「form pattern」を含む例文一覧(4548)
＜前へ 1 2 .... 59 60 61 62 63 64 65 66 67 .... 90 91 次へ＞- A large number of linear projecting parts 3b are mutually arranged in parallel (in a striped pattern shape) in the lengthwise direction of the horizontal beams 3 over the whole surface of an upper surface 3a of these horizontal beams 3 to form a recess-projection part 4.
そして、この横梁３の上面３ａの全面に、多数の線状の凸部３ｂを横梁３の長手方向に沿って相互に平行に（縞模様状に）設けて凹凸部４とした。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a printing plate by which changes in an etching critical dimension (CD) is minimized to form a fine pattern by flattening the plate with an organic film and then etching into a desired width.
有機膜を用いて平坦化した後に望む幅でエッチングすることによって、エッチングＣＤの変化を最小化し微細パターンを形成することができる印刷板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - When a repeat game high-probability state (RT game) starts, a pattern finish form (RT finish appearance item) to finish the RT game is determined.
再遊技高確率状態（ＲＴ遊技）の開始時に、ＲＴ遊技を終了させる図柄停止態様（ＲＴ終了出目）を決定し、ＲＴ終了出目が表示された場合にＲＴ遊技を終了させる。 - 特許庁 - To provide a radiosensitive resin composition having a chemically amplifying light-sensitive film to far-ultraviolet radiation with improved pattern form together with improved resolving performance, sensitivity and focal depth latitude.
遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、解像性能、感度及び焦点深度余裕の向上と共に、パターン形状の向上ができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - Accordingly, the conductive layer 15 is chemically and mechanically ground under the condition that the aperture width of groove pattern 14 is partially narrowed to form an embedded wiring 16 in which the dishing phenomenon.
これによって、溝パターン１４の開口幅を部分的に狭くした状態で導電層１５の化学的機械研磨を行い、ディッシング現象を防止した埋め込み配線１６の形成が行われる。 - 特許庁 - The operation form of a movable member notice for operating a movable member is selected by different selection ratios corresponding to the total number of times of the re-variable display to be executed in a re-variable display pattern.
また、再変動表示パターンで実行される再変動表示の合計回数に応じて、可動部材を動作させる可動部材予告の動作態様を異なる選択割合で選択する。 - 特許庁 - To form a deep carved irregular pattern in a sharp contour even for a product of little water content such as the product shaped by a paper-making method and a flow-on one layer molding method.
抄造法やフローオン一層成形法のような賦形された製品の含有水分量が少ない製品であっても深彫りの凹凸模様をシャープな輪郭に形成することを課題とする。 - 特許庁 - The pachinko game machine changes a display angle and displays an image at a liquid crystal display device corresponding to the operation of a game operation part in a change form based on the selected display angle change pattern.
パチンコ遊技機は、選択された表示アングルの変更パターンに基づく変更態様でゲーム操作部の操作に対応して表示アングルを変更させて画像を液晶表示装置に表示させる。 - 特許庁 - To constantly form a conductor pattern of high density and high precision.
高密度且つ高精度の導体パターンを定常的に形成することができるプリント配線板の検査装置並びにプリント配線板の製造システム及びその製造方法並びにプリント配線板検査用プログラムを提供すること。 - 特許庁 - Only in the upper portion of the W layer 8 protruding from an interlayer insulation film 2, a Ti layer 9 and a TiN layer 10 are removed by a CMP method, and then an Al alloy layer 11 is formed to form an interconnection pattern.
層間絶縁膜２から突出したＷ層８の上部のみＴｉ層９、ＴｉＮ層１０をＣＭＰ法で除去し、その後にＡｌ合金層１１を形成して配線パターンを形成する。 - 特許庁 - To form a desired resist pattern by photolithography on a member to be processed, to remove the resist pattern no longer required from the member to be processed with high efficiency and uniformity, and to reduce environmental load when the resist pattern is removed.
被処理部材上にフォトリソグラフィ処理により所望のレジストパターンを形成することができるとともに、不要となったレジストパターンを被処理部材から高効率、かつ、均一に除去することができ、更に、レジストパターンを除去する際に環境にかかる負荷を小さなものとすることができるレジスト材料、該レジスト材料を用いたエッチングパターンの形成方法、及び、導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - A semiconductor substrate 21 is etched while a surface electrode 23 and a resist pattern 24 are used as a mask, and etching for expanding the resist opening 24a of the resist pattern 24 and polymerization for forming a polymer film 26 on the surface of the semiconductor substrate 21, the surface electrode 23, and the resist pattern 24 that is exposed after etching, are repeated to form a hole 25 in the semiconductor substrate 21.
表面電極２３およびレジストパターン２４をマスクとして半導体基板２１をエッチングするとともにレジストパターン２４のレジスト開口部２４ａを広げるエッチングと、エッチング後に露出する半導体基板２１、表面電極２３およびレジストパターン２４などの表面部にポリマ膜２６を形成する重合とを繰返し行ない、半導体基板２１に孔部２５を形成する。 - 特許庁 - The dry etching process comprises a step of disposing a semiconductor substrate where the photoresist pattern is formed on an etched membranous object in a reactor, a step of selectively depositing polymer on an upper section of the photoresist pattern by supplying the CO gas into the reactor to form a polymer layer, and a step of etching the etched membranous object with the photoresist pattern and polymer layer as the masks.
乾式エッチング方法は、被エッチング膜質上にフォトレジストパターンが形成された半導体基板を反応器内に配置する段階と、反応器内にＣＯガスを供給してフォトレジストパターンの上部にポリマーを選択的に蒸着してポリマー層を形成する段階と、フォトレジストパターン及びポリマー層をマスクとして被エッチング膜質をエッチングする段階と、を含む。 - 特許庁 - In the method for forming a chemical amplification type resist pattern by photolithography, a chemical amplification type resist film is formed on a substrate, a coating comprising amorphous polyolefins and having a smaller thickness than the resist film is formed on the resist film and the formation of a latent image pattern, the removal of the coating and development are successively carried out to form the objective chemical amplification type resist pattern.
フォトリソグラフィーにより化学増幅型レジストパターンを形成する方法において、基板上に化学増幅型レジスト膜を形成したのち、その上に、該レジスト膜の厚さ以下の厚さを有する非晶性ポリオレフィン類からなる皮膜を形成し、次いで潜像パターンの形成、該皮膜の除去及び現像処理を順次施し、化学増幅型レジストパターンを形成する。 - 特許庁 - The coating forming agent used to form a fine pattern by coating the top of a substrate having a photoresist pattern and narrowing the spacing of the photoresist pattern by its heat-shrinking action comprises a water-soluble polymer containing at least (meth)acrylamide as a constituent monomer.
ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間隔を狭小せしめて微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、少なくとも（メタ）アクリルアミドを構成モノマーとして含む水溶性ポリマーを含有することを特徴とするパターン微細化用被覆形成剤、および該被覆形成剤を用いた微細パターンの形成方法。 - 特許庁 - A conductor pattern forming ink, containing metal particles and dispersion medium wherein the metal particles are dispersed, is discharged by the droplet discharge method to form the conductor pattern precursor, which has a pad film acting as a pad after the precursor becomes the conductor pattern, and in the pad film, the thickness of the center is thicker than that of the periphery.
本発明の導体パターン形成用インクは、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して形成される導体パターン前駆体であって、導体パターンとしたときにパッドとなるパッド膜を有し、パッド膜は、その中央部の厚さがその周縁部の厚さより大きいものであることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a photocuring blue colorant composition for color filter excellent in pattern forming property by UV light laser which is excellent in hue and with which the chipping and peeling of the pattern-like film formed can be suppressed and which is good in pixel shape and can form a coloring pattern excellent in contact hole formation property, a color filter in which the composition is used, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display apparatus having the color filter.
色相に優れ、且つ、形成されたパターン状の膜における欠けや剥がれが抑制され、画素形状が良好であり、コンタクトホール形成性にも優れた着色パターンを形成しうる、紫外光レーザーによるパターン形成性に優れた光硬化性青色着色組成物、それを用いたカラーフィルタ、その製造方法、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - When the defective inspection is performed to the mask substrate which becomes the origin of the mask of exposure, an exposure region 13 is extracted after the mask pattern is formed from pattern data concerning the form of a mask pattern to be formed on the mask substrate, and the defective inspection must be performed only to a part before screening substrate corresponding to an exposure region 13.
露光用マスクの元となるマスク基材に対して欠陥検査を行う場合にあたり、前記マスク基材に形成すべきマスクパターンの形状に関するパターンデータから当該マスクパターンが形成された後における露光領域１３を抽出し、前記露光領域１３に対応する前記マスク基材の部分についてのみ前記欠陥検査を行うようにする。 - 特許庁 - To form a transparent intermediate layer to have uniform thickness and to exactly transfer a base pattern having a rugged pattern that the stamper has to the transparent intermediate layer, when a multi-layered optical information medium wherein a plurality of information recording layers are laminated via the transparent intermediate layer consisting of resin and the rugged pattern holding information exists on the surface of the transparent intermediate layer is manufactured.
樹脂からなる透明中間層を介して複数の情報記録層が積層され、透明中間層の表面に情報を保持する凹凸パターンが存在する多層光情報媒体を製造するに際し、前記透明中間層を均一な厚さに形成すると共に、スタンパがもつ、前記凹凸パターンの母型パターンを、透明中間層に正確に転写する。 - 特許庁 - In an instrument for irradiating an eyeground with a specific pattern, guiding reflected light therefrom to a photodetective element by a photodetective optical system incorporated in the instrument and measuring the refractive power distribution of the human eye from a reflection pattern obtained on the element, two kinds of multiplex ring patterns where a specific pattern repeats transmission/shielding alternately as multiplex ring patterns form images on the cornea and on the eyeground.
眼底に特定パターンを照射し、そこからの反射光を装置内蔵の受光光学系で受光素子に導き、素子上で得られた反射パターンから人眼の屈折力を測定する装置において、特定パターンが交互に透過／遮光を繰り返す多重リングパターンであり、角膜上と眼底それぞれに結像する２種類であることを特長とする。 - 特許庁 - To provide a method for patterning on the surface of a rock wool board capable of continuously imparting a random complicated pattern by continuously forming a rugged pattern on a surface of a wet mat and thereafter drying to harden the mat to form a rock wool board with a surface pattern and capable of improving a surface decorativeness and improving a productivity.
ウエットマットの表面に模様付けロールで連続的に凹凸模様を形成し、しかる後、ウエットマットを乾燥硬化させて表面模様付けロックウールボードを形成することで、ランダムな複雑な模様を連続的に付与することができ、表面化粧性の向上と生産性の向上をも図ることができるロックウールボードの表面模様付け方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a filter element which can adjust the overlapping state of pattern layers freely as required when the pattern layer in which a whole winding part surface has a uniform stitch shape by repeating winding to make strands cross each other is formed, and the pattern layers are laminated to form a cylinder having stitches and a method for producing the filter element.
素線同士が交差するように巻き付けることを繰り返し行うことで巻付部全面が一様な編目形状を有するパターン層を形成し、そのパターン層が複数積層されて編目を有する筒状体が形成される場合において、各パターン層間の重なり具合を自在に所望どおりに調整できる濾過部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method includes the steps of (a) cutting a stent pattern into a flat piece of metal thereby to produce a metal pattern, (b) deforming the metal pattern so as to cause two opposing sides to meet, and (c) joining the two opposing sides at least at one point to form the stent having the above patterns.
この方法は、ａ）ステントパターンを平坦な金属部片に切り込むことにより、金属パターンを形成する工程、ｂ）二つの互いに向かい合う側部を接触させるように、前記金属パターンを変形させる工程、及びｃ）前記二つの互いに向かい合う側部を少なくとも一点で接合させることにより、前記パターンを有するステントを形成する工程を含んでなる。 - 特許庁 - The substrate for the display device with the spacers, having a compound base containing an organic material and an inorganic material having the pattern spacers formed in a pattern form on the compound base, is characterized in that the hardness of the pattern spacers is lower than the hardness of the inorganic material contained in the composite material.
上記目的を達成するために、本発明は、有機材料および無機材料を含有する複合基材と、前記複合基材上にパターン状に形成されたパターンスペーサとを有するスペーサ付表示用基板であって、前記パターンスペーサの硬度が、前記複合基材に含有される前記無機材料の硬度より低いことを特徴とするスペーサ付表示装置用基板を提供する。 - 特許庁 - When dividing or merging elements while using an error index and a reference value, in addition to an isotropic dividing pattern for dividing all edges as divided patterns or auxiliary dividing pattern for allowing undevided edges, a similar dividing pattern is used for a prism element and a hexahedron element for providing an element form similar to the undivided element by bisecting a rectangular interface.
誤差指標と基準値とを用いて要素を分割または統合する際に、分割パターンとして全てのエッジが分割される等方的分割パターンや分割されないエッジを許容する補助的分割パターンの他に、プリズム要素と六面体要素に対しては四辺形界面を二等分して分割前の要素と相似的な要素形状を得る相似的分割パターンを用いる。 - 特許庁 - The inspection method for ejection of an inkjet device comprising an ink head with a plurality of ejection nozzles includes: a process of continuously ejecting ink from respective ejection nozzles of the ink head to form a parallel line pattern while moving the ink head in the conveyance direction on an image reception base material; and a process of determining defective ejection from line width and pattern interval of the line pattern.
複数の吐出ノズルを有するインクヘッドからなるインクジェット装置の吐出検査方法であって、検査用受像基材上に、インクヘッドを搬送方向に移動させながら、前記インクヘッドの各吐出ノズルからインクを連続吐出し、平行なラインパターンを形成する工程と、ラインパターンの線幅及びパターン間隔から吐出の良不良を判断する工程と、を有する吐出検査方法。 - 特許庁 - The photonic crystal having a column array structure is made by forming a metal thin film pattern (gold pattern) 25 on the surface of the (111) face single crystal silicon layer 23 on a substance layer (silicon dioxide layer)22 different from silicon in refractive index and growing silicon single crystal columns 26 on a metal thin film pattern formation part in a high- temperature silicon tetrachloride gas atmosphere to form the columns.
屈折率がシリコンと異なる物質層（二酸化シリコン層）２２上の（１１１）面単結晶シリコン層２３の表面に金属薄膜パターン（金パターン）２５を形成し、高温の四塩化珪素ガス雰囲気中で金属薄膜パターン形成部にシリコン単結晶柱２６を成長させることにより柱状体を形成し、柱状体配列構造を有するフォトニック結晶を作製する。 - 特許庁 - The galvanic corrosion of a dissimilar metal layer composed of a plurality of metal layers is detected by laminating a plurality of dissimilar metals on a surface of a substrate to form the dissimilar metal layer and simultaneously form a monitor pattern with the same configuration as the dissimilar metal layer at a different position on the surface of the substrate from the dissimilar metal layer, and monitoring the monitor pattern from above the surface of the layer.
基材の表面に、複数の異なる金属層を積層して異種金属層を形成すると同時に、基材の表面の前記異種金属層とは異なる位置に、前記異種金属層と同一構成の層からなるモニターパターンを形成し、前記モニターパターンを層面上方から観察することで、前記複数の金属層が積層されてなる異種金属層のガルバニック腐食を検出することを特徴とする。 - 特許庁 - The etching method includes a process to form a layer of Al or Al alloy on a surface of a substrate, a process to treat the surface of the layer of Al or Al alloy with TMAH, a process to form a resist pattern on the surface of the Al or Al alloy layer treated with TMAH, and a process to wet-etch the Al or Al alloy layer with the resist pattern as an etching mask.
下地表面上にＡｌまたはＡｌ合金の層を形成する工程と、前記ＡｌまたはＡｌ合金の層の表面をＴＭＡＨで処理する工程と、前記ＴＭＡＨで処理したＡｌまたはＡｌ合金の層の表面上にレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをエッチングマスクとして用い、前記ＡｌまたはＡｌ合金の層をウエットエッチングする工程とを含む。 - 特許庁 - In addition, the metal film forming method includes a process to form a photo resist pattern of a desired shape on the metal film divided into a plurality of areas and the resin film, and a process to form the metal film pattern of a desired shape by removing a part of the metal film divided into a plurality of areas by the chemical etching method, a plasma etching method or the ion beam etching method.
さらに、上記複数の領域に分けて形成した金属膜および樹脂フィルム上に、所望形状のフォトレジストパターンを形成する工程と、化学エッチング法またはプラズマエッチング法もしくはイオンビームエッチング法により、上記複数の領域に分けて形成した金属膜の一部を除去し、所望形状の金属膜パターンを形成する工程とを含む金属膜の形成方法とする。 - 特許庁 - A pattern element showing an operation summary to be executed in a pseudo program performing multi-task communication with a test object program is disposed on a scenario chart editing screen by use of a scenario chart editing means 101, and details of an operation shown by the pattern element is input to form a scenario chart.
シナリオチャート編集手段１０１を用いて、シナリオチャート編集画面上に、試験対象プログラムとマルチタスク通信を行う擬似プログラムにおいて実行されるべき動作概要を表す図形要素を配置するとともに、前記図形要素が表す動作の詳細を入力し、シナリオチャートを作成する。 - 特許庁 - The manufacturing process of this substrate device comprises subjecting a substrate 8 consisting of SiC to heating and thermal decomposition in a vacuum atmosphere, to form carbon and adsorbing and depositing the resulting carbon only on metal parts 13 which are formed so as to shape a pattern on the substrate 8 beforehand and function as growth nuclei of the carbon, to produce graphite nanotubes 15 formed so as to shape an optional pattern on the substrate 8.
SiCから成る基体８を、真空雰囲気中で加熱し熱分解し、この結果生じる炭素を、基体８上に予めパターニングされて付与されている成長核となる金属部１３にのみ吸着、析出させて、基体上に任意のパターン化されて形成されたグラファイトナノチューブ１５を形成する。 - 特許庁 - As an alternative, patterns containing figures or letters are applied to a part of the front body cloth 1a and sleeves 1c, 1d in a manner to develop an integrated, continuous or single correlated pattern to form a correlated pattern in the course of slipping off the wear and/or fastening buttons of the wear.
また、前身頃、袖の夫々の一部に、絵柄や文字を含む模様を関連づけて付し、衣類を着た状態で、関連づけた模様を一体化、連続化あるいは１つの関連した模様を形成させる動作で、衣類を脱ぐ動作あるいは／および衣類のボタン止め動作が行える態勢になるようにしている。 - 特許庁 - To provide a highly refined and reliable printed wiring board, by inactivating a palladium remaining on the surface of an insulation layer as a catalyst so as to improve the insulation property of a circuit pattern, in a method for manufacturing a printed wiring board using an additive method to form the circuit pattern by a copper plated layer formed on the surface of the insulation layer.
絶縁層の表面に形成した銅めっき層により回路パターンを形成するアディティブ法によるプリント配線板の製造方法において、絶縁層の表面に残留する触媒たるパラジウムを不活性化して回路パターンの絶縁性を向上させ、高精細かつ高信頼性のプリント配線板を得る。 - 特許庁 - A plurality of stripe type electrode patterns 8 formed to have a wider pattern width than the width of a space 10 is arranged so that the liquid crystal molecules are oriented in the pattern longitudinal direction when the polymerizable components mixed in the liquid crystal layer 24 while applying the voltage to the liquid crystal display layer 24 are solidified to form the polymer.
液晶層２４に電圧を印加しながら液晶層２４中に混合された重合性成分を固化してポリマーを形成する際に液晶分子がパターン長手方向に配向するように、スペース１０の幅よりパターン幅の方が広く形成された複数のストライプ状電極パターン８が配列している。 - 特許庁 - To provide an apparatus for manufacturing a functional substrate by forming a dot pattern with high definition and high precision by using a solution containing a functional material to form the high quality fuctional substrate, and the high quality functional substrate manufactured by the manufacturing apparatus and having the dot pattern with high definition and high recision formed thereon.
機能性材料を含有する溶液によるドットパターン形成を高精細かつ高精度に行い高品質な機能性基体を形成する機能性基体製造装置、及びこのような製造装置によって製作され、高精細かつ高精度なドットパターンを形成された高品質な機能性基体を提供する。 - 特許庁 - The process for producing an electromagnetic wave shielding layer comprises a step 10 for preparing a base film, and a step for forming a conductive pattern by printing metal paste (one kind of powder or nanoparticles of gold, silver, copper, aluminium, nickel and carbon nanotube) onto the base film using at least one of screen print method and ink jet method and then calcinating the metal paste to form a conductive pattern.
ベースフィルムを用意するステップ１０と、前記ベースフィルム上にスクリーンプリント法またはインクジェット法の少なくともいずれか一方を用いて、金属ペースト（金、銀、銅、アルミニュウム、ニッケル、カーボンナノチューブのパウダー又はナノパーティクルの内、一種）を印刷し、焼成することにより、導電性パターンを形成するステップを含む。 - 特許庁 - In a half cycle of a current waveform, i.e., when a current flows in on direction, switching deices of an inverter are controlled so as to form a pattern that a current flows from the inverter side to an AC power supply side, and a pattern that a current flows from the AC power supply side to the inverter side, are alternately repeated to generate a current waveform.
電流波形の半サイクルでは、同一の方向の電流の流れで、インバータから交流電源側に電流が流れるパターンと交流電源側からインバータ側に電流が流れるパターンとを交互に繰り返して電流波形を生成するようにインバータのスイッチング素子を制御する。 - 特許庁 - In this laminated chip inductor having such a structure, the coil has a combination of two kinds of conductor patterns, a spiral long conductor pattern 10 exceeding one turn and a short conductor pattern 12 of not more than one turn, and the long and short conductor patterns are alternately laminated and connected to form spiral winding of two turns or more per two layers.
コイルは、１ターンを超える渦巻き状の長い導体パターン１０と１ターン未満の短い導体パターン１２との２種類の導体パターンの組み合わせからなり、それら長い導体パターンと短い導体パターンとを交互に積層接続することにより、２層当たり２ターン以上となるように螺旋状に巻き回されている。 - 特許庁 - A pulse generation means 55 of the drive unit 50 generates a pulse which can form a switching pattern closest to a switching pattern formed by at on-time operated by an on-time operation means 542, and brought into an output-permissible range when the output voltage is outside the output-permissible range by a power supply voltage.
駆動装置５０のパルス生成手段５５は、出力電圧が電源電圧による出力可能範囲外になった場合に、オン時間演算手段５４２により演算されたオン時間によるスイッチングパタンに最も近く、かつ、出力可能範囲内となるスイッチングパタンを実現するパルスを生成する。 - 特許庁 - The PC1 for displaying ranking and the PC 2 for summing up scores include selection menu processing means A which successively update the ranking by inputting the results of the players and display the ranking by replacement by setting a form pattern, an animation pattern, effective sound, time for a timer, time after waiting termination, time for horizontal movement waiting, and time for vertical movement waiting, respectively.
順位表示用パソコン１、スコア集計用パソコン２には、フォームパターン・アニメパターン・効果音・タイマー時間・ウエイト終了後時間・横移動ウエイト時間・縦移動ウエイト時間それぞれを設定することで、プレイヤーの成績の入力によって順位を逐次更新し、入れ替えて表示させる選択メニュー処理手段Ａを有する。 - 特許庁 - The resist film 11 is selectively irradiated with light from a KrF excimer laser 12 for pattern exposure and developed by using a tetramethylammonium hydroxide aqueous solution having the weight concentration lower than 2.38 wt.% to form a resist pattern 14 comprising the unexposed part 11b of the resist film 11.
レジスト膜１１に対してＫｒＦエキシマレーザ１２を選択的に照射してパターン露光を行なった後、２．３８ｗｔ％よりも重量濃度が小さいテトラメチルアンモニウムハイドロキサイド水溶液を用いて現像を行なうことにより、レジスト膜１１の未露光部１１ｂよりなるレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁 - On the basis of the peak level and the peak position provided from the maximum value retrieving part 13, a pattern generating part 14 generates the theoretical form of the correlative peak, and when detecting the second peak, a subtracter 15 subtracts the theoretical pattern of the first correlative peak from delay profile data in the delay profile preserving part 12.
パターン生成部１４は最大値検索部１３から得られたピークレベル及びピーク位置を基に相関ピークの理論形状を生成する、減算器１５は第２位のピークを検出する際に遅延プロファイル保存部１２内の遅延プロファイルデータから第一位の相関ピークの理論パターンを減算する。 - 特許庁 - Wiring 3 and an identification pattern 3b connected with the wiring are formed on a 1st metallic thin film on a substrate 1, and these surfaces are processed by anode oxidization treatment to form an insulating film 7, and thereafter, the wiring 3 is inspected depending on whether or not the insulating film 7 is formed on the identification pattern 3b.
基板１上に、第１の金属薄膜から配線３およびこの配線３に接続される識別パターン３ｂを形成し、これらの表面に陽極酸化処理を行い絶縁膜７を形成し、その後識別パターン３ｂ上に絶縁膜７が形成されているか否かに基づいて配線３の検査を行う。 - 特許庁 - On the periphery of a large pattern 1 existing on a substrate and having a level difference and an area large enough to cause uneven coating 3, a small pattern 2 having an area small enough to cause no uneven coating is arranged and coated with liquid by spin coating to form a thin film having a uniform film thickness.
基板上に存在する塗布ムラ３を生じさせる程度の大きな高低差と大きな面積を有する大きなパターン１の周囲に、塗布ムラを生じさせない程度の小さな面積を有する小さなパターン２を配置し、回転塗布法により液体を塗布し、均一な膜厚の薄膜を形成する。 - 特許庁 - A process management device 10 sequentially registers, for each process, a correlation between a tray number d21 corresponding to a dot pattern of a label d2 read in from an electronic pen 30 and a process-based checking item corresponding to a dot pattern of a form d1 read from the electronic pen 30 with a storage device 12.
工程管理装置１０は、工程ごとに、電子ペン３０から読み込まれたラベルｄ２のドットパターンに対応するトレイ番号ｄ２１と、電子ペン３０から読み込まれた帳票ｄ１のドットパターンに対応する工程別チェック項目との対応関係を記憶装置１２に順次登録していく。 - 特許庁 - To provide a molded article made of a synthetic resin which is given a continuous sculpture-like pattern over the whole circumference of a round-tubular molded part so as to form a continuous projecting pattern having a sufficient projection height, over the whole circumference of the round-tubular molded part such as a cylindrical body section.
円筒状の胴部等、丸筒状の成形部位の全周に亘って、連続状に十分な突出高さを有する凸状模様を形成することを課題として、丸筒状部位の全周に亘って連続状に彫刻状の模様を付与した合成樹脂製成形品を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A plasma processing method of a sapphire substrate comprises executing plasma processing on a sapphire substrate, on which a mask pattern is formed by a resist film arranged on a surface, by using a mixed gas obtained by mixing a CH_2F_2 gas with a BCl_3-based gas to form, on the surface of the sapphire substrate, an uneven structure corresponding to the mask pattern.
サファイア基板のプラズマ処理方法において、表面に配置されたレジスト膜によりマスクパターンが形成されたサファイア基板に対して、ＢＣｌ_３が主体のガスにＣＨ_２Ｆ_２ガスを混合した混合ガスを用いてプラズマ処理を行い、サファイア基板の表面にマスクパターンに応じた凹凸構造を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for producing a laminated structure in which members are joined together via the cured product of a composition which can form the cured product of a fine adhesive pattern excellent in properties such as adhesion to various members, hardness, heat and chemical resistances, the adhesive pattern being formed by photolithography.
フォトリソグラフィー法により精細な接着剤パターンを形成し、各種部材に対する接着性、硬度や耐熱性、耐薬品性等の特性に優れる接着剤パターンの硬化物を形成できる組成物の硬化物を介して部材同士が接合された積層構造物の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a pattern form, line edge roughness, resist temporal stability, and dry etching resistance, especially in lithography using electron beam, X-ray, or EUV light as a source of exposure light; and also to provide a pattern forming method using the same.
特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。 - 特許庁
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