.
本発明は、電気メッキ法によってウエハー面上にパターン状にメッキを行うメッキ装置に関し、特にメッキ膜厚分布の改善と、所望のメッキ膜厚形成までの所要時間の改善に関する。 - 特許庁 - This color coordinate simulator makes a combination of an image described in a file form operating on an Internet browser, a color, a pattern, and a background easily selectable by using a mouse and the other pointing device by a document form.
インターネットブラウザー上で動作するファイル形式で記述された画像、および、文書形式により、マウスやその他のポインティングデバイスを使用して容易に選択可能な、色、柄、背景、の組み合わせを行う。 - 特許庁 - The photocurable resin composition is coated on a transparent electrode of the front glass substrate, exposed to form a predetermined pattern, developed and baked to form underlayer (black layer) electrode circuit of PDP.
このような光硬化性樹脂組成物を前面ガラス基板の透明電極上に塗布し、所定のパターン通りに露光し、現像、焼成することにより、ＰＤＰの下層（黒層）電極回路が形成される。 - 特許庁 - To provide a form for an electronic pen eliminating the influence of the pattern of a back side transmitting the form for the electronic pen by forming a uniform colored area in the back side of an information filling column.
情報記入欄の裏側に均一な着色領域を形成することによって、電子ペン用帳票を透過した裏側のパターンの影響を排除する電子ペン用帳票を提供する。 - 特許庁 - A RAM 3 to store pattern data for forming an eyelet holing seam M with an eyelet part T and right and left side sewing parts S1, S2 and a CPU 1 to form the eyelet holing seam M based on seam data prepared based on the pattern data are equipped to form this button holing sewing machine 100.
左右の側縫い部Ｓ１、Ｓ２を有する鳩目穴かがり縫い目Ｍを形成するためのパターンデータを記憶するＲＡＭ３と、パターンデータに基づいて作成された縫い目データに基づいて鳩目穴かがり縫い目Ｍを形成するＣＰＵ１を備えてボタン穴かがりミシン１００を構成する。 - 特許庁 - Further, the light-shielding layer 3 is patterned to form a light-shielding pattern 3a, and the shifter layer 2 is subjected to dry etching with chlorine, using ICP(inductively coupled plasma) type dry etching apparatus, to form a phase shift pattern 2a for obtaining shift mask 100 of the invention.
さらに、遮光層３をパターニング処理して遮光パターン３ａを形成し、さらに、シフター層２をＩＣＰ（誘電結合プラズマ）タイプのドライエッチング装置を用いて塩素によるドライエッチングにてエッチングし、位相シフトパターン２ａを形成し、本発明の位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁 - To provide a negative photosensitive resin composition which enables to form a pattern by irradiation with active energy rays, can form a protective film against etching, an interlayer dielectric and a surface protective film, and is excellent in sensitivity, resolution, pattern shape and alkali developability.
活性エネルギー線の照射によりパターン形成が可能で、エッチングに対する保護膜、層間絶縁膜、表面保護膜を形成しうるネガ型感光性樹脂組成物であって、感度、解像性、パターン形状及びアルカリ現像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - After coating the lower clad layer 1, a mold forming a recess and projection pattern to the coated lower clad layer 1 is pressed to form a groove on the lower clad layer 1 by transferring the recess and projection pattern on the surface of the lower clad layer 1 so as to form the core layer 2 in the groove.
下部クラッド層１の塗工後に、塗工された下部クラッド層１に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層１表面に転写することにより下部クラッド層１に溝部を形成し、溝部内にコア層２を塗工する。 - 特許庁 - A droplet injection device injects several drops of solution containing particulates by injection head 11 to form a pattern on a current supply area on a board 14 and volatile components of the applied liquid-drops are volatilized to form pattern wiring or a device.
液滴噴射装置は、噴射ヘッド１１によって微粒子含有溶液の液滴を基板１４に複数滴噴射付与し、基板１４上の通電領域にパターンを形成し、付与後の液滴の揮発成分を揮発させることによってパターン配線あるいはデバイスを形成する。 - 特許庁 - To provide a method for forming the uneven pattern plate surface of a form for molding a concrete block in which a photosensitive resin with a part exposed to ultraviolet rays or sunlight cured and an unexposed part left water-soluble is used, a conventional form can be used, a pattern can be changed easily, and cost can be reduced.
紫外線又は太陽光で露光した部分は硬化し、非露光部分は水溶性を保ったままの感光性樹脂を使用し、従来の型枠が利用でき、模様の変更も容易で、コストも低廉で済むコンクリートブロック成型用型枠の凹凸模様板面の形成方法とする。 - 特許庁 - The method is applied to various methods, for example, a substrate is coated with the composition, exposed to light to form a metal fine particle, which is developed to form a pattern containing the metal fine particle and an electroless plating pattern is formed by an electroless plating treatment.
このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち現像して金属微粒子を含むパターンを形成し、無電解めっき処理することにより無電解めっきパターンを形成することもできる。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
