「interferometers」を含む例文一覧(120)

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  • INTERFEROMETERS, AND METHOD OF MEASURING SHAPE
    干渉計、及び形状の測定方法 - 特許庁
  • Interferometers 10, 20 are respectively Mach Zehnder interferometers which mainly operates with self-phase modulation.
    干渉計１０、２０は、それぞれ、主に自己位相変調により動作するマッハツェンダ干渉計である。 - 特許庁
  • Delay interferometers 1a, 1b are each provided with phase shifters.
    遅延干渉計１ａ、１ｂは、それぞれ移相要素を備える。 - 特許庁
  • 1. Interferometers capable of measuring speeds exceeding 1 kilometers per second
    （一）　一秒につき一キロメートルを超える速度を測定することができるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • 2. Interferometers capable of measuring speeds at intervals less than 10 microseconds
    （二）　一〇マイクロ秒未満の間隔で速度を測定することができるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • CHARACTERISTIC EVALUATION METHOD OF OPTICAL MODULATOR HAVING PLURAL MACH-ZEHNDER INTERFEROMETERS
    複数マッハツェンダー干渉計を有する光変調器の特性評価方法 - 特許庁
  • Plural length measurable positions are set by laser interferometers 7 and 8.
    また、各レーザ干渉計７，８による測長可能位置を複数設定する。 - 特許庁
  • A double sharing interferometer comprises two heterodyne sharing interferometers.
    ２重共有干渉計は、２つのヘテロダイン共有干渉計で構成されている。 - 特許庁
  • INTERFEROMETERS SENSOR, OPTICAL MEASURING APPARATUS USING IT, AND OPTICAL MEASURING METHOD
    干渉計センサおよびそれを用いた光学測定装置ならびに光学測定方法 - 特許庁
  • The system includes a plurality of partial polarizing splitters or a plurality of optical interferometers.
    システムは、複数の部分偏光スプリッタまたは複数の光学干渉計を含む。 - 特許庁
  • A plurality of these interferometers can be overlapped, and each of the interferometers is optimized with respect to a specific pitch so that a variable pitch interference system is provided.
    これらの複数の干渉計は重ね合わせることができ、その各々は可変ピッチ干渉システムを提供するように特定のピッチに対して最適化されている。 - 特許庁
  • This value becomes a value reflecting a phase difference of two delay interferometers of the group 1.
    この値は、グループ１の２つの遅延干渉計の位相差を反映した値となる。 - 特許庁
  • To provide a stage device which allows respective interferometers to take over wavelength compensation correctly upon making a changeover action to reduce a position shift when the position of a stage is measured using a plurality of laser interferometers.
    複数のレーザー干渉計を用いてステージ位置を計測する際の、干渉計の切り替え動作時に波長補正を正しく継承し、位置ずれを低減すること。 - 特許庁
  • A plurality of laser interferometers 3a-3q are arranged along the moving direction of a slider 2.
    複数のレーザ干渉計３ａ〜３ｑは、スライダ２の移動方向に沿って配置される。 - 特許庁
  • To provide an optical digital external modulator with a series cascaded arrangement of interferometers.
    干渉計のカスケード接続配置を有する光学デジタル外部変調器を提供すること。 - 特許庁
  • (a) Interferometers for measuring fluid speeds falling under the following 1. and 2.
    イ　流体の速度を測定するための干渉計であって、次の（一）及び（二）に該当するもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • The polarized of light emitted from the optical fiber (130) is converted into orthogonal linearly polarized light for use in the interferometers, and the frequency components are separated, according to linearly polarized light in the interferometers.
    光ファイバ（１３０）を出る光の偏光は、干渉計で使用するために直交直線偏光に変換され、干渉計においてそれらの周波数成分が直線偏光に従って分離される。 - 特許庁
  • Four optical interferometers 41 to 44 are arranged in parallel and optical path length differences 52_1 to 52_4 of the respective optical interferometers are set to L, r×L, r×r×L, and r×r×r×L.
    ４個の光干渉計４１〜４４が並列に並べられ、各光干渉計の光路長差５２_1〜５２_4 がそれぞれＬ，ｒ×Ｌ，ｒ×ｒ×Ｌ，ｒ×ｒ×ｒ×Ｌに設定されている。 - 特許庁
  • The laser interferometers 32a, 32b are not influenced by vibration of the sub-stage bases 11a, 11b, and a measurement distance from the laser interferometers 32a, 32b to each moving stage on the main stage base 11 is reduced.
    レーザー干渉計３２ａ，３２ｂが副ステージベース１１ａ，１１ｂの振動の影響を受けず、レーザー干渉計３２ａ，３２ｂから主ステージベース１１上の各移動ステージまでの測定距離が短くなる。 - 特許庁
  • The optical modulator is provided with an electrode substrate to apply an electric field to each of the interferometers of the cascade and a bias circuit connected to an electrode structure to bias each of the interferometers at specified bias points.
    本発明の光変調器は、カスケードの各干渉計に電界を印加する電極基板と、所定のバイアス点で各干渉計をバイアスする電極構造に接続されるバイアス回路とを備える。 - 特許庁
  • To provide an entirely new musical instrument using optical fibers by utilizing optical loop interferometers.
    光ループ干渉計を利用し、光ファイバを用いた全く新しい楽器を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A DPSK/ASK converting device 12 comprises one-bit delay interferometers 16a and 16b of two systems.
    ＤＰＳＫ／ＡＳＫ変換装置１２は、２系統の１ビット遅延干渉計１６ａ，１６ｂを具備する。 - 特許庁
  • To provide a Fabry-Perot interferometer having a wider spectral band than those of conventional Fabry-Perot interferometers and to provide a manufacturing method thereof.
    従来よりも分光帯域の広いファブリペロー干渉計及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Namely, the physical quantity detection medium 5 and the modulator 9 are arranged separately in different optical interferometers.
    つまり、物理量検出媒質５と変調器９とを別々の光干渉計に分離配置した。 - 特許庁
  • Multiaxial interferometers (100 and 1100) use synthetic beam (IN0) for a first-time passage through an interference optical system.
    多軸干渉計(1000,1100)は、干渉光学系を通る第1回目の通過のために合成ビーム(IN0)を使用する。 - 特許庁
  • Laser interferometers 63a to 63h each detecting the position of a mirror M1 are supported to a barrel unit 152c.
    ミラーＭ１の位置を検出するレーザ干渉計６３ａ〜６３ｈを鏡筒ユニット１５２ｃに支持する。 - 特許庁
  • The position-measuring system includes: interferometers 6-13; and a plurality of mirrors 2-5 arranged in the plurality of stages A, B.
    位置計測システムは、干渉計６〜１３と、複数のステージＡ，Ｂに設けられた複数のミラー２〜５とを含む。 - 特許庁
  • Each of optical detectors 2a, 2b detects optical signals outputted from the delay interferometers 1a, 1b.
    光検出器２ａ、２ｂは、それぞれ、遅延干渉計１ａ、１ｂから出力される光信号を検出する。 - 特許庁
  • Position information on a wafer stage WST is measured by using: wafer X interferometers 18X_1, 18X_2, a wafer Y interferometer 18Y, etc., and encoders 50A, 50B, etc. with excellent short-term stability of measurement values in comparison with those of the interferometers.
    ウエハステージＷＳＴの位置情報は、ウエハＸ干渉計１８Ｘ_１，１８Ｘ_２、ウエハＹ干渉計１８Ｙ等と、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ５０Ａ，５０Ｂ等とを用いて計測される。 - 特許庁
  • To provide a method, apparatus, and system for the evaluation and calibration of dual-wavelength laser interferometers, which highly accurately evaluates and calibrates dual-wavelength laser interferometers over a long-stroke measuring range in detail.
    ２波長レーザ干渉計を、長ストロークの測定範囲に渡って詳細かつ高精度に評価、校正することが可能な２波長レーザ干渉計評価校正方法、評価校正装置および評価校正システムを提供する。 - 特許庁
  • The optical device with optical waveguides includes 1st and 2nd Mach- Zehnder interferometers connected in series.
    光導波路付光学装置は直列接続された第１及び第２マッハ・ツェンダ構造光干渉装置を含んでいる。 - 特許庁
  • At least one of the interferometers is arranged in a non-movable area enclosed in the movable area of a substrate.
    そして、干渉計の少なくとも一つは、基板の可動領域で包囲される非可動領域に設けられている。 - 特許庁
  • At the same time, an interferometer system, e.g., Z interferometers 43A and 43B, are used to measure the positional information of the wafer stage.
    同時に、干渉計システム、例えばＺ干渉計４３Ａ，４３Ｂを用いて、ウエハステージの位置情報を計測する。 - 特許庁
  • The measuring beam is propagated through the route not parallel to the first axis at least outside the interferometers.
    干渉計の少なくとも外側において、測定ビームは、前記第１の軸に対して平行ではない経路を伝搬する。 - 特許庁
  • A Mach-Zehnder interferometer is composed of two multimode interferometers, two arm waveguides held between the multimode interferometers, and a polyimide wavelength plate inserted in the groove formed to part the two arm waveguides.
    本発明の一実施例によるマッハツェンダ干渉計は、２つの多モード干渉計と、多モード干渉計の間に挟まれた２本のアーム導波路と、２本のアーム導波路を分断するように形成された溝に挿入されたポリイミド波長板とから構成される。 - 特許庁
  • A displacement detector includes a diffraction grating 2, grid interferometers 4 and 5, and relative position information output means 6 and 7.
    変位検出装置は、回折格子２と、格子干渉計４，５と、相対位置情報出力手段６，７とを備えている。 - 特許庁
  • The grid interferometers 4 and 5 include a light source 3, reflection means 12 and 13, a beam splitter 17, and light receiving means 18 and 19.
    格子干渉計４，５は、光源３と、反射手段１２，１３と、ビームスプリッタ１７と、受光手段１８，１９とを有している。 - 特許庁
  • The reflection optical system of the transmission type interferometers 5, 6 comprises erecting Poro prisms 12a, 12b; and corner cube mirror 13a, 13b.
    透過型干渉計５，６の反射光学系は正立ポロプリズム１２ａ，１２ｂと、コーナーキューブミラー１３ａ、１３ｂとで構成される。 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING X-RAY TALBOT DIFFRACTION GRATING, X-RAY TALBOT DIFFRACTION GRATING, X-RAY TALBOT INTERFEROMETERS AND X-RAY PHASE IMAGING APPARATUS
    Ｘ線タルボ回折格子の製造方法、Ｘ線タルボ回折格子、Ｘ線タルボ干渉計及びＸ線位相イメージング装置 - 特許庁
  • A selector 28 selects one of four output light in total of the interferometers 16a and 16b and supplies output light to a Q measuring instrument 30.
    セレクタ２８は、干渉計１６ａ，１６ｂの合計４つの出力光の１つを選択して、Ｑ計測装置３０に供給する。 - 特許庁
  • The plane stage device 10 computes an operation position of a slider 14 from measured values obtained by laser interferometers 18 to 20.
    平面ステージ装置１０では、レーザ干渉計１８〜２０により計測された計測値によってスライダ１４の動作位置を演算する。 - 特許庁
  • The respective one-bit delay interferometers 16a and 16b comprise optical delayers 20a and 20b of a delay time τ and phase shifters 22a and 22b.
    各１ビット遅延干渉計１６ａ，１６ｂは、遅延時間τの光遅延器２０ａ，２０ｂと、位相シフタ２２ａ，２２ｂを具備する。 - 特許庁
  • The planar lightwave circuit includes at least two interferometers composed of a plurality of optical waveguides, and dummy patterns arranged on both sides of the optical waveguide of the interferometer having an optical waveguide density smaller than the maximum optical waveguide density, of the interferometers.
    本発明に係る平面光波回路は、複数の光導波路からなる少なくとも２つの干渉計と、前記干渉計のうち、最大の光導波路密度より小さい光導波路密度をもつ前記干渉計の前記光導波路の両側に配置されたダミーパターンと、を備える。 - 特許庁
  • Accordingly, a switching process between XZ interferometers (116, 117) and between XZ interferometers (126, 127) will not be necessary, and also it becomes possible to measure the position of the stage, which moves in the XY plane using two position measurement systems having different measurement areas.
    これにより、ＸＺ干渉計（１１６，１１７）間、及びＸＺ干渉計（１２６，１２７）間の切り換え処理が不要となるとともに、ＸＹ平面内で移動するステージの位置を、計測領域の異なる２つの位置計測システムを用いて計測することが可能となる。 - 特許庁
  • Also, when a stage 14 for measurement enters the measurable range of the laser interferometers 15X1, 15X2, and 15Y, the position of the reference mark MB is measured by the wafer alignment sensor, and the measured values of the laser interferometers 15X1, 15X2, and 15Y are corrected, based on the measured result.
    また、計測用ステージ１４が、レーザ干渉計１５Ｘ１，１５Ｘ２，１５Ｙの計測範囲内に入った際にも、同様に基準マークＭＢの位置をウエハアライメントセンサにより計測し、この計測結果に基づいてレーザ干渉計１５Ｘ１，１５Ｘ２，１５Ｙの計測値の補正を行う。 - 特許庁
  • The three-dimensional position of a moving stage 7 for holding a probe, etc. for three-dimensional shape measurement is measured by length measurement interferometers 1 to 6.
    三次元形状測定のためのプローブ等を保持する移動ステージ７の三次元位置を測長干渉計１〜６によって計測する。 - 特許庁
  • To achieve an XY stage which is not generated essentially of accumulation of the detected value error of θ variation by repetition of an interferometers switch.
    干渉計切り換えの繰り返しによってθ変化の検出値誤差の累積が本質的に発生しないＸＹステージを実現する。 - 特許庁
  • (xl) Interferometers for measuring fluid velocities, manganin pressure gauges, or quartz pressure transducers
    （四十）　流体の速度を測定するための干渉計、マンガニンを用いた圧力測定器又は水晶圧電型圧力センサを用いた圧力変換器 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • To accurately match a delay time between two interferometers having different design wavelengths, in a QKD system using a photon pair of two kinds of wavelengths.
    ２種類の波長の光子対を利用したQKDシステムにおいて、設計波長が異なる２つの干渉計の遅延時間を精度よく一致させる。 - 特許庁
  • A selecting part 81 selects a laser interferometer to be used out of the plurality of laser interferometers 3a-3q according to the position of the slider 2.
    選択部８１は、スライダ２の位置に応じて、複数のレーザ干渉計３ａ〜３ｑの中から使用すべきレーザ干渉計を選択する。 - 特許庁
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