Continuously, exposure using the resist film again is executed (S106-S110), the second film, the first film and the workpiece film are selectively dry-etched in this order to form the workpiece film into the predetermined pattern (S112). つづいて、再度レジスト膜を用いた露光を行い(S106〜S110)、第2の膜、第1の膜および被加工膜を順次選択的にドライエッチングして被加工膜を所定のパターンに形成する(S112)。 - 特許庁
Thus the washing liquid is provided as a spray pattern a fan-like form and evenly provided on the brush, enabling the supply of the washing liquid to be controlled in a sufficient range. これにより、洗浄液は扇状のスプレーパターンとして供給されるため、ブラシに均等に洗浄液を供給することができ、洗浄液の供給量が十分な範囲で制御可能になる。 - 特許庁
To provide a method for producing a metal film, which can inexpensively form the metal film and a metal pattern on an arbitrary substrate, and can solve a problem of a sputtering method; the metal film; and an application thereof. 任意の基板に対して、安価に金属膜および金属パターンを形成することができ、スパッタリング法の問題点を解決しうる金属膜の製造方法、金属膜およびその利用を提供する。 - 特許庁
Thus, a multilayered gate electrode can be manufactured, without having to form a pattern for forming the gate electrode, except the low-resistance metal layer 30 on the refractory metal layer 14 and the manufacturing cost can be suppressed. このように、高融点金属層14上に低抵抗金属層30以外のゲート電極形成用パターン等を形成することなく多層ゲート電極を製造でき、製造コストを抑えることができる。 - 特許庁
In the pattern print layer 3, ink with mixed aluminum powder is provided so as to form a reticulated non-print part 4 (offprint part), and a print part 5 has a metal-like (aluminum-like) color tone. この模様印刷層3は、アルミニウム粉が混入されたインクを網目状の非印刷部4(抜き印刷部)が形成されるように設けたものであり、印刷部5は金属調(アルミ調)を有している。 - 特許庁
The tape exposed by peeling the support plate is used as a protection film, a hole is formed on the protection film to form an electrode for external connection to be connected to the wiring pattern exposed by opening. 支持板を剥離することにより露出したテープを、保護膜として用い、かつ、この保護膜に穴を空け、開口により露出した配線パターンと接続される外部接続用電極を形成する。 - 特許庁
This crystallization apparatus, which is provided with a mask (1) and an illumination system (2), applies light having light intensity distribution with inverted peak pattern on a semiconductor film (3) via the mask to form a crystallized semiconductor film. マスク(1)を照明する照明系(2)を備え、マスクを介して逆ピークパターンの光強度分布を有する光を半導体膜(3)に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁
The buried wiring is formed by a method wherein the surface of the insulating substrate 1 is removed selectively employing a mask 17 formed on the surface of the insulating substrate 1 to form a groove 18 having a planar configuration corresponding to a wiring pattern. 絶縁性基板1の表面に形成したマスク17を用いて絶縁性基板1の表面を選択的に除去し、配線パターンに対応する平面形状を持つ溝18を形成する。 - 特許庁
A magnetic head 12 is so constituted as to form the detecting pattern outside its image region for detecting the positional shear of an image to be formed by a magnetic latent image formed in an image region. 磁気ヘッド12は、画像領域の領域外に、画像領域に形成された磁気潜像によって形成される画像の位置ずれを検出するための検出パターンを形成するように構成されている。 - 特許庁
The pattern of a contact area between the device and the support body is altered by changing the form of the support body, thereby enabling decreasing of the closed region during the washing, disinfecting or sterilizing treatment. 支持体の形態を変化させることにより装置と支持体との間における接触領域のパターンを変更して、洗浄、消毒または滅菌処理中における閉塞領域を減少できる。 - 特許庁
To provide a vehicle light capable of effectively using light emitted from a light source to an area other than a reflecting surface (reflecting surface structured to form a given light distribution pattern) of a reflector. 光源からリフレクタの反射面(所定配光パターンを形成するように構成された反射面)以外の領域に放射される光を有効利用することが可能な車両用灯具を提供する。 - 特許庁
A skin material is laminated on one face of the foam body having the thickness in the range of 1-10 mm, and die grooves of a lattice pattern are provided on the laminated face side to form this protective cushioning material. 厚さが1〜10mmの範囲内の発泡体の片面に、表皮材が積層され、該積層された面側に格子模様の押し型溝が設けられていることを特徴とする防護用緩衝材。 - 特許庁
Two core boards 603 in which a circuit pattern is formed on its surface in advance are overlapped with each other, and a copper foil 605 with an insulation resin 600 is laminated on both surfaces of the core board 603 and are pressed to form a laminated body. 予め表面に回路パターンが形成された2枚のコア基板603同士を重ね合わせ、その両面に絶縁樹脂600付き銅箔605を積層してプレスし積層体を形成する。 - 特許庁
To enable the back surface side of a sash cloth to be sewed as the surface of a sash in the sash cloth obtained by interweaving weft yarns with warp yarns doubly warped in the front and back surface sides so as to form a bag shape and so as to draw a pattern. 上下二重に整経した経糸に対し緯糸を織り込んで袋状に製織して模様を表した帯地において、帯地の裏側を帯表にして仕立てられるようにすること。 - 特許庁
By this constitution, water poured from the discharging port is so formed in a pouring pattern that model poured water columns RT are formed in a conical form, and the direction of water pouring is moved while changing it with the oscillation and rotation of the movable body. これにより、吐水孔からの吐水は、模式吐水水柱RTが円錐形状をなすような吐水形態を採り、可動体の揺動回転に伴ってその吐水方向を変えつつ移動する。 - 特許庁
To provide a chemically amplified positive resist composition capable of forming a thinner resist film and excellent in dry etching resistance, resolution and cross sectional form of a resist pattern. 本発明は、レジスト膜厚の薄膜化にも対応可能な、耐ドライエッチング性、解像性及びレジストパターン断面形状に優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
The diffusion pattern 38 is made to change its height in a manner of drawing a wave form in a direction perpendicular to light guiding direction, and made to have a uniform shape of cross section excluding both end parts in light guiding direction. 拡散パターン38は、導光方向と直交する方向において波形を描くように高さが変化しており、導光方向では両端部を除いて均一な断面形状を有している。 - 特許庁
A part of the silylation resist 14 is exposed in a hole pattern (a cylindrical form) and crosslinked, then the whole surface of the wafer is silylated to add Si in the part except for the crosslinked part 15 of the upper layer resist. シリル化レジスト14の一部を穴状に(円柱状に)露光して架橋させ、その後ウエハ全面をシリル化処理して、上層レジストの架橋部15以外の部分にSi元素を付与する。 - 特許庁
To form a light distribution pattern having a clear cutoff line after enhancing a luminous flux utilization rate for light from a light emitting element, in a vehicular lighting lamp using the light emitting element for a light source. 発光素子を光源とする車両用照明灯具において、発光素子からの光に対する光束利用率を高めた上で、鮮明なカットオフラインを有する配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁
The patterning device can give a pattern to the section of an radiation beam to form a patterned radiation beam, and the support has a support clamp structured to clamp the patterning device onto the support. パターニングデバイスはパターン化された放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを与えることができ、支持体はパターニングデバイスを支持体にクランプするように構成された支持クランプを含む。 - 特許庁
For example, the multivalue pattern having five kinds of monochrome concentration gradients are used, and alignment is made so that there is no same repetition and 0 gradations do not form in a line each other between adjacent patterns. 例えば、モノクロの5種類の濃度勾配を持った多値のパターンを使用し、同じ繰り返しがないように、また隣接するパターン間にて0階調同士が並ばないように配列を行った。 - 特許庁
The metal nano-ink having the wiring pattern, which is applied on the self-adhesive surface of the base 2, is heated at a predetermined temperature for a predetermined time period to form the circuit wiring 3. かかる回路配線3は、基材2の自己粘着性の表面に塗布された配線パターン状の金属ナノインクを所定の温度で所定の時間加熱処理することによって形成される。 - 特許庁
To provide a catalyst residue removing agent which achieves formation of an electroless nickel plating coating and is excellent in characteristics to form a good plating coating only on a conductive pattern section on a printed circuit board. プリント配線板において、導電性パターン部にのみ良好なめっき皮膜を形成できる特性に優れた無電解ニッケルめっき皮膜の形成を可能にする、触媒残渣除去剤を提供する。 - 特許庁
To provide: a photosensitive resin composition which has high photoreactivity, can be patterned and can form a film with high hydrophobicity and excellent dielectric properties; a thin film of the composition; and a pattern forming method. 光反応性が高くパターニングが可能であるとともに、疎水性が高く誘電特性に優れる被膜を形成できる感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a metal oxide film pattern free of complicated processes, which can form proper patterns even when a material quality or film thickness of the metal oxide film differs between the front and back of a substrate. 工程が煩雑でなく、基板の表裏で金属酸化物膜の材質や膜厚が異なる場合でも、適切なパターンを形成できる金属酸化物膜パターンの製造方法を提供すること。 - 特許庁
The composition for plating contains a gellant, electroconductive ions for performing an electrochemical reaction, and a solvent, and is discharged in a sol state on a substrate 20 through an opening 13 to form a prescribed pattern shape in a gel state. ゲル化剤と、電気化学反応を行うための導電性イオンと、溶媒と、を有し、ゾル状態で開口13を介して基板20の上に吐出されゲル状態の所定のパターン形状。 - 特許庁
An internal wiring of a semiconductor package substrate 1, a solder bump 2, and lower-face-side pins 4, 5 form a first signal transmission path group between a semiconductor chip 3 and a wiring pattern of a printed circuit board 11. 半導体パッケージ基板1の内部配線と、はんだバンプ2と、下面側ピン4,5とは、半導体チップ3とプリント配線板11の配線パターンとの間で、第1信号伝送経路群を形成している。 - 特許庁
In the method for manufacturing the mold, a filling material such as casting sand is packed into each partition of a lattice-shaped pattern so as to form the desired curved face of a mold, and the objective mold is manufactured. 本実施例の鋳型の製造方法は、格子状模型の各区画に鋳物砂等の充填物を詰め込んで鋳型の所望の曲面を形成し、目的とする鋳型を製造する方法である。 - 特許庁
To readily form rhythm simulating subtle pattern changes like in a scene, in which a human drummer makes playing with a rhythm former for making rhythmic playing by the rhythm patterns stored in a memory section. 記憶部に記憶したリズムパターンによるリズム演奏を行うリズム生成装置に関し、人間のドラマーが演奏する場面のような微妙なパターン変化を模倣したリズム生成を簡単に行う。 - 特許庁
According to the embodiment of a method for manufacturing electronic components, firstly, an object to be processed including a conductive material film on a substrate 1 is processed so as to form a wiring pattern including sparse and dense wires. 実施形態によれば、電子部品の製造方法は、まず、密の配線と疎の配線とを含む配線パターンとなるように、基板1上の導電性材料膜を含む加工対象を加工する。 - 特許庁
A metal oxide membrane 21a is formed on a glass substrate 20a (Fig. (a)), and the metal oxide membrane 21a is made in pattern and the metal oxide 11a is left so as to be in a stripe form (Fig. (b)). ガラス基板20a上に、金属酸化膜21aを成膜させ(図3(a))、金属酸化膜21aをパターニングし、ストライプ状となるように金属酸化膜11aを残膜させる(図3(b))。 - 特許庁
An FPC 2 has electronic components 3 mounted on the surface thereof and a grounding conductive pattern 4 formed on the back thereof, and is folded in such way that the side on which the electronic components 3 are mounted becomes the inside to form a case 1. 表面に電子部品3が実装され、裏面に接地導体パターン4が形成されたFPC2を、電子部品3の実装側が内側となるように折り曲げて、筐体1を形成する。 - 特許庁
This metallic film transfer film for an electronic component has such a structure that a mold releasing layer and a metallic film are made in this order on the plastic film, and the mold releasing layer has a specified patternform. プラスチックフィルム上に離型層および金属膜がこの順に成膜された構造を有しており、離型層が所定のパターン形状を有している電子部品用金属膜転写フィルム。 - 特許庁
The area 2 where the marking substance is present is formed as a simple, unstructured surface, however the marking substance can preferably also be applied in a structured form, for example as a pattern, symbol or bar code. マーキング物質が存在する領域2は、単純な何の構造ももたない面、あるいは、マーキング物質は構造をもつ形態で、例えば、模様、表象記号またはバーコードとして、与えても良い。 - 特許庁
The device further has a support constructed to support a patterning device, the patterning device can give a pattern to a cross-section of an illuminating radiation beam to form a patternized radiation beam. 装置はさらに、パターニングデバイスを支持するように構築された支持体を有し、パターニングデバイスは、パターン形成した放射線ビームを形成するために、照明放射線ビームの断面にパターンを与えることができる。 - 特許庁
In this decorative display, a plurality of colored pixels 42 is two-dimensionally and evenly arranged on the back side of a sheet-type transparent material 41, each line of the pixels 42 being given a directivity, to form an image pattern. 装飾表示体は、シート状の透明素材41の裏面に、着色された複数の画素42を各画素42の並びに方向性を持たせて2次元的に等配列して画像パターンが形成される。 - 特許庁
A multi-beam pattern definition device 300 for use in a particle-beam processing or inspection apparatus is configured to irradiate a beam of electrically charged particles, allow passage of the beam through a plurality of apertures, and then form beamlets which are imaged onto a target. 粒子ビーム処理または検査装置用のマルチビームパターン定義装置300は、荷電粒子ビームを発生し、複数のアパーチャを通過させた後に、ターゲット上に結像されるビームレットを形成する。 - 特許庁
Resonance capacitor patterns 16a, 16b, 17a, 17b, 18a, 18b are respectively opposed to a ground pattern 25 and ground side capacitor patterns 31, 32, 33 to form resonance capacitors C1, C2, C3. 共振用コンデンサパターン16a,16b、17a,17b、18a,18bは、それぞれグランドパターン25及びグランド側コンデンサパターン31,32,33に対向し、共振用コンデンサC1,C2,C3を形成する。 - 特許庁
To provide a heat shrinkable film for forming a three-dimensional pattern that can print a visually recognizable display by laser irradiation and form this display three-dimensionally. 本発明は、レーザー照射によって視認可能な表示を印刷することができ、更に、この表示を立体的に形成できる立体模様形成用の熱収縮性フィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁
Then resist is subjected to an etch-back process on the entire surface under conditions of reducing a gap between adjacent lenses so as to transfer the resist pattern to the base lens material to form a lens array 22A having reduced gaps. この後、隣接するレンズの間隔を縮小させる条件で全面エッチバック処理を行い、レジストパターンを下地のレンズ材に転写し、ギャップを縮小したレンズアレイ22Aを形成する。 - 特許庁
Then, as shown in (c), the gap between the semiconductor chip 1 and the board 4 is sealed with liquid-form sealing resin 8b, whereby the periphery of the junction between the gold bump 5 and the conductor pattern 6 is protected. その後、図1(c)に示すように、半導体チップ1と基板4との隙間を液状の封止樹脂8bにより封止することで、金バンプ5と導電体パターン6との接合部の周囲を保護する。 - 特許庁
The angular pattern of a diffraction grating having different diffraction efficiencies of positive side diffracted light and negative side diffracted light of the same order is transferred to the top of a wafer to form a transferred image TP1W on the wafer. まず、同一次数の正側の回折光と負側の回折光との回折効率が異なる回折格子の山形のパターンをウエハに転写し、ウエハ上に転写像TP1Wを形成する。 - 特許庁
The entire surface of the substrate, after the base film has been peeled, is exposed to cure the unexposed negative resist layer left on the substrate so as to form the resist pattern reflecting the exposure mask in the negative resist layer. ベースフィルムを剥離した基板の全面を露光して基板に残された未露光のネガ型レジスト層を硬化させることにより、ネガ型レジスト層に、露光マスクを反映したレジストパターンを形成する。 - 特許庁
To provide a diffraction grating pattern which is made to closely resemble a target outline and in which the outline defining an external form is smooth and which lowers no chromaticity without causing large increase of production time and labor. 作製時間と労力の大幅な増大を招くことなく、目標とする輪郭線に近似させて、外形を規定する輪郭線が滑らかであり、彩度が低下しない回折格子パターンを提供する。 - 特許庁
The surface side of the base plate 1 is etched with an ion beam, and the shape of the photoresist 2b is transferred to the surface of the base plate 1 so as to form the pattern where the microlenses 3 are two-dimensionally arrayed. Si基板1の表面側からイオンビームでエッチングを行い、フォトレジスト2bの形状をSi基板1の表面に転写し、マイクロレンズ3が二次元に配列されたパターンを形成する。 - 特許庁
To obtain a polyester film for a photoresist for extremely thin lines as a substrate which simultaneously satisfies transparency, lubricity and air venting property and can form a photoresist layer excellent in pattern forming property of the surface and edge part. 透明性、滑り性、空気抜け性を同時に満足し、表面や端部のパターン形成性に優れるフォトレジスト層を形成可能な支持体としての極細線用フォトレジスト用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
To form a high precision pattern while attaining adaptation to the shortening of the wavelength of light for exposure and the increase of throughput and to produce a microdevice having high performance, high quality and high reliability. 露光光の短波長化や高スループット化に十分に対応しつつ、高精度なパターン形成を可能とし、高性能、高品質、高信頼なマイクロデバイスを製造できるようにすることである。 - 特許庁
The formed SiOX layer 6a is removed with hydrofluoric acid to form the SiOC mask 6b, the gate electrode layer 3 is etched using this SiOC mask 6b, and thereby a wiring pattern 3a of the gate electrode can be obtained. 形成されたSiO_x層6aをフッ酸で除去してSiOCマスク6bを形成し、このSiOCマスク6bを用いてゲート電極層3をエッチングし、ゲート電極の配線パターン3aを得る。 - 特許庁
To obtain a method of forming a circuit pattern whereby a high- reliability product can be obtained efficiently for a short time, without costing by eliminating the need of etching works and associated facilities, form plates, etc. エッチング作業、それに伴う設備や版等を不要として、能率よく短時間で、コストがかからず、しかも信頼性の高い製品を得ることができることとした回路パタ−ンの形成方法とする。 - 特許庁
The erasing head 5 repeatedly erases the recording servo signals An to An+3 or the like on the tape recording medium 1 for predetermined un-erased timing period to form a linear servo pattern 9. 消去ヘッド5は、テープ状記録媒体1上の記録サーボ信号An〜An+3などを所定の消残しタイミング期間で消去を繰り返して直線状のサーボパターン9を形成する。 - 特許庁