「insulation process」を含む例文一覧(677)

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  • In manufacturing the oscillator of this structure, a coating process of coating the insulation thin film 9 onto the exposed face 18b of the inductor is employed after a process that the inductor 18 is printed on a green sheet of a dielectric material.
    この構造の発振器を製造する場合、誘電体のグリーンシート上にインダクタ１８を印刷した後にそのインダクタの露出面１８ｂに絶縁薄膜９を被覆する被覆工程を組み込む。 - 特許庁
  • The low-ρ kraft paper is prepared by subjecting a kraft paper for electric insulation to a low-ρ generating process, and its dielectric resistance lies between 10-80% of that of the kraft paper before its being subjected to the low-ρ generating process.
    この低ρクラフト紙は絶縁用クラフト紙を低ρ化処理したもので、その絶縁抵抗は低ρ化処理を行う前のクラフト紙の絶縁抵抗の10％以上80％以下である。 - 特許庁
  • To provide the subject insulation film causing no 'warpage' when heated in a wiring board manufacturing process, in particular causing no 'warpage' even after reheated to a solder welding temperature in a component mounting process.
    配線板製造工程における被加熱時に「反り」を発生させないものとし、特に、部品実装工程におけるハンダ溶接温度に再加熱された後にも「反り」を発生させない絶縁フィルムを提供する。 - 特許庁
  • To conduct prevention of loosened stop tape of a wound battery element and an insulation treatment on the battery element end surfaces in the same process.
    巻回型の電池要素の巻止めテープによる巻ほぐれ防止と電池要素端面と絶縁処理工程を同一の工程において行う。 - 特許庁
  • To provide a method for fabricating a transistor in which increase in the thickness of gate insulation layer or decrease in the thickness of gate polysilicon layer due to silicide process can be prevented.
    シリサイド工程によるゲート絶縁層の増厚やゲートポリシリコン層の減厚を防ぐことの可能なトランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide coated wires and cables that prevent fusion between an insulation layer and a sheath in a manufacturing process, and excellent in strippability and flexibility for installation.
    製造工程において絶縁体とシースとの融着が起こらず、施工時の皮むき性や可撓性に優れた被覆電線・ケーブルを提供する。 - 特許庁
  • To provide electric insulation between optical components, without executing conventional ion implanting or etching process, in the manufacture of an integrated optical device.
    集積光学装置の製造につき、従前のイオン注入工程やエッチング工程を行うことなく、光素子間の電気的絶縁を実現する。 - 特許庁
  • A process for removing by the projection of a microwave the moisture contained in the gate insulation film of a transistor is introduced to prevent thereby the change of its characteristic.
    マイクロ波の照射により、ゲート絶縁膜中の水分を除去するプロセスを導入することにより、トランジスタ特性の変動を防止する。 - 特許庁
  • To provide a storing container which can be manufactured only by undergoing one embossing molding process by an embossing means, and is excellent in thermal insulation properties.
    型押し手段による一度の型押し成形工程を経るのみで製作可能で、断熱性に優れた収納容器を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a process for fabricating a semiconductor device arranged such that a fuse can be cut easily without thinning an insulation film on the fuse.
    ヒューズ上の絶縁膜を薄膜化することなく、このヒューズを簡単に切断できるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a laminated electronic component capable of exhibiting high insulation and enhanced reliability, even if a dielectric layer is made thin, and to provide its producing process.
    誘電体層を薄層化しても高い絶縁性を有し信頼性を向上できる積層型電子部品およびその製法を提供する。 - 特許庁
  • The reforming of the laminated body 7a (treated by UV ozone) and partially removal are carried and after the back side electrode 6 is formed in an inter-electrode insulation process.
    電極間絶縁工程は、背面電極６の形成後に、積層体７ａの改質（ＵＶオゾン処理）及び部分的除去を行う。 - 特許庁
  • The resin foaming process for forming the foam insulation is performed after closing the opening portion 162 by the low temperature-side evaporator module 164.
    発泡断熱体を形成するための樹脂発泡処理は開口部１６２を低温側蒸発器モジュール１６４が閉塞した後に行われる。 - 特許庁
  • Bugs and caveats: Because sub-interpreters (and the maininterpreter) are part of the same process, the insulation between them isn't perfect -- for example, using low-level file operations like
    バグと注意事項: サブインタプリタ (とメインインタプリタ)は同じプロセスの一部分なので、インタプリタ間の絶縁性は完璧ではありません -- 例えば、 - Python
  • The manufacturing method of a semiconductor device having the gate insulation film comprises a base film forming process of forming the base film 1004 on a semiconductor substrate 1001, a heating process of controlling pressure and heating the semiconductor substrate on which the base film 1004 is formed in a non-oxidizing gas atmosphere, and a gate insulation film forming process of forming the high dielectric constant insulation film 1005 on the heated base film 1004.
    ゲート絶縁膜を有する半導体装置の製造方法において、半導体基板１００１上に下地膜１００４を形成する下地膜形成工程と、下地膜１００４を形成した半導体基板を非酸化性のガス雰囲気中で、圧力を制御して加熱する加熱工程と、上記加熱した下地膜１００４の上に高誘電率ゲート絶縁膜１００５を形成するゲート絶縁膜形成工程とを備える。 - 特許庁
  • A manufacturing method of a wiring board formed by laminating at least one conductor layer and one resin insulation layer includes a groove formation process in which a groove is formed on a main surface side of the resin insulation layer and Cu paste supply process in which a Cu paste is supplied on the groove and the main surface of the resin insulation layer and the conductor layer is formed with the Cu paste.
    導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも１層積層されてなる配線基板の製造方法であって、前記樹脂絶縁層の主面側に溝部を形成する溝部形成工程と、前記溝部及び前記樹脂絶縁層の主面上にＣｕペーストを供給し、このＣｕペーストから前記導体層を形成するＣｕペースト供給工程と、を備える。 - 特許庁
  • To provide an optical element comprising a surface emission semiconductor laser having a plurality of desired number of insulation layers and a photodetector element, and to provide its fabrication process.
    所望の複数の絶縁層を有する、面発光型半導体レーザと光検出素子とを含む光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To utilize a ventilation structure for performing direct ventilation to a rice cooking area to perform a more proper assist to an optional process of the whole rice cooking including heat insulation.
    炊飯域への直接の通気を図る通気構造を生かして、保温を含む炊飯全般の任意な工程に、より適正なアシストができるようにする。 - 特許庁
  • The insulator, comprising one or more insulation unit layer and being etched by a wet process, is subjected to heat treatment following wet etching.
    ウェットプロセスによってエッチング可能な、一層以上の絶縁ユニット層を積層した絶縁体が、ウエットエッチングされた後に熱処理して得られた絶縁体である。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device, wherein a gate insulation film is protected from deteriorations or damages due to electric charges of an MOS transistor in a plasma process.
    プラズマプロセス中のＭＯＳトランジスタの帯電によるゲート絶縁膜の劣化又は損傷から保護するようにした半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • The heating control means adjusts the time of the low temperature heat insulation process on the basis of the number of opening and closing times of the lid body 3 which is counted by the opening and closing counting means.
    加熱制御手段は、開閉回数カウント手段でカウントされた蓋体３の開閉回数に基づいて低温保温工程の時間を調整する。 - 特許庁
  • The carbon insulation film 16 is a photothermal conversion layer applied in the laser annealing process, and is a left-over part of the photothermal conversion layer.
    カーボン絶縁膜１６は、このレーザーアニール処理において適用される光熱変換層であり、当該光熱変換層の一部を残したものである。 - 特許庁
  • The electrophoretic process allows formation of a sufficiently thick enamel protection layer, which is excellent in the electric insulation and water resistance.
    電気泳動法で形成するので、厚みの充分厚いホーロー保護層を形成することができ、電気絶縁性、耐水性に優れた保護層が得られる。 - 特許庁
  • To provide a process for fabricating a semiconductor device in which lowering of reliability due to poor gate insulation film of an element isolated by an element isolation strip can be prevented.
    素子分離帯により分離される素子のゲート絶縁膜の不良による信頼性の低下を防止し得る半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • High-voltage is applied to the battery power generation element 6 via the bypass terminal 1 without applying voltage to the PTC element 25 at a process of an inspection of insulation.
    絶縁検査の工程では、ＰＴＣ素子２５に電圧を印加することなく、バイパス端子１を介して電池発電要素６に高電圧を印加する。 - 特許庁
  • In the manufacturing method of the semiconductor device, gate insulation films 3a of the I/O transistors Tr2, Tr3 are formed in the same manufacturing process with the same film thickness.
    この半導体装置の製造方法では、Ｉ／ＯトランジスタＴｒ２、Ｔｒ３のゲート絶縁膜３ａを同工程で同一膜厚で形成する。 - 特許庁
  • This process comprises a step for generating at least one metallic track 7 in an inside of a track insulation material 1 at a predetermined metallization level.
    このプロセスは、予め定めたメタライゼーション・レベルでトラック間絶縁材料１の内部に少なくとも１つの金属トラック７を生成するステップを含む。 - 特許庁
  • To improve the design versatility of a roll equipped on electrophotograhic process equipment, and to reduce the creep between an inner ring of a bearing and a heat insulation bush.
    電子写真プロセス機器に装備されるロール周辺の設計自由度の向上、軸受内輪と断熱ブッシュとの間のクリープの軽減等を目的とする。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which contacts are surely separated with high insulation resistance even when using a self-align contact process.
    セルフアラインコンタクトプロセスを用いても、高い絶縁耐性でコンタクト間の分離を確実に行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a motor and a method for manufacturing the same where the insulation of an end not insulated is assured in a simple process after welding a coil module.
    簡素な工程で、コイルモジュールの溶接後の絶縁未処理端部についての絶縁を確保できるモータおよびモータの製造方法を提供することである。 - 特許庁
  • To provide an insulated electric wire which hardly gets damages during a coiling process under a severe condition although the same is coated by an insulation coat made of extruded resin which is liable to damage.
    絶縁被膜が傷に対して弱い押出樹脂であっても厳しい条件でのコイル加工時の被膜損傷が少ない絶縁電線を提供する。 - 特許庁
  • To provide a thermoelectric converter in which electric insulation is attained without deteriorating heat exchange performance and air supply performance, and to provide its manufacturing process.
    熱交換性能および送風性能を低下させることなく、電気的な絶縁が得られる熱電変換装置およびその装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • PROCESS OF MANUFACTURING PARTIAL DISCHARGE-RESISTANT RESIN COMPOSITION, PARTIAL DISCHARGE-RESISTANT RESIN COMPOSITION, PARTIAL DISCHARGE-RESISTANT INSULATION MATERIAL, AND PARTIAL DISCHARGE-RESISTANT INSULATOR STRUCTURE
    耐部分放電性樹脂組成物の製造方法、耐部分放電性樹脂組成物、耐部分放電性絶縁材料、および耐部分放電性絶縁構造体 - 特許庁
  • To prevent the insulation of an anode in the case an insulator thin film is to be formed by d.c. discharge according to a reactive sputtering process, and to stabilize the discharge.
    反応性スパッタ法で直流放電により絶縁物薄膜を形成しようとする場合、アノードの絶縁化を防ぎ放電を安定させる。 - 特許庁
  • To provide a coaxial connector which does not require folding process for mounting a ground shell (2), has no play between an insulation housing (3), and the ground shell (2) can be mounted.
    アースシェル（２）の取り付けに、折り曲げ加工工程がなく、絶縁ハウジング（３）との間に遊びがなく、アースシェル（２）が取り付けられる同軸コネクタを提供する。 - 特許庁
  • The insulator, comprising one or more insulation unit layer and being etched by a wet process, is subjected to plasma processing following wet etching.
    ウェットプロセスによってエッチング可能な、一層以上の絶縁ユニット層を積層した絶縁体が、ウエットエッチングされた後にプラズマ処理されて得られた絶縁体である。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device and its fabricating process in which a metal gate transistor having a reliable low resistance is implemented with no deteriorating the gate insulation film.
    ゲート絶縁膜の劣化の懸念なく、信頼性ある低抵抗のメタルゲートトランジスタを実現する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an electric insulating paper which is superior in insulation destruction strength, moisture absorption dimensional stability, thermal dimensional stability, and process passage characteristics at the time of paper making.
    絶縁破壊強さに優れ、かつ、吸湿寸法安定性、熱寸法安定性に優れ、かつ、抄紙時の工程通過性に優れた電気絶縁紙を提供する。 - 特許庁
  • A semiconductor device, wherein an interlayer insulation film comprising boron nitride films 7, 9, 11 whose dielectric is less than 4 is formed in a wiring formation process, is manufactured.
    配線形成工程において、誘電率が４未満の窒化ホウ素膜７，９，１１からなる層間絶縁膜を形成する半導体装置の製造方法。 - 特許庁
  • An etching process for forming a self-aligning contact is executed by using etching selectivity between the remaining antireflection film and a layer insulation film 31.
    そして、この残っている反射防止膜と層間絶縁膜３１とのエッチング選択比を利用してセルフアラインコンタクトを形成するためのエッチング工程を行う。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device which is thermally stable in after process and which is suitable for manufacturing a gate insulation film having a multilayer structure wherein various oxides of a high permittivity are laminated.
    後プロセスで熱的に安定で、また、各種高誘電率酸化物との積層構造ゲート絶縁膜作製に適した半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the silicon insulation film has a termination step of performing termination process separately on the fluorine atom and the hydroxy group.
    シリコンダングリングボンドを、フッ素原子と水酸基とでそれぞれ別々に棲み分けして終端する終端工程を有するシリコン絶縁膜の製造方法。 - 特許庁
  • To provide the insulation of signal lines and pixel electrodes by polyimide films with addition of least possible process with a liquid crystal display device integrally formed with driver circuits.
    ドライバー回路一体形成の液晶表示装置において、最小限の工程の追加でポリイミド膜による信号線と画素電極の絶縁を実現する。 - 特許庁
  • To provide a rotor of rotating electrical machine which has high insulation reliability among the windings of the rotor, is easy to process, and able to have the workability improved.
    回転子の巻線間の絶縁信頼性が高く、加工が容易で作業性を改善することができる回転電機の回転子を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which both the characteristic of bulk of a gate insulation film and the characteristic of an interface can be satisfied by a low temperature process.
    低温プロセスによってゲート絶縁膜のバルクの特性と界面の特性を両立させ得る半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • When the mold resin 5 for insulation is poured, air is pushed out from an upper part during a process permeating the resin, thus air bubbles are hardly generated, therefore, the mold resin for insulation is efficiently poured.
    絶縁のためのモールド樹脂５を流し込む際に、樹脂が浸透していく過程で空気が上方から抜けていくことにより、気泡が発生しにくくなるため、絶縁のためのモールド樹脂を効率よく流し込むことが可能となる。 - 特許庁
  • To provide an effective insulation treatment process (manufacturing method of a metal barrier for a picture display device) of a metal barrier for a picture display device having high performance (high precision/high luminosity) since an aperture rate is high, and having high insulation reliability and low cost.
    開口率が高いため高性能（高精細・高輝度）で、絶縁信頼性が高くかつ安価な画像表示装置用金属隔壁の有効な絶縁処理プロセス（画像表示装置用金属隔壁の製造方法）を提供する。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive composite for improving a manufacturing process efficiency of a printed circuit board, and to provide a build-up insulation film with the same, and a method for manufacturing a circuit board using the build-up insulation film.
    印刷回路基板の製造工程の効率を向上させることができる光感応性組成物及びこれを含むビルドアップ絶縁フィルム、そして前記ビルドアップ絶縁フィルムを用いた回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a surfacing sheet which neither causes resin leakage in a production process of an foaming resin-made thermal insulation board nor causes a failure even when used in a hot asphalt application method but which is suitable for obtaining the foaming resin-made thermal insulation board.
    発泡樹脂製断熱ボードの製造工程における樹脂漏れがなく、熱アスファルト工法に使用しても不具合を生じることのない発泡樹脂製断熱ボードを得るために好適な表面材用シートを提供する。 - 特許庁
  • In this thermal transfer image receiving sheet with a heat insulation layer and an image receiving layer formed on a base material, the heat insulation layer is formed by an application process and structured of a laminate of not less than two layers.
    基材上に断熱層及び受像層を有する熱転写受像シートにおいて、該断熱層が塗布方式で形成され、かつ該断熱層が２層以上から構成される積層構造であることを特徴とする熱転写受像シート。 - 特許庁
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