「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 63 64 65 66 67 68 69 70 71 .... 90 91 次へ＞- On both ends of each semiconductor region 5 in the shape of a bent pattern, an n-type high-density diffusion region 9 and a p-type high-density diffusion region 10 are formed, to form diodes in the semiconductor regions 5.
一方、屈曲型パターン形状の半導体領域５の両端には、ｎ形高濃度拡散領域９、ｐ形高濃度拡散領域１０を設け、半導体領域５内にダイオードを形成する。 - 特許庁 - The designed barcode 100 includes a sequence of bar symbols 110 including a plurality of spaced bar symbols arranged in a scan direction X, and an additional pattern 130 for complementing a design represented by the outer form of the sequence of bar symbols 110.
デザインバーコード１００は、スペースをおいてスキャン方向Ｘに配列された複数のバーシンボルを含むバーシンボル列１１０と、バーシンボル列１１０の外形が表す図案を補足する付加パターン１３０と、を含んでいる。 - 特許庁 - Subsequently, a first resist pattern is formed thereon, the etching treatment is applied on the nitride film 202 to expose the oxide film 201, and the thermal oxidation of the exposed oxide film 201 is effected to form a second oxide film whose thickness is thickened.
次いでその上に第１のレジストパターンを形成し、それをマスクとして、窒化膜202をエッチング処理し、酸化膜201を露出させ、露出した酸化膜201を熱酸化し、厚膜化された第２の酸化膜を形成する。 - 特許庁 - To form a magnetic track pattern without damaging a layer exposed on the surface, by disposing a new easy-to-remove layer directly below a resist and thereby easily and certainly removing the resist.
レジストの直下に剥離しやすい層を新たに設けることで、レジストを簡単かつ確実に除去することができるため、表面に露出する層にダメージを与えずに磁気トラックパターンを形成することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an attaching construction for design panel to form which is used for transferring irregular pattern to a concrete structure having a wide surface not only in lateral direction but also to up-down direction such as a concrete fence.
コンクリート塀のように横方向にだけでなく上下方向にも広い面を有するコンクリート構造物に凹凸模様を転写するために使用されるデザインパネルの型枠への取付構造を提供すること。 - 特許庁 - Subsequently, as shown in Fig. 1(c), anisotropic dry etching is performed using the above passage pattern 14A as an etching mask to form a micro passage 12A having a width of about 10 μm and a depth of about 20 μm on the substrate 12.
次に、図１（ｃ）に示すように、上記流路パターン１４Ａをエッチングマスクとして異方性ドライエッチングにより、基板１２上に幅約１０μｍ、深さ約２０μｍのマイクロ流路１２Ａが形成される。 - 特許庁 - To provide a method for correcting cold joint on an fair-face concrete surface, which corrects the cold joint while maintaining a color and a pattern inherent in each surface corresponding to a form employed when the fair-face concrete is formed.
打放しコンクリート形成時に用いた型枠に対応する面毎に有する色合い又は模様を維持しつつコールドジョイントを補正する打放しコンクリート表面のコールドジョイントの補正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a position shift correcting method and a color image forming apparatus that can correct a read error (detection difference) when a pattern for position shifting is read and form an image free of position shifts of respective colors.
位置ずれ用パタンを読み取る際に読み取り差（検出差）を補正することができ、各色の位置ずれのない画像形成を可能とする位置ずれ補正方法及びカラー画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - The base sheet may be more enhanced in dimensional stability by applying curable resin paint to the surface on the side of the embossed pattern of the base sheet before the printing ink layer is formed to crosslink and cure the same to form a hard coating film layer 3.
基材シートは印刷インキ層形成前に、凹凸模様の側の面に、硬化性樹脂塗料を塗工し架橋硬化させて硬質塗膜層３を形成して、より寸法安定性を向上させておいても良い。 - 特許庁 - This pipe magnetic powder flaw detector 10 comprises an inspection liquid tank 20, a pipe vertical moving device 30 and an electrode moving device 40, and magnetizes the pipe 1 in an inspection liquid to form a magnetic powder pattern at a weld defect part.
パイプ磁粉探傷装置１０であって、検査液槽２０と、パイプ上下移動装置３０と、電極移動装置４０とからなり、パイプ１を検査液中で磁化し、溶接欠陥部に磁粉模様を形成させるもの。 - 特許庁 - A mask pattern for exposing partly a metallic silicide layer is formed, and the exposed part of the metallic silicide layer is etched in an isotropic way with a first etching solution to form a metallic silicide layer having a shallow groove.
金属シリサイド層の一部が露出するマスクパターンを形成し、第１蝕刻液を使用して金属シリサイド層の露出した部位を等方性蝕刻して浅い溝が形成された金属シリサイド層を形成する。 - 特許庁 - To an editing tool, a brush tool, for example, various attributes such as color, thickness, pattern, form and type can be set and on the basis of these set attributes, processing is executed to the editing target object.
編集ツールとして、例えばブラシツールには、色、太さ、模様、形状、タイプ等、様々な属性が設定可能であり、これら設定された属性に基づいて編集対象オブジェクトに対して処理が実行される。 - 特許庁 - In this manufacturing method for a non-contact communication medium consisting of an antenna and an IC chip, the pattern of the antenna is preliminarily formed on a supporting base 1 and subsequently transferred onto a base 6 for the non-contact communication medium to form the antenna.
アンテナと、ＩＣチップからなる非接触通信媒体の製造方法において、支持基材１にアンテナのパターンをあらかじめ形成した後、非接触通信媒体用基材６に転写して、アンテナを形成する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing an optical substrate, a light transmitting member 10 is processed in such a manner that the easiness for deposition of the material to form a film pattern 30 differs between projections 12 and recesses 14 of the member 10.
光学基板の製造方法では、光透過性部材１０の凸部１２と凹部１４において、膜パターン３０を形成するための材料の堆積されやすさが異なるように、光透過性部材１０を加工する。 - 特許庁 - Due to a known quantum-mechanical effect, the light in the 1-photon state interferes as a pattern of a cycle 1/2 times that of incidence to form an image, thereby materializing the definition double an image formation limit in the prior art.
そして、周知の量子力学的効果のため、１光子状態の光子が入射したときの１／２倍の周期のパターンとして干渉、結像され、従来の結像限界の２倍の精細さが実現できる。 - 特許庁 - To form a contact hole (9) in a silicon oxide film (8), exposure is carried out in a photoresist process by using a photomask having a pattern conforming with the contact hole (9) nearly in a square shape after a photoresist film is formed by coating.
酸化シリコン膜（８）にコンタクトホール（９）を形成する為にホトレジスト工程において、ホトレジスト膜を塗布した後、概略正方形のコンタクトホール（９）形状に合致したパターンを有するホトマスクを用いて露光する。 - 特許庁 - It is desirable to form the R, G and B filter elements 9 in the inner area of areas 6 arranged in a dot matrix state formed by a bank 4 formed to be a grid pattern by the discharge of the droplets.
Ｒ，Ｇ，Ｂのフィルタ要素９は、格子状パターンに形成されたバンク４によって形成されるドットマトリクス状に並んだ領域６の内部領域に液滴吐出によって形成するのが好ましい。 - 特許庁 - To provide a copper-clad laminate board in which a copper-plating film is formed without entirely using a heat resistant adhesive or the like, a fault does not frequently occur in a postprocessing step and which can form a fine wiring pattern.
耐熱性接着剤等を全く使用することなく銅メッキ膜が形成されており、微細な配線パタ−ンが可能で後加工工程で不具合が発生することの少ない銅張り積層基板を提供する。 - 特許庁 - After the regular patterns are formed, the entry position is moved and is subjected to reciprocative movement, in a direction of orthogonally crossing the first direction, at such a speed that will not form a pattern on a surface of the substrate to position it into a light irradiating position.
また、規則的なパターンが形成された後は、入射位置を、基板表面にパターンが形成されない速度で第１方向と直交する方向へ往復移動させながら、照射位置へ位置決めする。 - 特許庁 - In a decorative tile member 10, a part of the surface side 10b is provided with a decorative surface 10h with decorative recessed parts 10c and protruding parts 10d alternately provided at fixed spaces to form a pattern.
化粧タイル部材１０には、表面側１０ｂの一部に、装飾用の凹部１０ｃ…及び凸部１０ｄ…が、交互に一定間隔で設けられて模様が構成される装飾面１０ｈが設けられている。 - 特許庁 - To provide a curable composition which cures with high sensitivity upon exposure and can form a proper pattern with high adhesion to a material surface in a cured area and superior removability of an uncured portion in an uncured region.
露光により高感度で硬化し、硬化領域では材料表面との密着性が高く、未硬化領域では未硬化部の除去性に優れた良好なパターンを形成しうる硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - To form a new and attractive coating film exhibiting a gradation pattern or the like on the surface of a material to be coated such as a wheel cover, for which high design quality is required.
ホイールカバーやホイールキャップ等のように高い意匠性が要求される被塗物の表面に、生産性の良い一連の塗装工程によってグラデーション模様等を呈する斬新で見栄えの良い塗膜を形成する。 - 特許庁 - Therefore, the stage for partially removing a part of the insulating film 26 to form an opening part is not needed compared with the case not to dispose the connection intermediate pattern 25d and the manufacturing stage can be reduced.
したがって、接続中間パターン２５ｄを配設しない場合とは異なり、絶縁膜２６の一部を部分的に除去して開口部分を形成する工程が不要となるので、製造工程を削減することができる。 - 特許庁 - A coating film 110 of a photosensitive material, comprising a mixture of a photosetting material and a photolytic material, is exposed and developed to form a pattern including a thick film part 110r and a thin film part 110t.
光硬化材料および光分解材料が混合された感光材料の被膜１１０を、露光および現像することにより、厚膜部１１０ｒおよび薄膜部１１０ｔを有するパターンを形成する。 - 特許庁 - In the sub integrated board, the display form of the holding data is decided on the basis of the big winning decided result (S305) and a command is outputted to a pattern display board so as to perform display accordingly (S307 and S309).
サブ統合基板では、大当たり判定結果に基づいて、保留データの表示態様を決定し（Ｓ３０５）、それに基づいて表示を行うように図柄表示基板にコマンドを出力している（Ｓ３０７，Ｓ３０９）。 - 特許庁 - A shell is joined to the end thereof with a conical member and the conical member is preferably joined to the shell at a certain distance along the length of the shell to form a shell expansion portion for improving a flow pattern in a tube end region.
シェルは円錐形部材により端部に接合され、円錐形部材は、好ましくはシェルの長さに沿ったある距離でシェルに接合し、チューブ端部領域の流れパターンを改善するシェル拡張部を提供する。 - 特許庁 - To provide an illumination method generating a proximity field light capable of reaching a deep point of resist to form a deep resist pattern, and to provide a proximity field exposure method and a proximity field exposure device.
近接場光がレジストに対して深くまで到達し、深いレジストパターンを形成することが可能となる近接場光を発生させる照明方法、近接場露光方法、および近接場露光装置を提供する。 - 特許庁 - For example, the film is formed form a plurality of almost transparent films, the heat resistance of the upper film is made higher than that of the lower film, and the watermark pattern is applied to the rear surface of the upper film.
前記フィルムは、例えば複数枚の略透明なフィルムで形成され、上層側のフィルムの耐熱性が下層側のフィルムより高く設定されると共に、上層側のフィルムの裏面に透かし柄が付与される。 - 特許庁 - This method is to form a plural kinds of organic EL layers of different materials (preferably emitting red, green and blue lights) by coating selectively into a stripe-shaped pattern on a substrate of the organic EL element.
本発明は、有機ＥＬ素子の基板４１上に、材料の異なる（好ましくは赤、緑および青を発光する）複数種の有機ＥＬ膜をストライプ状のパターンに塗り分けて形成する方法に関する。 - 特許庁 - Especially, many irregularities (machining pattern) 7 are so formed in the shape of them intersecting vertically on the surface of the fluororesin board 3 by a shaper machining as to form the irregularities nearly uniformly on the whole of the surface of the board.
特に、フッ素樹脂基板３の表面は、シェーパ加工によって多数の凹凸（加工パターン）７が垂直に交差する形状に形成され、基板表面全体にほぼ均一に凹凸が形成されている。 - 特許庁 - To provide a method for sewing a flat tape, by which both the ends of three-dimensional expanded portions formed between continuously formed entangle portions are round to form a soft pattern, in a process for sewing the flat tape on a fabric.
布に対する平テープの縫付け過程において、次々と形成される各絡み部相互間に夫々形成される立体的な膨ら部の両端は丸みを帯びて柔らかな模様を醸し出すようにする。 - 特許庁 - In a manufacturing method of the stamper for the nano imprint, the stamper for the nano imprint is manufactured after the process where a catalyst layer made of a metal is formed on a substrate and the process where the catalyst layer is etched to form an uneven pattern are carried out.
ナノインプリント用スタンパの製造方法では，基板上への金属から成る触媒層の形成工程，及び触媒層をエッチングして凹凸パターンを形成する工程を経て，ナノインプリント用スタンパが製造される。 - 特許庁 - To form a resist pattern with high accuracy even on an underlayer film including a basic substance by controlling an oxygen deficiency/activity phenomenon at the interface between the underlayer film including a basic substance and a chemically amplified resist formed thereon.
塩基性物質を含む下地膜とその上に形成される化学増幅型レジストとの界面における酸失活現象を抑制し、塩基性物質を含む下地膜上でも精度の高いレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a magnetic recording medium which can form appropriate rough with good reproducibility at a low cost on a flattened layer surface of the magnetic layer pattern and can stabilize the low floating head or contact head running on it.
磁性層パターン上の平坦化層表面に適切な凹凸を安価に再現性よく形成することができ、低浮上型ヘッドまたは接触型ヘッドの安定走行を可能にする磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁 - To provide a coloring curable composition from which a colored pattern with high definition having a rectangular or normally tapered cross-sectional form and excellent adhesiveness to a solid surface can be formed by exposure and development.
露光及び現像により、高精細で、且つ、矩形又は順テーパーの断面形状を有し、更に、固体表面に対する密着性に優れた着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁 - A thermal head transfers and forms the OVD so that the OVD constitutes a dot pattern in which the form of the dots itself has a specific meaning by using the OVD transfer foil on which the OVD is formed.
ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔を用いてサーマルヘッドにて、ＯＶＤが網点形状に、且つ該網点形状の形状自体がある意味を持つ特定な形状を成すように、転写形成すること。 - 特許庁 - In the method for forming a contamination prevention layer, coating is applied onto the surface of the plate material 1 having the projection/recessed part pattern 2 to form a coating film 5 and the coating film is coated with a contamination prevention agent containing a silica fine particle, alcohol, water and a surfactant.
凹凸模様２を有する板材１の表面に塗装を施し塗膜５を形成し、その上にシリカ微粒子と、アルコールと、水と、界面活性剤とを含有する防汚処理剤を塗布する。 - 特許庁 - To provide a silver microparticle-containing composition which has a uniform grain size, which can form a fine graphic pattern and which has light environmental load, a process for producing the silver microparticle, and a paste containing the silver microparticle.
粒度が均一で微細な描画パターンを形成でき、環境負荷が小さい微小銀粒子含有組成物、その製造方法、微小銀粒子の製造方法および微小銀粒子を有するペーストを提供すること。 - 特許庁 - A main channel 14 in the peripheral direction is provided at the center of a tread 12, and a plurality of inclined channels 16 extending up to a tread end 12A from the main channel 14 in the peripheral direction are provided to form a directional pattern having excellent water drain property.
トレッド１２の中央に周方向主溝１４を設け、この周方向主溝１４からトレッド端１２Ａに延びる傾斜溝１６を複数設けて排水性に優れた方向性パターンとする。 - 特許庁 - To provide a method for molding a cement product which can form a deep, sharp uneven pattern on the surface of a cement extruded molding at low costs and is applicable to the molding of various products.
セメント質押出し成形体の表面に深くシャープな凹凸模様を低コストで形成でき、しかも各種の製品の成形に適用することができるセメント製品の成形方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A wafer level laminate structure is cut to form a chip level laminate structure 400a, the first via pattern and electrode terminals are affixed to a substrate 300b having electrode terminals so as to be mutually connected.
ウェハレベル積層構造物を切断してチップレベル積層構造物４００ａを形成し、電極端子を具備した基板上３００ｂに、第１ビアパターンと電極端子とが相互連結されるように付着する。 - 特許庁 - A recording head 32 performs delivering the ink droplets to aim the recovery of the delivering performance of the nozzle to a conveying belt 28 based on resist pattern data, to form resist patterns 1Y, 1M, 1C and 1K on the conveying belt 28.
記録ヘッド３２は、ノズルの吐出性能の回復を目的としたインク滴の吐出を、レジストパターンデータに基づいて搬送ベルト２８へ行い、搬送ベルト２８上にレジストパターン１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋを形成する。 - 特許庁 - In this case, the relation between characteristics when both the stages are positioned are previously known according to whether the stage used to form the previous pattern is the same as or different from the stage which is actually used.
この場合、先のパターンを形成する際に使用したステージと実際に使用するステージとが同一であるか異なるかに応じて、両ステージの位置合わせの際の特性の関係を予め知ることが出来る。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a pattern-containing rubber sheet, wherein colored vulcanized rubber particles are embedded in a rubber sheet, improved so as not to form voids to the peripheries of the colored vulcanized rubber particles.
ゴムシートに着色加硫ゴム粒子が埋め込まれた模様入りゴムシートの製造方法であって、着色加硫ゴム粒子の周辺にボイドが形成されない様に改良された模様入りゴムシートの製造方法を提供する。 - 特許庁 - When the diffraction grating is formed on the side face of a ridge in a ridge-shaped waveguide, a mask pattern is formed while irregularities formed on the surface of a crystal layer are used, and its side face is side-etched so as to form a mask.
また、リッジ型導波路においてそのリッジ側面に回折格子を形成する際に、結晶層の表面に形成した凹凸を利用してマスクパターンをつくり、その側面をサイドエッチングしてマスクを形成する。 - 特許庁 - To provide a transfer sheet which can easily form an ornamental design consisting of a variegated pattern on the surface of a transferred material without fail, and to provide a method of manufacturing a transfer sheet and a decorative molded article.
被転写材の表面に多彩な模様から成る装飾模様を失敗せず容易に形成できる転写シート、転写シートの製造方法および転写シートが用いられた加飾成形品を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a smooth laminate constituted so as to make it possible to form a resistor having a required resistance value to the inside of an etched wiring pattern, and a method for manufacturing a component using it.
所要の抵抗値を有する抵抗器を、エッチング形成された配線パターン内部に形成可能とする平滑積層体の製造方法、および平滑積層体を用いた部品の製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a display device, and a method for manufacturing a TFT array substrate capable of repairing a defective pixel without having to form a wiring pattern for repair beforehand or keep the pixel always turned off.
修復用の配線パターンを予め形成することも、画素を常時非点灯化することもなく、欠陥画素を修復可能な表示装置の製造方法およびＴＦＴ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - On an insulation substrate 1, having a formed gate electrode 2, a gate insulation film 3, an intrinsic semiconductor layer 4, and a low- resistance semiconductor layer 5 are formed successively, to form thereafter a channel-protecting pattern 6 in a channel portion.
ゲート電極２を形成した絶縁性基板１上に、順次ゲート絶縁膜３、真性半導体層４、及び低抵抗半導体層５を形成した後、チャンネル部分にチャンネル保護パターン６を形成する。 - 特許庁 - This resist film 11 is selectively irradiated with extreme-ultraviolet radiation 12 having a wavelength of 1 to 30 nm band to carry out patternwise exposure and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 14.
レジスト膜１１に対して、１ｎｍ帯〜３０ｎｍ帯の波長を持つ極紫外線１２を選択的に照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁
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