「form pattern」を含む例文一覧(4548)

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  • This manufacturing method comprises a process to deposit a thin film 12 on the surface of a base material 11, a process to form an exposing position reference mark 21 having the particular shape on the thin film, a process to form a resist layer 13 on the thin film and exposing position reference mark and a process to execute pattern exposure of the resist layer using an electron beam drawing apparatus.
    基体11の表面に薄膜12を堆積する工程と、薄膜上に特定の形状を有する露光位置参照マーク21を形成する工程と、薄膜及び露光位置参照マーク上にレジスト層13を形成する工程と、レジスト層を電子ビーム描画装置を用いてパターン露光を行う工程とを有する。 - 特許庁
  • To provide an image processing program, an image processing method, a printer, and a printing instruction device capable of superimposing a form image on document data so that the hidden pattern of the form image being a copy deterrent image becomes inconspicuous when printed, and appears easily when copied, even if the document data comprise objects such as figures, photographs, etc.
    文書データが図形，写真等のオブジェクトを含む場合でも、複写牽制画像であるフォーム画像の隠しパターンを、プリント時に目立たなくし、コピー時に浮き上がりやすいように、文書データにフォーム画像を重畳することができる画像処理プログラム、画像処理方法、印刷装置および印刷指示装置を提供する。 - 特許庁
  • When the light from the scenery exists in the first range of the exposure level, the portion of the high density is so directed as to form the pattern of the image element of the high density on the photosensitive member and when the light from the scenery exists in the second range of the exposure level, the remaining portions are so directed as to form the remaining images.
    風景からの光が露光レベルの第１の範囲にある場合には、高濃度の部分が、感光部材上の高濃度のイメージ要素のパターンを形成するように指向させられ、また、風景からの光が露光レベルの第２の範囲にある場合には、残りの部分が残りのイメージを形成するように指向させられる。 - 特許庁
  • InGaAs is selectively etched by wet etching using phosphoric acid and hydrogen peroxide in aqueous solution to pattern an n-InGaAs layer 102 to form a source contact layer (a first semiconductor layer) 112, and a side part of a channel layer 114 is etched to form a channel layer 114a whose width is narrowed.
    リン酸および過酸化水素水を用いたウェットエッチングにより選択的にＩｎＧａＡｓをエッチングすることで、ｎ−ＩｎＧａＡｓ層１０２をパターニングしてソースコンタクト層（第１半導体層）１１２を形成するとともに、チャネル層１１４の側部をエッチングして幅が狭くされたチャネル層１１４ａを形成する。 - 特許庁
  • Sec.112 Definition of Terms: 112.1.An industrial design is any composition of lines or colors or any three-dimensional form, whether or not associated with lines or colors; Provided, that such composition or form gives a special appearance to and can serve as pattern for an industrial product or handicraft.
    第112条 用語の定義 1.意匠は，線若しくは色と関係付けられるか否かを問わず，線若しくは色からなる構図又は三次元の形状である。ただし，それら構図又は形状は，工業上の物品又は手工芸品に特別の外観を与え，それらのための模様として機能することができるものでなければならない。 - 特許庁
  • To provide a coating liquid for the color change of an article, capable of forming a clear form because the form formed on the color change of an article does not cause bleeding, satisfying the formability of a fine character and an accurate pattern, and exhibiting sufficient practicability, to provide a coating tool for the color change of an article, storing the coating liquid, and to provide a coating tool set.
    変色体に形成される像が滲みを生じ難いため、明瞭な像を形成できると共に、微細な文字や緻密な図柄の形成性を満足させることのできる実用性に富む変色体用塗布液及びそれを収容した変色体用塗布具、塗布具セットを提供する。 - 特許庁
  • During the reduced time game, since the period of one variation of a second pattern is 5 seconds and the blades 333 frequently form an opened condition, and form the opened condition for four seconds to one winning, more game balls enter the lower start winning opening 332 than during a normal game.
    時短遊技中には、１回の第２図柄の変動時間が５秒であって羽根３３３が開状態を頻繁に形成し、又、１回の当選に対して４秒間にわたって開状態を形成するため、通常遊技中より下側の始動入賞口３３２へ遊技球が多量に入球する。 - 特許庁
  • To provide a developing roller which can form a fine rugged pattern with excellent uniform toner holding characteristics on the surface of a resin coating layer without dispersing fine particles in the resin coating layer or blasting treatment of the layer, prevents the unreacted resin content from remaining, and further reliably prevents contamination of a photoreceptor and can form a favorable image.
    樹脂被覆層への微粒子の分散やブラスト処理を行うことなく、トナーの均一保持性に優れた微細凹凸を樹脂被覆層表面に形成することができ、しかも、未反応樹脂分の残留を無くし、感光体の汚染を確実に防止して良好な画像を形成することができる現像ローラを提供する。 - 特許庁
  • For example, on viewing the substrate from top, the structure of the contact layer CNT1b and CNT2a is regarded as staggered pattern of contact hole forming the CNT1b, CNT2a allocation, and as wall-like form (continuous form toward Y axis) of the CNT1b, CNT2a.
    このようなコンタクト層ＣＮＴ１ｂ，ＣＮＴ２ａの構造は、例えば、半導体基板を上面から見て、ＣＮＴ１ｂ，ＣＮＴ２ａを形成する各コンタクトホールが千鳥配置となったものや、ＣＮＴ１ｂ，ＣＮＴ２ａのそれぞれを壁状の形状（Ｙ軸方向に連続する形状）にしたものなどが挙げられる。 - 特許庁
  • An industrial design is any composition of lines or colors or any three-dimensional form, whether or not associated with lines or colors: Provided that, such composition or form should give a special appearance to and can serve as pattern for an industrial product or handicraft that is new or original.
    意匠は，線又は色彩からなる構成物，又は色彩と結合しているか否かを問わず，立体の形である。ただし，当該構成物又は形は，製造品又は手工芸品に特別の外観を与え，これらのための模様として機能することができるものでなければならず，新規性又は独創性がなければならない。 - 特許庁
  • In the method for forming the pattern, a photoresist layer 12 that allows heat-mode deformation is irradiated with condensed light to form a plurality of concave portions 15, wherein the photoresist layer is irradiated with light to form the concave portion 15 while air which is an inactive gas to the photoresist layer 12 is blown and moved on the photoresist layer 12.
    ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層１２に、集光した光を照射することで複数の凹部１５を形成するパターン形成方法であって、フォトレジスト層１２に対して不活性な気体である空気を吹き付けて、フォトレジスト層１２上で移動させながら光を照射して凹部１５を形成する。 - 特許庁
  • This method includes the processes to form a fluid melt by heating a resin material; discharge the melt into a first nip 18 as a contact part between an embossing roll 20 and a back roll 22; press the melt to the embossing roll 20 and the back roll 22; and form a self-supporting film with an embossed pattern on the surface.
    本発明の方法は、樹脂材料を加熱して流動性メルトを形成し、エンボスロール２０と背面ロール２２との間の接触部である第一のニップ１８にメルトを放出し、エンボスロール及び背面ロールにメルトをプレスし、表面にエンボスパターンを有する自立フィルムを形成することを含む。 - 特許庁
  • This manufacturing method of the organic EL element at least has a process to form a barrier rib pattern on a transparent substrate, and a process to form a layer by transferring hole transport ink to an region surrounded by the barrier rib by a letterpress printing method, and the surface tension of the hole transport ink is 40 mN/m or less.
    透明基板上に隔壁パターンを形成する工程と、上記隔壁で囲まれた領域に凸版印刷法により正孔輸送インキを転写して層を形成する工程とを少なくとも有し、該正孔輸送インキの表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下である有機ＥＬ素子の製造方法。 - 特許庁
  • An FRP waterproof layer 50 successively laminating a primer 12, a first FRP resin 14, a glass mat 16 and a second FRP resin 18 is formed on a substrate layer 10, and an adhesive tape 20 is stucked in the form of a lattice in order to form a tile style pattern on a foundation waterproof face 100 which is the upper face.
    下地層１０上に、プライマ１２、第１のＦＲＰ樹脂１４、ガラスマット１６、第２のＦＲＰ樹脂１８を順に積層してなるＦＲＰ防水層５０を形成し、その上面である基礎防水面１００上にタイル風の模様を形成すべく粘着テープ２０を格子状に貼り付ける。 - 特許庁
  • The craftsmen in Kyoto devoted themselves to processing ganpishi such as the techniques of paper splicing including suminagashi, uchigumo (paper with a flying cloud), tobikumo (a flying cloud-like pattern appearing on indigo-blue and purple fiber-included paper), kiri-tsugi (cutting and splicing), yaburi-tsugi (cutting two kinds of paper with their ends in a swung dash form and splicing them) and kasane-tsugi (cutting five gradated kinds of paper with their ends in a swung dash form and splicing them), and 'karakami' with patterns that imitated Chinese mon-toshi (colored karakami with patterns), and completed sophisticated processing techniques particular to Japanese paper.
    墨流し、打ち雲、飛雲や切り継ぎ、破り継ぎ、重ね継ぎなどの継ぎ紙の技巧そして、中国渡来の紋唐紙を模した紋様を施した「から紙」など、京の工人たちは雁皮紙（がんぴし）の加工に情熱を注ぎ、和紙独特の洗練された加工技術を完成させた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The inorganic anti-reflection film 105 is selectively etched with a resist pattern 106 as a mask to form a patterned inorganic anti-reflection film 105, and then the organic low dielectric constant film 104 is selectively etched with the patterned inorganic anti-reflection film as a mask to form a patterned organic low dielectric constant film.
    無機反射防止膜１０５に対してレジストパターン１０６をマスクに選択的エッチングを行なって、パターン化された無機反射防止膜を形成した後、有機低誘電率膜１０４に対してパターン化された無機反射防止膜をマスクに選択的エッチングを行なってパターン化された有機低誘電率膜を形成する。 - 特許庁
  • The production process comprises a step to form a first area comprising an inorganic material on a substrate precursor so as to form the substrate, wherein at least a part of the inorganic material is exposed on the surface of the substrate, and the first area makes a pattern on the substrate precursor.
    当該製造方法は、基板を形成するため無機材料からなる第一の領域を基板前駆物質上に形成する工程を有し、前記無機材料は少なくともその一部が基板表面上で露出し、前記第一の領域は前記基板前駆物質上でパターンを形成していることを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a lamination apparatus which can form a sharp temperature gradient in the thickness direction of a laminate and a method for laminating thermoplastic printed boards which does not cause the dimensional change of the boards and the deformation of a wiring pattern when the boards are laminated.
    積層体の厚さ方向に急激な温度勾配を与え得る積層装置、および熱可塑性プリント基板の積層に際して寸法変化や配線パターンの変形を招かない積層方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a positive type photosensitive resin composition with high sensitivity and high resolution wherein films are hardly decreased, a pattern form is not broken, and scums of the photosensitive resin composition in an exposed area do not remain.
    膜減りが少なく、パターン形状の崩れがなく、更に露光部の感光性樹脂組成物の残り（スカム）がない特性を有する高感度で、かつ高解像度であるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To easily form a decorative pattern for changing grain even in a product shape having a three-dimensional shape, for example, of an exterior material or the like of an industrial product, in a wood processing method and a processed product.
    木材の加工方法および加工品において、例えば工業製品の外装材などの３次元形状を有する製品形状であっても、木目を変化させる装飾模様が容易に形成できるようにする。 - 特許庁
  • To form a magnetic track pattern without damaging a layer exposed to the surface by easily and reliably removing a resist using an easily-rereasable layer provided directly under the resist.
    レジストの直下に剥離しやすい層を新たに設けることで、レジストを簡単かつ確実に除去することができるため、表面に露出する層にダメージを与えずに磁気トラックパターンを形成することを目的とする。 - 特許庁
  • This pattern forming method has the first process for coating a substrate P having a lyophilic part Pa with liquid droplets containing a liquid repelling material to form the liquid repelling part H and the second process for coating the lyophilic part Pa with the functional liquid.
    親液部Ｐａを有する基板Ｐに対して、撥液材料を含む液滴を塗布して撥液部Ｈを形成する第１工程と、親液部Ｐａに機能液を塗布する第２工程とを有する。 - 特許庁
  • The hard magnet layer is patterned to form a first pattern 43A covering the MR elements 42C, 42D and second and third patterns 43B, 43C holding the MR elements 42A, 42B therebetween in the in-plane direction.
    ハードマグネット層をパターニングし、ＭＲ素子４２Ｃ，４２Ｄを覆う第１のパターン４３Ａと、面内方向においてＭＲ素子４２Ａ，４２Ｂを挟むように第２および第３のパターン４３Ｂ，４３Ｃとを形成する。 - 特許庁
  • The X-ray diffraction pattern of a residual part after the hydrate phase of the hydrate product is dipped into a 5-10 vol% sulfuric acid aqueous solution and absolutely dried has a halo form having a peak in 24±1° (expressed by Cukα2θ).
    水和生成物の水和相を5乃至10容量％の硫酸水溶液中にて浸漬した後の絶乾処理した残査部分のX線回折パターンが、24°±１°（Cukα2θ表示）にピークを持つハロー図形を示す。 - 特許庁
  • In this mother-of-pearl processed member for clothings a flexible mother-of-pearl protection layer 3 is stuck to and overlapped with at least the surface 2a of a planar mother-of-pearl member 2 made in a form such as a fixed pattern, etc.
    衣類用螺鈿加工部材が所定の図柄等の形状に形成された面状の螺鈿部材２の少なくとも表面２ａに可撓性を有した螺鈿保護層３を密着重合したことを特徴とする。 - 特許庁
  • Pieces of display information in respective waveform sections generated within one display update period are superposed, and the display pattern having a display form corresponding to multi-valued information obtained by this superposition is displayed.
    そして、表示更新周期の１周期内で作成された各波形区間毎の表示情報を重ね合わせて、該重ね合わせた多値の情報に応じた表示形態の表示パターンを表示器に表示する。 - 特許庁
  • A mask pattern is formed having a pair of slits corresponding to the side faces, and after wet etching is performed to form the side faces formed of the (111) faces, a part other than the plate-like structure is eliminated by dry etching.
    側面に対応して一対のスリットを有するマスクパターンを形成し、ウエットエッチングを行って（１１１）面からなる側面を形成した後、板状構造体以外の部分をドライエッチングにより除去する。 - 特許庁
  • A spray pattern of the spray gun 126 is set so that the short axis is along the conveying direction of the chaff mat 12 and the long axis is an ellipse form covering the whole range in the width direction of the chaff mat perpendicular to the conveying direction.
    スプレーガン１２６のスプレーパターンは、短軸が籾殻マット１２の搬送方向に沿い長軸が搬送方向と直交する籾殻マット１２の幅方向全域に跨る楕円形に設定されている。 - 特許庁
  • The structure 4 is constituted with an inorganic material as a core, and at least a part of its surface layer part is constituted by a resin, to form the electrode wiring pattern 5, and the structure 4 is bonded to the functional element 1.
    また、この構造体４が無機材料をコアとして構成され、その表層部の少なくとも一部が樹脂で構成され、電極配線パターン５が形成されているとともに、機能素子１と接着されている。 - 特許庁
  • Then, a liquid material containing a resin material is arranged around the wiring pattern 32 and the conduction post 34 with a space left between, and then dried to form an uncured or half-cured resin film 54B.
    次に、樹脂材料を含む液体材料を配線パターン３２と前記導通ポスト３４の周囲に隙間を空けて配置し、乾燥処理によって、未硬化状態若しくは半硬化状態の樹脂膜５４Ｂを形成する。 - 特許庁
  • A photo detector array 212 is constituted so as to receive light modulated by reflection from a grid pattern 102 on the optical medium 234 (504) and form an output signal corresponding to the modulated light.
    光検出器アレイ２１２が、光学媒体２３４上の格子パターン１０２からの反射によって変調された光を受光し（５０４）、変調された光に対応する出力信号を生成するように構成される。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device and a method for manufacturing the device in which a wiring pattern including fine line patterns in a line-and-space form and pad patterns is formed at a low cost with high accuracy, and to provide a photomask used for the manufacture.
    微細なラインアンドスペース状の線パターンと、パッドパターンとを有する配線パターンが低コストで精度良く形成された半導体装置およびその製造方法、ならびにその製造に用いるフォトマスクを提供する。 - 特許庁
  • The method can be applied to various methods, and, e.g., it is also possible that the composition is applied to a substrate, so as to be exposed to form metal particulate, and further, development is performed, thus a metal particulate-containing pattern is formed.
    このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち、さらに、現像し、金属微粒子を含むパターンを形成することもできる。 - 特許庁
  • In the vacuum chuck 3, there formed is a sucking pattern 21 opened to the surface of the chuck 3 which comprises a plurality of annular grooves 22 provided in the form of concentric circles and radially extended communication grooves 23 for communicating with the annular grooves 22.
    真空チャック３には、同心円状に配置された多数の環状溝２２およびこれらを連通する放射状にのびる連通溝２３からなる表面に開口した吸着パターン２１が形成されている。 - 特許庁
  • To reduce resist development defects in development of a positive chemically amplifying photoresist film on a large diameter substrate of ≥8 in and to form a resist pattern of a good shape free from T-top shape or the like.
    ８インチ以上の大口径基板におけるポジ型の化学増幅型フォトレジスト膜現像時のレジスト現像欠陥を低減するとともに、Ｔ−トップ形状などのない良好な形状のレジストパターンを形成する。 - 特許庁
  • To obtain an ink composition that can directly form a printed pattern on a glass substrate to give, after baking, a printed area being submissible to selective electroless metal plating and not separated upon plating.
    ガラス基板に直接印刷パターンを形成することができるとともに、焼成後に印刷部への選択的な無電解金属メッキが可能で、メッキ工程により脱落することのないインキ組成物を提供する。 - 特許庁
  • Prior to formation of the pattern 80, the method includes a step to form the marking partition walls B1 corresponding to the alignment mark AM and a step to place the liquid material containing the alignment mark forming material between the marking partition walls B1.
    パターン８０の形成前に、アライメントマークＡＭに対応したマーク用隔壁Ｂ１を形成する工程と、マーク用隔壁Ｂ１の間にアライメントマーク形成材料を含む液体材料を配置する工程とを有する。 - 特許庁
  • A disperse dye that evaporates at a predetermined temperature or higher is adhered to the surface of an optical element 21 with a diffraction grating pattern 21b by electrostatic coating, so as to form a powder protection layer 12.
    回折格子パターン２１ｂが形成された光学素子２１の表面に、所定温度以上で昇華する材料である分散染料を静電塗装によって付着させて粉体保護層１２を形成した。 - 特許庁
  • A printing layer 3 is formed on the surface of a sheet base material 2 to form a large pattern, and a mat film 5 of biaxially oriented polyethylene terephthalate is laminated on the printing layer 3 through a transparent resin adhesive layer 4.
    シート基材２の表面に印刷層３を設けて木目柄を形成し、印刷層３の上側に透明樹脂接着剤層４を介して二軸延伸ポリエチレンテレフタレートからなる艶消フィルム５を貼設する。 - 特許庁
  • An electrically conductive coating 6 is applied on an outer surface of a dielectric pipe 1 that is a pipe shaped dielectric body via a masking pipe 4 with slits having a prescribed pitch to form a helical radiation element pattern.
    パイプ状の誘電体である誘電体パイプ１の外表面に、予め所定のピッチを持つスリットを有するマスキング型パイプ４を介して、導電性塗料６を塗布し、ヘリカル放射素子パターンを形成する。 - 特許庁
  • The floodlight means is consists of plural light emitting diodes and they are arranged so as to form a fan-shaped floodlight pattern in parallel with the detection plane as if the light is flooded from one virtual dot light source.
    投光手段は、複数の発光ダイオードからなり、これらが、仮想的な１つの点光源から投光されたかのような前記検出平面と平行な扇状の投光パターンを形成するように配置される。 - 特許庁
  • Firstly, K printing (pattern printing with black toner) 51 is continuously transferred to a belt by fifteen with printing of a dot line corresponding to a progression "000100110101111" of an M sequence of 15-bit length as basic form.
    １５ビット長のＭ系列の数列「０００１００１１０１０１１１１」に対応するドットラインの印字を基本形として先ずＫ印字（黒トナーによるパターン印字）５１を１５個連続してベルトに転写する。 - 特許庁
  • To provide a multilayer printed circuit substrate which can form a highly fine pattern, which can be formed in a simple step and which does not have a problem of a waste liquid treatment.
    本発明は、高精細なパターンを形成することが可能であり、かつ簡便な工程で形成ができ、さらに廃液処理といった問題のない多層配線基板を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁
  • In an operation form of pattern b, a download control metafile is acquired according to a user's download operation, content is immediately downloaded according to the file, and after completion of download of the content, a license is requested.
    パターンｂの運用形態では、ユーザのダウンロード操作に応じてダウンロード制御メタファイルが取得され、当該ファイルに従いコンテンツが即時ダウンロードされ、コンテンツのダウンロードが完了した後にライセンスが要求される。 - 特許庁
  • Resist 31 is applied onto a surface of a flat substrate 20 of which the main component is carbon, exposure and development of the resist 31 are performed to form a resist pattern R, and thus a die 40 for a transfer master disk substrate 11 is manufactured.
    カーボンを主成分とする平坦基板２０の表面にレジスト３１を塗布し、レジスト３１の露光及び現像を実施してレジストパターンＲを形成し、転写用原盤基板１１の型４０を製造する。 - 特許庁
  • The back frame body 12b is directly fixed to the back surface of the game board through a screw insertion hole 64a and a fixing screw in the form of having a fixing projection 67 to mount the pattern display device on the back surface.
    後枠体１２ｂは、その背面に図柄表示装置を装着すべき固定用突起６７を有する形でネジ挿入孔６４ａ及び固定ネジを介して遊技盤の背面に直接に固定される。 - 特許庁
  • To provide a film-forming material which at a low temperature can form a film having high etching resistance and attaining a high etching selectivity ratio in organic-film etching; and a method of forming a pattern with the film-forming material.
    低温で、高い耐エッチング性を有し、かつ有機膜に対して高いエッチング選択比を有する膜を形成可能な膜形成用材料、および該膜形成用材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an optical waveguide structure including an optical waveguide having a wide flexibility in pattern shape design, which can form a core part (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and superior in durability.
    パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁
  • One computer-implemented method includes identifying nuisance defects on a wafer based on inspection data produced by inspection of a reticle, which is used to form a pattern on the wafer prior to inspection of the wafer.
    コンピュータで実施される方法の１つに、ウェハの検査の前にウェハ上でパターンを形成するのに使用されるレチクルの検査によって作られた検査データに基づいてウェハ上のニューサンス欠陥を識別することを含む。 - 特許庁
  • To provide a gravure printing cylinder that can print an etching resist which can form a wiring pattern composed of a circuit line having an edge, having less unevenness by etching on a base material sheet.
    本発明は、本発明は、凹凸の少ない端縁を有する回路線からなる配線パターンをエッチングにより形成することができるエッチングレジストを基材シートに印刷することができるグラビア版胴を提供する。 - 特許庁
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