「light pattern」を含む例文一覧(7056)
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紫外線、エキシマレーザー光、電子線等を使用する半導体素子等の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度かつ高解像性、良好なパターン形状を満足するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - This illuminance-measuring device measures the illuminance of illumination light on an image-forming surface of the projection optical system of an aligner for allowing the image of a pattern from a lighted mask to project on a substrate that is retained on a substrate stage by the projection optical system.
照明されたマスクからのパターンの像を、基板ステージ上に保持される基板上に投影光学系により投射するようにした露光装置の該投影光学系の結像面における照明光の照度を計測する照度計測装置である。 - 特許庁 - The ornamental part 13 is formed by drawing a predetermined pattern with a black film 14 having a dark color-based color tone, a red colored layer 15 having a light color based color tone and a plated layer 16, all of which are formed on the surface of the stainless steel plate 12.
装飾部１３は、ステンレス鋼板１２表面に形成された暗色系の色調を有する黒色被膜１４と明色系の色調を有する赤色の着色層１５及びメッキ層１６とにより所定の模様を描くように形成されている。 - 特許庁 - To provide a variable optical element in which optical characteristics of the variable optical element can be locally changed into a desired pattern without decreasing the quantity of transmitting light in the variable optical element, and to provide an optical device using the variable optical element.
可変光学素子の透過光量を低下させずに、所望するパターン状に局所的に可変光学素子の光学特性を変えることが可能な可変光学素子を提供し、さらに、その可変光学素子を用いた光学装置を提供するものである。 - 特許庁 - To provide an exposure method capable of performing projection exposure with fidelity and high accuracy by satisfactorily suppressing variations of the line width of a pattern formed on a photosensitive substrate, for example, even if aberration of a projection optical system using an EUV light is not sufficiently suppressed.
たとえばＥＵＶ光を用いる投影光学系の収差が十分に抑えられていなくても、感光性基板上に形成されるパターンの線幅のばらつきを良好に抑えて、忠実で高精度な投影露光を行うことのできる露光方法。 - 特許庁 - The exposure method comprises: making a beam from a light source scan an exposure object via an optical element LG; and exposing a pattern PA1 whose region is enlarged on the exposure object in a direction approximately perpendicular to the scanning direction X, via the optical element on the exposure object.
この露光方法は、光源からの光を光学素子ＬＧを介して走査するとともに、光学素子を介することでその走査方向Ｘと略直交する方向に被露光物上で領域が拡大したパターンＰＡ１を被露光物上に露光する。 - 特許庁 - Further, the distance between a concave surface 45a of the column body 45 and each photoreflector 46 varies as the column body 45 moves in a percussion direction, and the light emission intensity of the column body 45 varies, which is viewed as a percussion pattern in meshes of the head 12 through the tube body 41.
また、柱体４５が、打撃方向に移動するのに応じて、柱体４５の凹面４５ａとフォトリフレクタ４６との距離が変化し、柱体４５の発光強度が変化し、それが、打撃態様として、チューブ体４１を介して、ヘッド１２の網目から視認される。 - 特許庁 - A light absorbable pattern 95 of a gray level image is formed on the surface of a base material layer 91 corresponding to the rear surface of the layer 92 of the sheet 9 based on distance image data or the like expressing a stereoscopic shape regarding the image 97.
また、発泡性シート９の発泡層９２の裏面に相当する基材層９１の表面上に、平面画像９７に関する立体形状を表現した距離画像データなどに基づき、濃淡画像の光吸収性パターン９５を形成する。 - 特許庁 - The photographic subject, in such a state that two or more kinds of pattern lights which are obtained by alternately arranging light and dark portions, are respectively projected onto the photographic subject in a time-series fashion, is photographed in a plurality of different exposure conditions, and then a plurality of luminance images are generated for respective exposure conditions.
明と暗とを交互に並べてなる複数種類のパターン光の各々を時系列に被写体に投影されている状態の被写体を複数の異なる露出条件で撮像し、それぞれ各露出条件毎に複数の輝度画像を生成する。 - 特許庁 - To realize an optical disk device having a high efficiency and a high density, capable of performing highly precise tracking control without providing a special servo pattern on a disk, in an optical disk using high density micro bits of the order of submicron to sub-submicron shorter than a wavelength of light.
光の波長以下のサブミクロンからサブサブミクロンのオーダの高密度微小ピットを用いる光ディスクにおいて、ディスク上に特別なサーボパターンを設けずに高精度のトラッキング制御を可能にし、高効率、高密度の光ディスク装置を実現することにある。 - 特許庁 - To provide a conductive base substrate for plating capable of being easily manufactured and a manufacturing method thereof, with and by which a substrate with a conductor pattern patterned so as to have conductivity and light transmitting property can be manufactured at high productivity by using a transfer method.
導電性及び光透過性を有するようにパターニングされた導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく製造することができ、しかも、それ自体作製が容易であるめっき用導電性基材及びその製造法を提供する。 - 特許庁 - The segment electrodes 10 are provided with window parts 12 for light transmission, in which only the ITO pattern partly exists, in the respective pixels, and black stripes 25 are provided in regions, adjacent to the color filter 13 on the upper substrate 3, corresponding to space between the segment electrodes 10.
前記セグメント電極１０はＩＴＯパターンのみが部分的に存在する光透過用の窓部１２を各画素内に有しており、上基板３のカラーフィルター１３の隣接するセグメント電極１０間に対応する領域にはブラックストライプ２５が設けられている。 - 特許庁 - To restrict the occurrence of a large dead space located on the light receiving surface of a solar energy module with the shade of the solar energy module located at the upper side of the roof flow direction relative to the solar cell modules laid to a step pattern on the roof surface of the house.
住宅の屋根面に段葺きされる太陽電池モジュールに対し、屋根の流れ方向の上側に位置する太陽エネルギモジュールの影が下側の太陽エネルギモジュールの受光面上に位置して大きなデッドスペースが生じてしまうことを抑制する。 - 特許庁 - The linear pattern is formed by sequentially discharging a liquid (16) containing a functional component and having the effect of curing by irradiation with active light beam toward a non-permeable medium (12) from an ink jet head (18), and mutually combining such landed droplets on the medium (12).
機能性成分を含有し、活性光線の照射によって硬化する作用をもつ液体(16)を非浸透性の媒体(12)に向けてインクジェットヘッド(18)から順次吐出して、媒体(12)上でこれら着弾液滴同士を合一させて線状パターンを形成する。 - 特許庁 - The fishing lamp 10 includes a light distribution pattern including a first distribution peak P1 and a second distribution peak P2 mutually different in one cross-sectional view, wherein the first distribution peak P1 is smaller than the second distribution peak P2.
本発明に係る集魚灯１０は、一断面視において、互いに異なる第１の配光ピークＰ１と第２の配光ピークＰ２とを含む配光パターンを有し、第１の配光ピークＰ１は第２の配光ピークＰ２よりも小さいことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed.
ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の（極）遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁 - To provide socks made to remember attachment of a light emitting diode (LED), effectively irradiating a design, embroidery, or pattern of on the socks with the LED, and preventing an LED controlling circuit failure even if getting wet in rain or washing.
発光ダイオードの装着を忘れ難くし、靴下の絵柄や刺繍や模様等に効果的に発光ダイオード（ＬＥＤ）を照射するとともに、雨等で濡れたり洗濯をしたとしても、発光ダイオード（ＬＥＤ）の制御回路が故障するようなことがないようにする。 - 特許庁 - To provide an aligner which easily confirms a movement error of a shutting component used to shut the unnecessary exposure light when transferring a pattern formed on a mask on a substrate, synchronously moving the mask and the substrate, and which can adjust the movement.
マスクと基板とを同期移動させつつマスクに形成されたパターンを基板上に転写する際に、不要な露光光を遮光するために用いられる遮光部材の移動誤差の有無を容易に確認し、調整することができる露光装置等を提供する。 - 特許庁 - To provide a reflecting type exposure mask capable of suppressing a positional deviation of a mask pattern and improving a contrast at a mask examining time with a DUV light without affecting an adverse influence to resolution in the mask used for an EUV lithography.
ＥＵＶリソグラフィに用いられる反射型露光マスクにおいて、マスクパターンの位置ずれを抑制するとともに、解像度に悪影響を及ぼすことなく、ＤＵＶ光によるマスク検査時のコントラストを向上させることができる反射型露光マスクを提供する。 - 特許庁 - The method for forming a pattern includes steps of sticking the light-shielding layer (B) side of the element to a substrate, exposing a predetermined portion through the photosensitive resin composition layer (A), and removing (A) and (B) in an exposed portion by development, and removing (A) in an unexposed portion.
（Ｂ）遮光層側を基材に貼りつける工程、（Ａ）の感光性樹脂組成物層上から所定部を露光する工程、現像によって露光部の（Ａ）及び（Ｂ）を除去する工程、並びに未露光部の（Ａ）を除去する工程とを含むパターン形成方法。 - 特許庁 - To fix the ground potential of a well without increasing the number of components like a conventional one, complicating control, forming well contacts on a pixel basis like a conventional one, nor causing generation of fixed pattern noise, a saturated level difference (saturation shading) or reduction of light condensation.
従来のように部品点数の増加や制御が複雑化せず、また、従来のように画素毎にウェルコンタクトを形成することなく、固定パターンノイズの発生、飽和レベル差（飽和シェーディング）、集光の減少を伴うことなく、ウェルのグランド電位の固定を行う。 - 特許庁 - The repair material 6 is exposed to light at a pattern to reform a partition of the bank 2 at the defected location 3 only, and the corrected portion is cured after developing so as to remove the other portion by leaving the repair material 6 at a portion required for correction.
欠陥箇所３のみにバンク２の隔壁を再形成するようなパターンにて修復材料６を感光させ、修復に必要な部分の修復材料６を残して他の部分を除去するように現像した後、修復された部分を硬化させる。 - 特許庁 - A speed calculation part 42 detects the images of the two observation objects 12 by pattern matching from the pictured observation image for one frame, and calculates the moving speed of the observation objects 12 from the distance of their images and the intervals of the blinks of the illumination light.
速度算出部４２は、撮像された１フレーム分の観察画像から、パターンマッチングにより２つの観察対象物１２の像を検出し、それらの像間の距離と、照明光の点滅の間隔から、観察対象物１２の移動速度を算出する。 - 特許庁 - A semiconductor integrated circuit device DUT 640 is provided with probe light pulse and reference pulse during each repetition cycle of the electric test pattern signal applied repeatedly, for guiding the same optical path as to sample the electric waveform on the DUT.
半導体集積回路デバイス（ＤＵＴ６４０）に繰り返し印加する電気的テストパターン信号の各反復サイクル期間中に、プローブ光パルスおよび基準光パルスを供給して、ＤＵＴ上の電気的波形をサンプリングするように同一光路を導く。 - 特許庁 - To provide an image display device with a light transmission function from an observed object, which is capable of reducing power consumption and of viewing each display pattern with multiple gradations by a simplified drive circuit without increasing burden on liquid crystal.
消費電力を低減できるとともに、液晶に対する負荷を大きくすることなく簡略化された駆動回路によって複数階調で各表示パターンを視認可能にすることができる被観察物からの光透過機能を有する画像表示装置を提供する。 - 特許庁 - A framing device (114) of an optical transmitting apparatus (110) embeds a logic determination bit pattern into a frame of data to be transmitted, and an intensity modulator (116) modulates the intensity of output laser light from a laser (112) in accordance with an output electric signal of the framing device (114).
光送信装置（１１０）のフレーム化装置（１１４）は、送信すべきデータのフレームに論理判定用ビットパターンを埋め込み、強度変調器（１１６）が、フレーム化装置（１１４）の出力電気信号に従いレーザ（１１２）の出力レーザ光を強度変調する。 - 特許庁 - To provide a communication terminal allowing a user to acquire information from the outside without being aware thereof, and capable of starting a specific operation based on the information from the outside, to provide a method of receiving a light emission pattern in the same, and to provide a program of the communication terminal.
使用者が意識することなく外部から情報を取得でき、また、外部からの情報に基づいて特定の動作を開始できる通信端末装置、通信端末装置における発光パターンの受光方法、通信端末装置のプログラムを提供する。 - 特許庁 - In the pattern habit visualizing apparatus 1, a control part 3 determines a shadow and occlusion which are generated by a visual point and a light source in one or more angular directions set by an operator or previously determined in an inputted height field in each pixel.
柄癖可視化装置１において、制御部３は、入力されたハイトフィールドに対して、操作者により設定されるか、或いは予め定められた一つまたは複数の角度方向に視点及び光源により生じる陰影及びオクルージョンを画素毎に判定する。 - 特許庁 - To provide a lighting fixture for a vehicle structured to form an additional light distribution pattern for high beams, in which visibility of a vehicle front region is enhanced without giving a glare to a driver of an oncoming vehicle or a preceding vehicle and moreover power consumption is suppressed to the minimum.
ハイビーム用の付加配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、対向車や先行車のドライバにグレアを与えてしまうことなく車両前方領域の視認性を高め、かつ、消費電力を最小限に抑える。 - 特許庁 - The pellicle frame 21 includes an inner wall tacky adhesive material 33 on the inner wall and is placed at a position where the pellicle frame 21 has never been directly irradiated with the first order diffracted light 51 diffracted by the grating portion of the mask pattern 12.
ペリクルフレーム２１は、内壁面に内壁粘着材３３が設けられており且つ露光光５０の、マスクパターン１２の格子状の部分において回折された１次回折光５１が、ペリクルフレーム２１に直接照射されることがない位置に設けられている。 - 特許庁 - In this wondrous sheet, at the erasing regions 2 and 3, air layers are formed between the seal 7 and air so as to change the refractive index of light at the boundary lines of the air layers in order to erase the erasing regions 2 and 3, and the changeable picture pattern is realized.
この不思議シートは、前記消去領域２及び３にシール７と水との間に空気層を形成し、その境界線で光の屈折率を変えることにより前記消去領域２及び３を消して変化のある絵模様とすることができる。 - 特許庁 - During such a process that a solder resist 4a is applied and tentatively hardened onto an insulated substrate 2 on which a conductor pattern 3 is formed and the solder resist 4a is exposed to ultraviolet radiation through an exposure mask film 5, ultraviolet light is selectively diffused to form a solder resist 4.
導体パターン３が形成された絶縁基板２上にソルダレジスト４ａを塗布、仮硬化し、露光用マスクフィルム５を介しソルダレジスト４ａを紫外線で露光する工程において、紫外光を選択的に拡散させてソルダレジスト４を形成する。 - 特許庁 - When a photosensitive resist 2 is exposed through a mask 1 having optical windows 11, 12 and an isolated light shield 142 and developed to form an isolated resist pattern 22, a mask width W10 of the shield 142 is set to 80-97% of an exposure wavelength λ.
光学的窓１１，１２及び孤立遮光体１４２を有するマスク１を通して感光性レジスト２を露光し、現像して孤立レジストパターン２２を形成する際、孤立遮光体１４２のマスク幅Ｗ１０を、露光波長λの８０〜９７％にする。 - 特許庁 - This light screening and protecting mat is obtained by using an acrylic synthetic resin emulsion as a main agent, providing the emulsion with an absorption pattern capable of absorbing ≥90% ultraviolet rays in the sunshine to give a coating material and coating a nonwoven fabric with the coating material in a prescribed thickness.
アクリル系合成樹脂エマルジョンを主剤として、これに少なくとも太陽光中の紫外線を９０％以上吸収しうるよう吸収パターンを定め、かくして得られたコーティング材を所要厚みで不織布へコーティングして成る遮光保護マット。 - 特許庁 - In addition to headlamp tool units 3 (3L, 3R) fitted at a front face of the vehicle, rainy-weather additional lamps 4 (4L, 4R) are provided having a light distribution pattern for illuminating white-line areas LWE, RWE and a faraway area FE of a vehicle-front road face.
車両前面位置に設定した前照灯具ユニット３（３Ｌ，３Ｒ）に加え、車両前方路面の白線領域LWE,RWEおよび車両前方路面の遠方領域FEを照射する配光パターンを持つ雨天用追加灯４（４Ｌ，４Ｒ）を設定した。 - 特許庁 - The method for operating the computer input device with the context-awareness function includes steps for detecting sound source data from a sound source control module 104 of a computer system and driving an input device 114 based on the sound source data to generate a corresponding light emission pattern.
コンテキストアウェアネス機能を備えるコンピュータ入力装置の操作方法は、コンピュータシステムの音源制御モジュール１０４からの音源データを検出するステップと、音源データを基に、入力装置１１４を駆動し、対応した発光パターンを生成するステップと、を含む。 - 特許庁 - The photomask with the dustproof device comprises superposing a transparent substrate permitting the transmission of UV rays on the light shielding film pattern surface side of the photomask and discharging and removing the air between the photomask and the transparent substrate thereby firmly sticking and bonding together the photomask and the transparent substrate.
フォトマスクの遮光膜パタ−ン面側に紫外線を透過する透明基板を重ね合わせ、フォトマスクと透明基板との間の空気を排気除去することにより、フォトマスクと透明基板とを密着して貼り合わせたことを特徴とする防塵装置付きフォトマスク。 - 特許庁 - The light transmitted by the hologram substrate 3 is imaged in sample liquid 7 retained on the transparent substrate 6 via a projection optical system 4 and, thereby, holograms of various patterns in accordance with the pattern shapes of the hologram substrate 3 are formed in the sample liquid 7.
ホログラム基板３を通った光は、投影光学系４を介して、透明基板６上に保持された試料液７中で結像され、それによって、ホログラム基板３のパターン形状に応じた様々なパターンのホログラムが試料液７中に形成される。 - 特許庁 - To provide a method for forming a metallic wiring of a semiconductor element using a titanium aluminum nitride anti-reflection film for preventing reflection effectively and forming a minute metallic wiring pattern more accurately in an exposing step with short-wavelength light like DUV.
ＤＵＶのような短い波長の光で実施する露光工程で效果的に反射を防止して微細金属配線パターンをより正確に形成できる、チタニウムアルミニウムナイトライド反射防止膜を利用した半導体素子の金属配線の形成方法を提供。 - 特許庁 - After the photoresist pattern and antireflective film are removed, the silicon nitride film 29 is etched by plasma etching using the silicon nitride film 30 as an etching mask while a light emission spectrum due to byproducts of reaction between nitrogen in the silicon nitride film 29 and etchant gas is monitored.
フォトレジストパターンおよび反射防止膜を除去した後、窒化シリコン膜２９中の窒素とエッチャントガスとの反応生成物に起因した発光スペクトルをモニタしながら、酸化シリコン膜３０をエッチングマスクとして用いて窒化シリコン膜２９をプラズマエッチングによりエッチングする。 - 特許庁 - A bearing member 4 to support respective one ends of guide shafts 6, 7 is attached to the chassis 1 with the inclination of the member 4 adjustable, and the bearing member 4 is provided with a part 14 to arrange the light receiving and emitting element 12 to detect the encode pattern on the back face of the turntable 2.
ガイドシャフト６，７の一端を支持する軸受け部材４をシャーシ１に対して傾き調整可能に取り付ける共に，ターンテーブル２裏面のエンコードパターンを検出する受発光素子１２を設置する設置部１４を前記軸受け部材４に設ける。 - 特許庁 - The light- shielding paint 20 supplied on a paint supply face 23b of the plate 21 is made to pass through the pattern 30 as the plate 21 is moved toward the connecting direction with the outer tube 12 and the outer tube 12 is rotated with the plate 21 and the outer tube 1 in contact with each other.
版２１と外管１２との接触下で、版２１を外管１２の接線方向に移動させるとともに外管１２を回転させながら、版２１の塗料供給面２３ｂ上に供給された遮光塗料２０をパターン３０に通過させる。 - 特許庁 - As the photomask 2, a general purpose polyester film coated with a photosensitive material is used, and after a pattern is formed, it is brought into close contact with a mold 1' molded into the same shape as that of the mold 1 by vacuum molding or the like and coated with a photoresist, and is exposed to a light and is then, developed.
フォトマスク２として汎用のポリエステルフィルム上に感光性材料を塗布したものを用い、パターン形成後、真空成形等で金型１と同じ形状に成形してフォトレジストを塗布した金型１´と密着、露光、現像するようにした。 - 特許庁 - The recording and reproducing device performs recording by a multiphoton absorption process to a recording material in a multilayer recording medium, wherein the interference pattern of recording light is generated and consequently a fine structure is introduced to a recording mark in the multilayer recording medium.
多層記録媒体中の記録材料に多光子吸収過程により記録を行う記録再生装置において、記録光の干渉パターンを生じさせることにより、前記多層記録媒体中の記録マークに微細構造を導入した構成となっている。 - 特許庁 - A lighting tool system 100 for a vehicle includes: a lighting tool for an vehicle 70 in which a cutoff line extended in the vehicle width direction can be moved in the vertical direction in a light distributing pattern for a low beam; and a control part which controls the movement quantity of the vertical direction of the cutoff line.
車両用灯具システム１００は、ロービーム用配光パターンにおいて車幅方向に延びるカットオフラインを上下方向に移動可能な車両用灯具７０と、カットオフラインの上下方向の移動量を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁 - An image of the measuring object projected by this light pattern is shot with a camera and a phase ϕ1 corresponding to the sine signal with the basic cycle and a phase ϕ2 corresponding to the sine signal with the double cycle are calculated based on this image shot.
このような光パターンが投射された計測対象物体を画像をカメラで撮影し、この撮影した画像に基づいて、基本の周期の正弦波信号に対応する位相φ_１と２倍の周期の正弦波信号に対応する位相φ_２とが計算される。 - 特許庁 - To provide a positive photosensitive composition capable of forming a resist pattern good in sensitivity and resolution at the time of using an exposure light of ≤250 nm, especially, ≤220 nm, and by using a specified resin which has repeated units and is decomposed by acid to increase solubility to alkaline developing solution.
２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以下の露光光源の使用時に、良好な感度及び解像度で、密着性に優れた現像欠陥の少ないレジストパターンを与え、更に充分な耐ドライエッチング性を示すポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - The pattern drawing device 1 has functions of detecting a shift amount in the relative position of respective alignment cameras 41 to 44 with respect to pulse light projected from an optical head 32 and correcting an alignment amount of a substrate 9 and a starting position of drawing on a substrate 9 based on the detected shift amount.
パターン描画装置１は、光学ヘッド３２から照射されるパルス光に対する各アライメントカメラ４１〜４４の相対位置のずれ量を検出し、そのずれ量に基づいて基板９のアライメント量および基板９の描画開始位置を補正する。 - 特許庁 - The negative photosensitive resin composition is spin-coated and dried on a semiconductor substrate 1 on which a first conductor layer 3, a second conductor layer 7 and an interlayer insulating film 4 have been formed, and light is illuminated through a mask of a pattern for forming a window 6C in a predetermined portion.
第１導体層３、第２導体層７及び層間絶縁膜４が形成された半導体基板１に、ネガ型感光性樹脂組成物をスピンコートして乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンのマスク上から光を照射する。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing device and an alignment method by which drawing can be carried out at an accurate position on a substrate even when a positional relation between a light irradiating unit and an alignment camera changes, without using a high-performance driving mechanism for the alignment camera.
アライメントカメラに高性能な駆動機構を使用することなく、光照射部とアライメントカメラとの位置関係が変化した場合であっても、基板上の正確な位置に描画を行うことができるパターン描画装置およびアライメント方法を提供する。 - 特許庁
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