「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 60 61 62 63 64 65 66 67 68 .... 90 91 次へ＞- The semiconductor manufacturing apparatus includes a chemical application section 102 for applying chemical to a substrate, a heating treatment section 104 for heating the substrate, a resist coating section 107 for coating a resist on the front surface of the substrate, an exposure section 105 for exposing a specified pattern in the resist, and a developing section 108 for developing the resist to form the specified pattern.
基板に薬液を塗布する薬液塗布部１０２と、基板を加熱する加熱処理部１０４と、基板の表面にレジストを塗布するレジスト塗布部１０７と、そのレジストに所定のパターンを露光する露光部１０５と、そのレジストを現像することにより所定のパターンを得る現像部１０８とを備えている。 - 特許庁 - To provide a sufficient optical transmission capability and sufficiently high pattern forming accuracy in a method for producing an optical waveguide to form a pattern of the optical waveguide by means of photolithography in which predetermined parts of a photosensitive resin layer are irradiated with light and then the parts which are not irradiated with light are removed by a developing solution.
感光性を有する樹脂層の所定箇所に光照射した後に光照射されていない箇所を現像液で除去するフォトリソグラフィーにより光導波路のパターンを形成する光導波路の製造方法において、十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を提供する。 - 特許庁 - In a lamp unit 20 of a projector type to form an additional light distribution pattern, a vertical cut-off line is formed in the additional light distribution pattern by shielding a part of an irradiating light from three reflector units 40C, 40L, 40R horizontally arranged, by a shade 28 movable horizontally.
付加配光パターンを形成するためのプロジェクタ型の灯具ユニット２０において、左右方向に移動可能なシェード２８により、左右方向に配置された３つのリフレクタユニット４０Ｃ、４０Ｌ、４０Ｒからの照射光の一部を遮蔽して、付加配光パターンに鉛直カットオフラインを形成する構成とする。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics and stability with time, and can form a pattern in a favorable shape, and suppresses PEB (post exposure bake) temperature dependence, and to provide a resist film formed by using the composition and a pattern forming method using the composition.
感度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成することができ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a negative radiation-sensitive composition which is suitable for exposure to far-UV rays including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light and which can form a pattern with high resolution while avoiding the causes for deterioration in the resolution such as swelling due to permeation of a developer or remaining of a resist film between the lines of the pattern.
ＡｒＦエキシマレ−ザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線での露光に適していて，現像液の浸透による膨潤や，パタンの線間にレジスト膜が残るといった解像度劣化の原因を取り除いた高解像度のパタン形成が可能なネガ型の感放射線組成物を提供する。 - 特許庁 - Scanning transmission type electronography is digitalized to be taken in a computer and subjected to digital two-dimensional Fourier transform to form a diffraction pattern and one or a plurality of diffraction spot positions in the diffraction pattern are calculated to be compared with the position of a diffraction point in the case of an ideal crystal structure to detect the strain of a crystal lattice.
走査透過型電子顕微鏡像をデジタル化しコンピュータに取り込み、デジタル２次元フーリエ変換をすることによって回折パターンを形成し、回折パターン中の一又は複数の回折スポット位置を求め、理想的な結晶構造の場合の回折点の位置と比較することで、結晶格子の歪みを検出する。 - 特許庁 - To enable to secure sufficient brightness at the portion near the lower part of a cut-off line in the right and left diffusion area of a low-beam light distribution pattern, even when a light source is arranged at the position separated from an optical axis downward in a vehicle headlamp of projection type constituted so as to form the low-beam light distribution pattern.
ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、光源が光軸から下方に離れた位置に配置されている場合であっても、ロービーム用配光パターンの左右拡散領域におけるカットオフラインの下方近傍部分の明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁 - The data form of the icon pattern to be written in the RAM is the same as that of the icon pattern stored in a flash ROM 2 beforehand in conformity with a design of software of GUI operations and enables display of the icon using data of the RAM30R5 by the operation in common with the data of the flash ROM 2.
ＲＡＭに書き込むアイコンパターンのデータ形式は、ＧＵＩ動作のソフト設計に合わせて予めフラッシュＲＯＭ２に格納されたアイコンパターンのデータ形式と同一として、フラッシュＲＯＭ２のデータと共通の動作によりＲＡＭ３OR５のデータを用いてアイコンの表示を行うことを可能にする。 - 特許庁 - A plurality of visible light rays are convergently radiated, and while confirming pattern of light formed on the surface of the object through visual observation, the position of the object is adjusted so that the pattern converges into one point or a certain form, thus making it possible to hold constant the distance between the indicator and the object.
複数の可視光線を収束させるように放射して、対象物の表面に形成した光のパターンを目視で確認しながら、そのパターンが一つの点あるいは一定の形になるように対象物の位置を調節することで、対象物との距離を一定に保つことを可能ならしめた。 - 特許庁 - To provide a halftone phase shift mask which need not form a superfine pattern, suppresses a sub peak of light intensity exerting adverse influence on image formation at the time of exposure and has a light shielding pattern of lowered transmissivity in an outside region of an element region where multiple exposure is applied and to provide a manufacturing method of the halftone phase shift mask.
超微細なパターンの形成を必要とせず、露光時の像形成に悪影響を及ぼす光強度のサブピークを抑え、かつ、素子領域の外側の多重露光される領域での透過率を下げた遮光パターンを有するハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁 - The alignment controlling protrusion of the color filter is the alignment controlling protrusion 39 formed by grinding a pattern 37 with a nearly rectangular planar shape and a nearly rectangular sectional shape or a pattern with a circular planar shape and a nearly rectangular sectional shape formed by using a photoresist so as to form a protrusion with the circular arc shaped sectional shape.
配向制御用突起が、フォトレジストを用いて形成した平面形状及び断面形状が略矩形状のパターン３７、或いは平面形状が円形状で断面形状が略矩形状のパターンを研磨して、その断面形状を円弧状の突起に形成した配向制御用突起３９であることを。 - 特許庁 - All the liquid droplet ejection nozzles 28 are made to be a first nozzle group, and the eight continued liquid droplet ejection nozzles 28 on the X arrow direction side in the first nozzle group are used to simultaneously form dots D which are formed in the column direction for every column of the first dot pattern 10A to draw the first dot pattern 10A.
全ての液滴吐出ノズル２８を第１ノズル群とし、その第１ノズル群のＸ矢印方向側の連続する８個の液滴吐出ノズル２８を使用して、第１ドットパターン１０Ａの列毎に、列方向に形成されるドットＤを一斉に形成して第１ドットパターン１０Ａを描画する。 - 特許庁 - When the anisotropic conductive film 4 is to be transferred onto a substrate 1 with a conductive pattern 3 and a coating film 2 laminated, since an aperture 21 of the coating film 2 exhibits a rectangular form, the conductive film 4 cannot be in tight contact with the substrate 1 or the conductive pattern 3 at corners of the aperture 21, resulting in bubbles 6 generated.
導電性パターン３及び被覆膜２が積層された基板１に異方性導電膜４を転写する場合、被覆膜２の開口部２１が矩形状をなすため、開口部２１の角部において異方性導電膜４が基板１又は導電性パターン３に密着できず、気泡６、６、…を生じる。 - 特許庁 - A conductor pattern 4 is formed in the layer spirally as prescribed, a via hole 6 is formed at a prescribed position of a film layer of a nonmagnetic body 5, and a conductor pattern 4 is connected to form coils A and B, which are disposed to operate electrically complementarily and also incorporated in a buried state in the film layer of the nonmagnetic body 5.
導体パターン４は渦巻き形状を該当層に所定に形成し、非磁性体５の膜層の所定位置にビアホール６を設けて導体パターン４を接続させてコイルＡ，Ｂを形成し、２つのコイルは電気的に相補動作する配置にして非磁性体５の膜層に埋め込み状態に内蔵する。 - 特許庁 - To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern sidewall after developing.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した（メタ）アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁 - To realize in a charged particle exposure for division transfer method, where a pattern can be transferred to and exposed to light keeping high resolution and high accuracy by a method, wherein imaging conditions such as form astigmatism caused by differences in pattern distribution in sub-fields are corrected effectively.
分割転写方式の荷電ビーム露光において、各サブ・フィールド内のパターン分布の相違に起因する形状非点収差等の結像条件の補正を効率良く実行でき、結果的に高解像・高精度のパターン転写露光を実現できる荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁 - In the electrically conductive pattern forming method, an electrically conductive layer is formed using a photosensitive composition containing (A) electrically conductive particles, (B) an alkali-soluble resin, (C) a compound containing an ethylenically unsaturated group and (D) a photopolymerization initiator and the electrically conductive layer is exposed and developed to form a pattern.
（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性組成物を用いて導電層を形成し、当該導電層を露光処理し、当該導電層を現像処理してパターンを形成する導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - Therefore, with the projector type headlight 10, the second reflecting face that hitherto caused conventional defects can be eliminated to form the overhead light distribution pattern P2 only by a structure of the shade 14, so that a stable overhead light distribution pattern P2 can be obtained in a simple structure.
したがって、本発明のプロジェクター型ヘッドランプ１０によれば、従来の欠点を引き起こす原因となっていた第２反射面を無くすことができ、シェード１４だけの構成によってオーバーヘッド用配光パターンＰ２を形成できるので、簡単な構成となり安定したオーバーヘッド用配光パターンＰ２を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern side wall after developing.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した（メタ）アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁 - A mask RT having a prescribed pattern formed thereon is irradiated through a light diffusing member DF, at least one position of the light diffusing member DF, the mask RT, and a light receiving opening 91a is changed, and the light through the light receiving opening 9a is wave- surfacewise divided to form a plurality of pattern images.
光拡散部材ＤＦを介して所定のパターンＰＨ_1が形成されたマスクＲＴを照射するとともに、光拡散部材ＤＦ、マスクＲＴ、及び受光用開口９１aの少なくとも１つの位置を変化させて、受光用開口９１aを介した光を波面分割して複数のパターン像を形成する。 - 特許庁 - After a thin film 2 is formed of an organic material on a substrate 1 and a portion of the thin film to be removed is irradiated with laser light to perform pattern processing by thermal abrasion, the entire surface on which the lasers abrasion is carried out is subjected to ashing processing 8 to form a pattern from which even a remaining film 7 is also efficiently removed.
基板１上に有機材料からなる薄膜２を形成し、その薄膜のうち除去すべき部分にレーザー光４を照射して熱アブレーションによるパターン加工を行った後、レーザーアブレーションが施された表面全面にアッシング処理８を施すことにより、残膜７も効率的に除去されたパターンを形成する。 - 特許庁 - The device and manufacturing method of the device, wherein a first conductive layer contacting a semiconductor area is formed, an insulating layer is formed on the first conductive layer in a coating process, a mask pattern is formed by radiating a laser beam to a part of the insulating layer, etching is performed with the mask pattern as a mask to form a divided first conductive layer.
本発明は、半導体領域に接する第１の導電層を形成し、第１の導電層上に絶縁層を塗布法により形成し、絶縁層の一部にレーザ光を照射してマスクパターンを形成し、前記マスクパターンをマスクとしてエッチングして、分割された第１の導電層を形成することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent sensitivity even when applied to an LDI (laser direct imaging) system, has satisfactory storage stability, and enables to form a resist pattern having good resist shape free of undercut and overhang, a photosensitive film, a resist pattern forming method and a permanent resist.
ＬＤＩ方式に適用した場合でも優れた感度が得られ、且つ、充分な保管安定性を有し、アンダーカットやオーバーハング等のない良好なレジスト形状を有するレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジストを提供する。 - 特許庁 - The method is characterized in that: (a) a material is directed to a layer of a pattern generator device to form a coating on the layer; and (b) at least a part of the material is prevented from reaching the layer in the step (a) so as to generate a trapezoidal profile of reflected light from the coating on the pattern generator.
（ａ）材料をパターンジェネレータ装置の層に向かって、該層上にコーティングを形成するように方向付け、（ｂ）パターンジェネレータ上のコーティングから反射する光の形状が台形になるようにステップ（ａ）の間に少なくとも前記材料の一部が層に到達するのを妨げることを特徴とする、方法。 - 特許庁 - In an encryption mode, image information is converted into an encryption message of code sequence by using an encryption key, a small pattern corresponding to each code is recorded on a sheet by an image forming apparatus to form a small pattern sequence, and a decryption information recording means integral with the sheet is made to write the encryption key or a corresponding one.
暗号化モードでは、暗号化キーを用いて画像情報をコード列の暗号文に変換し、各コードに対応した小パターンを画像形成装置で用紙に記録させて小パターン列を形成し、該用紙と一体的な復号情報記録手段に該暗号化キー又はこれに対応したものを書き込ませる。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which can form a uniformly thin film having an thickness of not more than 100 nm applicable to lithography using nanoimprint for patterning in not more than 100 nm and can be applied to nanoimprint, and to provide a manufacturing apparatus of an electrolyte film for pattern formation which can realize such a method.
１００ｎｍ以下のパターニングが可能なナノインプリントを用いたリソグラフィーに適用できる１００ｎｍ以下でも均一な厚みの薄膜形成ができ、それをナノインプリントに応用できるようパターンの形成方法とそのような方法を実現することができるパターン形成用電解質膜の製造装置を提供する。 - 特許庁 - When the address of a pixel under consideration is designated, the memory controller 7 automatically generates an address corresponding to the filter processing based on the registered pattern to the image memory 3, and burst transfers picture data to be used for the filter processing read form the image memory 3 according to its access based on the registered pattern to a system bus 5.
注目画素のアドレスが指定されると、メモリコントローラ７は、画像メモリ３に対して、登録パターンに基づいて、フィルタ処理に応じたアドレスを自動的に発生し、一方で、システムバス５に対して、登録パターンに基づくアクセスにより画像メモリ３から読み出したフィルタ処理に使用する画像データをバースト転送する。 - 特許庁 - The method for manufacturing an exposure mask includes: a step S1 of patterning a light shielding film 2 formed on a quartz substrate 1 to form a light shielding pattern 2c; and a step S4 of directly measuring the level difference H from the surface of the quartz substrate 1 to the upper face of the light shielding pattern 2c and obtaining the measured value of the level difference H.
石英基板１上に形成された遮光膜２をパターニングして遮光パターン２ｃを形成するステップＳ１と、石英基板１の表面から遮光パターン２ｃの上面までの段差Hを直接測定して、該段差Hの実測値を得るステップＳ４と、を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法による。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a thin film magnetic head, wherein when formation of a narrow pattern exceeding a limit of resolution of an imaging layer is required, a lift-off resist of a narrow pattern is applied and an angle of an end part of a GMR film is made steep so as to be ≥45° by a lift-off method to form a GMR element.
イメージング層の解像度の限界を超える狭いパターンを形成する必要がある場合に、狭いパターンのリフトオフレジストを適用し、リフトオフ方法によって,ＧＭＲ膜端部の角度を４５度以上に急峻にして、ＧＭＲ素子を作成する薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing an optical device including a step of forming a pattern having ridge lines on a raw material by using a die, the raw material is softened and then the raw material in the softened state is pressurized to such a degree that the raw material does not intrude into the deepest part of the die corresponding to the ridge line so as to form the pattern.
型で素材に稜線を持つパターンを成形する段階を含む光学素子の製造方法であって、前記素材を軟化状態にし、該軟化状態の素材に対して前記型の前記稜線に対応する最深部に前記素材が入り込まない程度の圧力を加えて前記パターンを成形する。 - 特許庁 - The digital data of the light distribution patterns can be used as it is and the optimum light distribution pattern P5 to the surroundings of the vehicle can be controlled in a digital form, thus positively achieving the optimum light distribution pattern P5 to the surroundings of the vehicle with little analog unevenness.
また、デジタル的に作成された配光パターンのデジタルデータをそのまま使用して車両の周囲環境に最適な所定の配光パターンＰ５をデジタル的に制御することができるので、アナログ的なばらつきがない車両の周囲環境に最適な所定の配光パターンＰ５が確実に得られることとなる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an element built-in substrate which can form a fine-pitch conductor pattern on an insulating layer with high precision while securing the size stability of the conductor pattern and to provide the element built-in substrate, and a method for manufacturing a printed wiring board and the printed wiring board.
導体パターンの寸法安定性を確保して絶縁層上にファインピッチな導体パターンを高精度に形成でき、転写シートの除去も適正に行うことができる素子内蔵基板の製造方法および素子内蔵基板、ならびに、プリント配線板の製造方法およびプリント配線板を提供すること。 - 特許庁 - In the pattern forming apparatus 5, the adjustment of the attaching position of the head unit 25 in the base 121 is carried out and the discharge timing from a nozzle hole 29 is adjusted based on the discharge start positional deviation 51 or the like and after that, the discharge treatment of ink or the like is carried out to form the pattern on the substrate.
パターン形成装置５は、ヘッドユニット補正量４９に基づいて、ベース１２１におけるヘッドユニット２５の取付位置の調整を行い、吐出開始位置ズレ量５１等に基づいて、ノズル孔２９からの吐出タイミングを調整し、インク等の吐出処理を行い基板上にパターンを形成する。 - 特許庁 - This method for manufacturing a semiconductor memory device includes: a step (a) of sequentially laminating a TMR film 5 and a cap layer 6 on base layers 1, 2, 3 and 4; and a step (b) of patterning the TMR film 5 and the cap layer 6 to form a normal laminate structure pattern 13 and a dummy laminate structure pattern 16 thereof.
本発明に係る半導体記憶装置は、（ａ）下地層１，２，３，４上にＴＭＲ膜５、キャップ層６を順に積層する工程と、（ｂ）ＴＭＲ膜５、キャップ層６をパターニングして、それらの正規積層構造パターン１３およびダミー積層構造パターン１６を形成する工程とを備える。 - 特許庁 - Closely to a position to drive the top end part of the nail 32 on the play panel surface 12, a reference pattern 36 is provided corresponding to a position and a form of the head 32A of the controlled nail 32 vertically to the play panel surface 12 and the reference pattern 36 is offset from the driving position just for the required nail control.
遊技盤面１２の釘３２先端部打ち込み位置近傍には、調整後の釘３２の頭部３２Ａを遊技盤面１２に対して垂直方向から投影した位置及び形状に対応する基準模様３６が設けられ、基準模様３６は釘調整が必要な分だけ上記打ち込み位置からオフセットされている。 - 特許庁 - With the fiber laser modulation apparatus 1, the pattern signal 11 generated at the pattern generator 2 is formed by the output level of four periods of a low output period, an output elevation period, a high-output period and an output fall period, so that an output light 14 becomes a rectangular form pulsed light without the surge pulse.
出力光１４が、サージパルスを伴わない矩形状のパルス光となるよう、ファイバレーザー変調装置１では、パターン発生器２で生成するパターン信号１１を、低出力期間、出力上昇期間、高出力期間及び出力低下期間の４期間の出力レベルで形成するようにしている。 - 特許庁 - When center lines, etc., have to be modified after the center lines and a wiring pattern which are in a form being before preparing a thick wiring pattern are prepared, an input device 30 first, collectively selects the plurality of center lines, etc., and also designates a point and a line to be reference to modification change.
厚みのある配線パターンを作成する前の形態である中心線や配線パターンを作成した後において、それら中心線等に修正を要する場合、まず、入力装置３０によって、複数の中心線等を一括して選択するとともに、修正変更の基準となる点や線を指定する。 - 特許庁 - A part for forming a watermark pattern by microirregularity is formed on a nonwoven fabric and the upper paper layer is laminated to the nonwoven fabric to form a watermark pattern by the difference of fiber quantities between the protruded part and the recessed part and, as necessary, a lower paper layer is laminated relative to the nonwoven fabric to obtain the watermarked multi-ply paper.
不織布に微細な凹凸による透かし模様形成部が形成され、不織布上に上層紙層を積層することで、凸部に対する繊維量と、凹部に対する繊維量の差により透かし模様が形成され、必要に応じて、不織布に対して下層紙層を積層した透かし模様入り多層抄き合わせ紙である。 - 特許庁 - This method comprises inserting a rather hard substance 4 or 5 made of rubber or wood under a carpet, setting the substance to form a pattern, making the carpet and a flat table 1 come into close contact with each other and mechanically shearing and cutting hair tips 2a formed by projecting them from the surface so as to correspond to the inserted pattern.
じゅうたんの下面部に柄に型どった木とかゴム等の少し固いもの４又は５を挿入し組込み、柄状にして配置したのち、じゅうたんを平面台１に密着させ、挿入した図柄に合わせ表面より突出させ構成させた毛先２ａを、機械的にシャーリングカットさせる。 - 特許庁 - To provide an electroless plating catalyst which can be prepared through a simple process without using a reducing agent solution, further can simplify a process where a metal plating pattern is formed from an electroless metal plating film compared with the conventional one, and can correctly form a metal plating pattern on a micro to nano scale.
還元剤溶液を用いることなく簡便な工程で作成することができる上、無電解金属メッキ膜から金属メッキパターンを形成する工程を従来と比較して簡素化することができ、しかもミクロ〜ナノスケールで金属メッキパターンを正確に形成することができる無電解メッキ触媒を提供する。 - 特許庁 - Since the adhesive force between the insulating substrate 101 and the carbon nanotube 301 is smaller than the adhesive force between the insulating substrate 101 and the cathode conductor 102, the carbon nanotube 301 adhered directly to the insulating substrate 101 is peeled with the adhesive tape 403, so as to form the prescribed pattern of an emitter 401 as being the same with the pattern of the cathode conductor 102.
このとき、絶縁基板１０１はカソード導体１０２よりもカーボンナノチューブ１０３との接着力が小さいため、絶縁基板１０１に直接被着されたカーボンナノチューブ３０１は粘着テープ４０３に被着して剥離され、カソード導体１０２と同一の所定パターンのエミッタ４０１が形成される。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition which has high radiation sensitivity and development margin to form a favorable pattern even when the process time exceeds the optimum developing time in a developing process, and with which a pattern thin film having excellent adhesiveness can be easily formed, and to provide an interlayer insulating film of electronic parts and microlens.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。 - 特許庁 - To form an uneven pattern of soft impression where the whole is softly made without damaging the texture of the surface material, when the uneven pattern is formed to the surface of the sheet material that laminates the polyurethane foam and the surface material, and to further obtain necessary peel strength between the surface material and the polyurethane foam.
ポリウレタンフォームと表面材を積層したシート材の表面に凹凸模様を形成するにあたり、表面材の風合いを損ねることなく全体がふんわりとして柔らかい印象の凹凸模様を形成でき、また、表面材とポリウレタンフォーム間における必要な剥離強度が得られるようにする。 - 特許庁 - In the vehicular headlight, a first reflector 28 to a fourth reflector 34 respectively reflect light from a first semiconductor light-emitting element 22 or a second semiconductor light-emitting element 24, and respectively form a first individual light-distributing pattern PH1 to a fourth individual light-distributing pattern PH4 which are arranged in a horizontal direction by adjoining each other.
車両用前照灯において、第１リフレクタ２８〜第４リフレクタ３４は、第１半導体発光素子２２または第２半導体発光素子２４からの光を各々が反射し、互いに隣接して水平方向に並ぶ第１個別配光パターンＰＨ１〜第４個別配光パターンＰＨ４の各々を形成する。 - 特許庁 - To form an insulation pattern whose forming process is simple and which has high extraction efficiency of light, can securely prevent a short circuit between an anode and a cathode and breaking of a display element due to an edge portion of an electrode pattern, and is sectioned in a forward tapered shape or trailing shape.
形成プロセスが簡便で、光の取り出し効率が高く、陰極を断線させることなく、電極パターンのエッジ部に起因する陽極−陰極間の短絡及び表示素子の破壊を確実に防止できる順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成する。 - 特許庁 - Each stress relaxation region 60 is preferably set so as to form a projecting shape projecting from the side of the pattern region 30 toward the side of the fixing part 51 oppositely to the arm by the side of the peripheral part 50 in the pattern region 30 based on the result obtained by analyzing the stress of the mask body 20 stretched to the frame body 10.
応力緩和領域６０は、枠体１０に張設されたマスク本体２０の応力を解析した結果に基づいて、パターン領域３０の周縁部５０側の辺に対向してパターン領域３０側から固定部５１側へ向けて突出する突形状をなすように設定されていることが好ましい。 - 特許庁 - This tubular knit fabric is characterized in that the fabric is knitted in the tubular form by feeding elastic yarns to each of needle beds using a double raschel knitting machine and has two or more kinds of knitted pattern parts different in stretching force and ≥1.1 times ratio of the respective stretching forces for the two or more kinds of knit fabric pattern parts.
ダブルラッセル編機を使用してそれぞれの針床に弾性糸を供給して筒状に編成される筒状編地であり、また伸縮力が異なる２種以上の編地柄部分を有し、これら２種以上の編地柄部分についてそれぞれの伸張力の差は１．１倍以上であることを特徴とする筒状編地。 - 特許庁 - To provide a painting method of a three-dimensionally formed object, in which a curved portion region and/or a flection portion region is provided with a continuous pattern on a face forming the curved portion regions or between faces forming the flection portion regions and a painted object in a three-dimensional form having the continuous pattern without albinism, etc. can be provided.
立体形状物の湾曲部領域及び／又は屈曲部領域には、湾曲部領域を形成する面や、屈曲部領域を形成する面と面との間に連続模様を有し、連続模様には、白化現象等の無い、立体形状塗装物を提供できる、立体形状物の塗装方法を提供する。 - 特許庁 - The spatial position relation between the endoscope image and ultrasonic image is coordinated by dot pattern projection of laser beams or pattern matching of three-dimensional form image information of a lesion part surface, and on the basis of the coordination, the endoscope image and ultrasonic image are compositely displayed.
レーザビームのドットパターン投影により、あるいは、病変部表面の３次元形態画像情報をパターンマッチングさせることにより内視鏡画像と超音波画像との空間的な位置関係の対応付けを行い、この対応つけに基づいて内視鏡画像と超音波画像とを合成して表示する。 - 特許庁 - A plurality of stripe type electrode patterns 8 formed to have wider pattern width than width of a space 10 is arranged so that the liquid crystal molecules are oriented in a pattern longitudinal direction when polymerizable components mixed in the liquid crystal layer 24 while applying voltage to the liquid crystal display layer 24 are solidified to form the polymer.
液晶層２４に電圧を印加しながら液晶層２４中に混合された重合性成分を固化してポリマーを形成する際に液晶分子がパターン長手方向に配向するように、スペース１０の幅よりパターン幅の方が広く形成された複数のストライプ状電極パターン８が配列している。 - 特許庁
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