「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 127 128 129 130 131 132 133 134 135 .... 141 142 次へ＞- The effective detecting sensitivity of each photodetecting area 112 of a photodetector 106, is such that the effective photodetection sensitivity of a part where one light part of the first shading pattern group or the second shading pattern group is formed is higher than the photodetection sensitivity of the other part in the photodetection area, and the other part in the photodetecting area is formed as an area 118 having low or no photodetection sensitivity.
そこで、光検出器１０６の各受光エリア１１２の実効的な検出感度を、上記第１の明暗パターン群あるいは第２の明暗パターン群の何れか一方の明部が形成される部分の実効的な受光感度が、受光エリアの他の部分の受光感度よりも高くなるように、上記受光エリアの他の部分を、受光感度の低い又は無い領域１１８として形成する。 - 特許庁 - The photo development equipment includes a developing solution supplier for supplying a negative development solution; and a first photo apparatus to form a positive photoresist pattern, by using a positive photoresist containing a novolac resin as a base and containing an acrylic resin with the above negative development solution, wherein the photoresist pattern is necessary for forming a black matrix by patterning a light-shielding metal layer formed on a substrate.
本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第１フォト装備を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a corneal shape measuring device capable of increasing the number of transmission ring patterns without increasing the size of the whole device, extensively projecting the ring patterns of a cornea to be examined, and obtaining the sufficient illumination quantity with a minimum light source by substantially setting the distance between the outermost transmission ring pattern and the cornea to be the same as the distance between the innermost transmission ring pattern and the cornea.
装置全体を大型化することなく、透光リングパターンの数を増やして、被検眼角膜の広範囲にリングパターンのを投影できると共に、最も外側の透光リングパターンと被検眼角膜との距離をその内側の透光リングパターンと被検眼角膜との距離と略同じにして、最小限の光源で十分な照明光量を得ることができる角膜形状測定装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.
ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The aligner comprising an illumination optical system for illuminating the pattern of an original plate, and a projection optical system for guiding light from the pattern onto a substrate and exposing the substrate is further provided with at least one reflective member, and a noncontact pressure applying means for applying a force to at least one reflective member such that gravitational deformation thereof is reduced.
原版のパターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を基板上に導く投影光学系とを有し、前記基板を露光する露光装置であって、前記露光装置が少なくとも１つの反射部材と、前記少なくとも１つの反射部材の自重変形量が小さくなるように、前記少なくとも１つの反射部材に対して非接触に力を加える加力手段を有する。 - 特許庁 - The aberration correction liquid crystal element is provided with a first electrode arranged on the laser light source side and having a first electrode pattern for correcting aberration concerning a first optical disk, a second electrode arranged on the optical disk side and having a second electrode pattern for correcting aberration concerning a second optical disk of a type different from the first optical disk, and a liquid crystal held between the first electrode and the second electrode.
収差補正用液晶素子は、レーザ光源側に配置され、第１の光ディスクに関する収差を補正する第１の電極パターンを有する第１電極と、光ディスク側に配置され、第１の光ディスクとは種類の異なる第２の光ディスクに関する収差を補正する第２の電極パターンを有する第２電極と、第１電極と第２電極との間に狭持された液晶とを備えている。 - 特許庁 - To provide a method for forming a fine and accurate pattern even on a substrate having high reflectivity, a substrate or the like in which a transparent film is interleaved by solving a problem (deterioration of a dimensional accuracy) due to halation or interference of a reflected light from the substrate and conducting an accurate mask alignment.
基板からの反射光によるハレーションや干渉現象による問題（寸法精度劣化）を解決し、精度の高いマスクアライメントを行うことで、反射率の高い基板，透明膜が介在する基板等においても微細で高精度のパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁 - An illumination optical system 20A of this pattern inspection device guides incoherent light emitted from an emission face F of an optical fiber array 21 toward a long and narrow illumination region R formed on the surface of a printed circuit board 7 by using nonaxisymmetric image formation elements such as a cylindrical lens 22 or the like.
パターン検査装置の照明光学系２０Ａは、オプティカルファイバーアレイ２１の出射面Ｆから出射されるインコヒーレント光を、シリンドリカルレンズ２２などの非軸対象結像要素を用いて、プリント基板７の表面に形成される細長形状の照明領域Ｒに対して導く。 - 特許庁 - Alternatively, the light collected by the collectors 38, 52 is filtered by a spatial filter having a circular gap of an angle related to angle difference of expected pattern scattering, and the signals obtained from a narrow angle and a wide angle collection channels may be compared to distinguish between micro-scratches and particles.
あるいは、集束器３８，５２によって集束された光線は、予測されるパターン散乱の角度差に対応する角度の環状ギャップを有する空間フィルタによって濾波され、狭角および広角集束経路から得た信号は比較され、マイクロスクラッチと粒子との間を識別する。 - 特許庁 - When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before.
レチクルＲ１のパターンを投影光学系ＰＬを介して露光する際には、ＴＴＬ方式のレチクルアライメント顕微鏡５Ａ，５Ｂによって基準マーク３４Ａ，３４Ｂの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ２３Ａを駆動する。 - 特許庁 - In addition to the variable display of patterns by the rotating conveyance of a pattern display tape, specific information such as character information which a player can understand is displayed by the lighting control of first to ninth light emission diodes to suggest the subsequent change state of a game state.
図柄表示テープの回転搬送による図柄の変動表示以外に、第１〜第９発光ダイオードの点灯制御によって、遊技者が理解できる文字情報などの特定情報を表示して、その後の遊技状態の変化の様子を示唆するようにしている。 - 特許庁 - To realize high-speed modulation, and to prevent processing distortion and a mode pattern of an optical waveguide from remaining and being deformed in a substrate, respectively, in a traveling-wave optical modulator for modulating light traveling in an optical waveguide in an optical waveguide substrate formed out of a ferroelectric electro-optical single crystal.
強誘電性電気光学単結晶からなる光導波路基板中の光導波路中を伝搬する光を変調する進行波形光変調器において、高速変調を可能とし、基板内における加工歪みの残留、光導波路モードのパターンの変形を防止する。 - 特許庁 - The performance integrating device is so constituted as to output the stationary symbol specifying command to the picture control device and output the variation pattern detail specifying command including the detailed variation patterns as information to the picture control device, a sound control device and a light control device.
更に、演出統合装置を、停止図柄指定コマンドを画像制御装置に出力するとともに、詳細変動パターンを情報として含む変動パターン詳細指定コマンドを、画像制御装置、音制御装置および光制御装置に出力するように構成する。 - 特許庁 - A surface 130 to be measured is irradiated with an optical probe beam 112 having a uniform wave front, and a reflected probe beam 132, having a reflected wave front with distortions caused by the surface 130 is faced to a light-sharing interferometer device 101 to acquire an optical interference pattern.
均一な波面を有する光プローブビーム１１２を被計測表面１３０に照射し、表面１３０によって引き起こされるひずみを帯びた反射波面を有する反射プローブビーム１３２を、光シェアリング干渉計デバイス１０１に向け、光干渉模様を取得する。 - 特許庁 - When an azobenzene polymer thin film is irradiated with a circular laser beam of linear polarization or a laser beam of an ellipse (or rectangular) having stripes of light and darkness, a surface relief pattern which is characterized in that k concave parts and (k+1) convex parts are arranged alternately on a straight line is obtained.
アゾベンゼンポリマー薄膜に直線偏波した円形のレーザー光、もしくは明暗の縞を有する楕円（又は矩形）のレーザー光を照射すると、ｋ個の凹部と（ｋ＋１）個の凸部が交互に一直線上に配置されることによって特徴づけられる表面レリーフパターンが得られる。 - 特許庁 - A pattern detection section 3 receiving video information of a camera 4 decides whether or not video information of a light emission unit 12 is included in the video information from the camera 4 and the position and the size of the video information on a screen when included.
カメラ４の映像情報をパターン検出部３に入力し、パターン検出部３では予め決めておいた発光装置１２の映像情報がカメラ４からの映像情報に含まれているか否か、また、含まれている場合にはその画面上の位置と大きさを判定する。 - 特許庁 - This aligner for cathode ray tube panels is provided with a light source 36 to expose the photosensitive fluorescent surface forming layer of a face panel, and an inclination correcting lens 39 to correct inclination of a pattern printed on the photosensitive fluorescent surface forming layer with respect to the short axis Y of the face panel.
陰極線管用のパネルの露光装置は、フェースパネルの感光性蛍光面形成層を露光するための光源３６と、感光性蛍光面形成層に焼き付けられるパターンのフェースパネルの短軸Ｙに対する傾斜を補正する傾斜補正レンズ３９と、を備えている。 - 特許庁 - To provide a test pattern image for correcting a color shift when applied to an image forming method using toner so controlled as to maintain a color developing or non-color-developing state upon provision with color development information by light; a color shift correction method; and an image forming apparatus.
光による発色情報の付与により発色または非発色の状態を維持するように制御されるトナーを用いた画像形成方法に適用した場合に、色ずれを補正することができる、テストパターン画像、色ずれ補正方法、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - The image display apparatus for monochrome display or full-color display is also provided which is the image display apparatus, wherein the light absorption layer is black or formed from at least four colors, i.e., cyan, magenta, yellow and black, and forms a matrix pattern in which the colors are regularly arranged.
前記光吸収層が黒色であること、もしくは少なくともシアン、マゼンタ、イエロー、黒の４色からなり、各色を規則的に配列させてマトリックスパターンを形成させていることを特徴とする前記記載の白黒表示用、もしくはフルカラー表示用の画像表示装置。 - 特許庁 - When a quartz substrate 11 having a pattern of a light shielding film 12 formed on the surface is subjected to etching by using reactive gas plasma, the thickness of the quartz substrate 11 is determined so that the transmittance for the high frequency voltage which transmits through the quartz substrate 11 is ≥80%.
表面に遮光膜１２によるパターンが形成された石英基板１１を反応性ガスプラズマを利用してエッチングする際、石英基板１１の厚さを、当該石英基板１１を透過する高周波電圧の透過率が８０％以上になる様に設定する。 - 特許庁 - At this time, a printing timing by the thermal head 15 is determined on the basis of a draw-out amount of the laminate tape 3 from the roller 40 which is detected by applying light to a periodic pattern printed to the transfer separator 31 by a draw-out amount detector 16.
このとき、サーマルヘッド１５での印刷タイミングは、引出量検出器１６によって、搬送用セパレータ３１に印刷された周期的パターンに対して光が照射されることによって検出された積層テープ３のローラ４０からの引き出し量に基づいて決定される。 - 特許庁 - Since a convex portion of the first interlayer insulating film 92 having a height corresponding to the film thickness of the first Al layer 94 exists on the light receiver where the pattern of the first Al layer 94 is not formed, the surface of a second interlayer insulating film 96 laminated thereon is formed flatly.
第１Ａｌ層９４のパターンが形成されない受光部に、第１Ａｌ層９４の膜厚に応じた高さの第１層間絶縁膜９２の凸部が存在することで、その上に積層される第２層間絶縁膜９６の表面が平坦に形成される。 - 特許庁 - In the process of forming the light shielding pattern, a photosensitive resin layer consisting of (a) a heat-cohesive binder consisting of at least an organic polymer, (b) a compound having at least one ethylenic double bond having radical polymerizing property and (c) a photopolymerization initiator is used.
なお、遮光パターンの形成工程において、少なくとも有機重合体からなる熱粘着性の結合剤（ａ）、ラジカル重合性を有するエチレン性二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）とからなる感光性樹脂層を用いることも含まれる。 - 特許庁 - This headlamp includes illumination direction control means 21 (22, 120) deflecting the illumination direction of a lamp unit 110 capable of performing illumination in a light distribution pattern not dazzling an oncoming vehicle and capable of changing the illumination direction, toward the side of an oncoming lane when the vehicle travels straightly, and an oncoming vehicle detection means 34 capable of detecting the oncoming vehicle.
対向車を眩惑しない配光パターンでの照明が可能で、かつ照射方向を変化させることができるランプユニット１１０を車両の直進走行時に照射方向を対向車線側に向けて偏向させる照射方向制御手段２１（２２，１２０）を備える。 - 特許庁 - To provide a backlight structure for a flat light source unit such as a liquid crystal display in which a defect of a yellow-brown color of a resin component such as a polyimide resin in a FPC appearing when switched on on a display or a lighting face and the like in yellow lines (dark lines) and a pattern can be eliminated and a cost can be reduced.
ＦＰＣのポリイミド樹脂等の樹脂成分の黄褐色が点灯時に表示面や照明面等に黄線（暗線）やパターンとなって現れると言う欠陥を除去しつつ、コスト的にも安価となる液晶表示装置等の面光源装置用のバックライト構造体を提供する。 - 特許庁 - To provide a polymer which is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, is little in defects, when developed, and is excellent in copolymerizability with other monomers, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.
ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - By using an element which can respectively set light intensity distribution emitted in the direction of giving parallax as a minimum unit constituting a pixel, pixels are arrayed nearly in the state of stripe or nearly in the state of matrix to form a three-dimensional pattern consisting of a (first) segment group.
画素を構成する最小単位として、視差を持たせる方向に射出する光強度分布を個別に設定することが可能な素子を用い、略ストライプ状または略マトリクス状に画素を配列して（第１の）セグメント群からなる３次元パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a photomask that can decrease changes in a polarization state of exposure light induced by the mask itself and transfer a preferable fine image onto a wafer in photolithography with a 45 nm half pitch node or further advanced techniques, and to provide a method for easily manufacturing the mask and a pattern forming method using the photomask.
ハーフピッチ４５ｎｍノード以降のフォトリソグラフィにおいて、マスク自身により誘引される露光光の偏光状態の変化を緩和し、良好な微細画像をウェハ上に形成するためのフォトマスク、および簡易なその製造方法、さらに、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The 2nd positioning part includes a light-transmissive positioning plate with a design position defining pattern for defining the design position in a planer direction orthogonal to the optical axis direction of the optical modulator relative to the color-combining optical device when being held by the placing part main body 50A.
第２位置決め部は、載置部本体５０Ａに保持された際に色合成光学装置に対する光変調装置の光軸方向に直交する平面方向の設計位置を規定する設計位置規定パターンが形成された透光性の位置決めプレートを備える。 - 特許庁 - In the LED 1, one of the electrodes provided on the backside of the light-emitting element 2 is connected to the top of a through-hole 5 which is filled with solder 6 through the gold bump 7a and the other electrode is connected to a conductor pattern 4 insulated from the through-hole 5 through the other gold bump 7b.
ＬＥＤ１においては、ハンダ６で充填されたスルーホール５の上に発光素子２の裏側の電極の一方が金バンプ７ａで接続され、電極の他方がスルーホール５と絶縁された側の導電性パターン４の上に金バンプ７ｂで接続されている。 - 特許庁 - Or, the environment of the film is changed, temporarily retained on a surface of a cathode ray tube 9, a light is emitted from the tube 9, and the presence or absence or a moire-like protrusion and recess surface generated by interfering with its black matrix pattern is visually inspected, thereby detecting the presence or absence of the irregularities on the surface of the film.
または、機能性フィルムの設置環境を変化させて陰極線管の表面に仮留めし、陰極線管を発光させてそのブラックマトリクスパターンと干渉して発生するモアレ状のムラの有無を目視で検査して、機能性フィルム表面の凹凸の有無を検出する。 - 特許庁 - A positive-type photosensitive material 7 is applied over an entire front face 1a of the substrate 1, and exposure is carried out from the rear face 1b side of the substrate 1 through a diffusion plate 9 to make irradiate the positive-type photosensitive material layer 7 irradiated in a wide angle manner light from the openings of the pattern 3a (D).
表面１ａ上全面にポジ型感光性材料７を塗布した後、石英基板１の裏面１ｂ側から拡散板９を介して露光し、露光を遮光膜パターン３ａの開口部分から広角的にポジ型感光性材料層７に照射する（Ｄ）。 - 特許庁 - (1) This is a manufacturing method of a flexible optical disk to be irradiated with light intermittently in a process in which a concavo-convex minute pattern of a stamper is transferred to a transfer layer which includes a photocurable resin in manufacturing the flexible optical disk which has at least a film substrate, a transfer layer and a recording layer.
（１）少なくとも、フィルム基板と転写層と記録層を有するフレキシブル光ディスクを作製するに当り、スタンパの凹凸微細パターンを光硬化性樹脂からなる転写層に転写する工程において、断続的に光を照射するフレキシブル光ディスク作製方法。 - 特許庁 - On the frame of the replaceable part such as a process unit, a toner cartridge, a tone bolt to be used in the state of being attachable and detachable to/from the device main body of the image forming apparatus such as the electrostatic copying device, the printer, a hologram (container identification code) 7 having the light reflecting layer of a fine recessed and projecting pattern 71 is carved.
静電式複写装置、プリンタなどの画像形成装置の装置本体に対して着脱自在に使用されるプロセスユニット、トナーカートリッジ、トナーボトルなどの交換可能部品の枠体上に、微細な凹凸模様７１の光反射層を有するホログラム（容器識別コード）７を刻設する。 - 特許庁 - In an integrated optical element 50, a heatsink 51 provided with a light source 1 and a photodetector 5 is installed with inclination to a holding substrate 54, through which this heatsink 51 penetrates, i.e., the heatsink 51 is installed with an optical axis of an irradiating laser beam tilted to a plane, on which a pattern of the holding substrate 54 is formed.
集積光学素子５０で、光源１と光検出器５を設けたヒートシンク５１をこのヒートシンク５１が貫通している保持基板５４に対して、ヒートシンク５１は、照射レーザ光の光軸が保持基板５４のパターンが形成された面に対して傾斜して設置する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device having an improved detection ability by inspecting a film or a pattern comprising an inorganic substance/inorganic compound by using a light in a wavelength range suitable for wavelength dependency carried by a refractive index, an extinction coefficient and a surface reflectivity of the substance.
無機物／無機化合物から成る膜またはパターンを、その物質の屈折率，消光係数、および表面反射率が持つ波長依存性に関して好適な波長範囲の光を用いて検査することにより、向上した検出能力をもつ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - The regulation of a low beam attitude of the shade 5 in the three directions can regulate the position of the low beam attitude of the shade 5 with high precision to ensure a given low beam light distribution pattern LP with high precision, even without a request for high precision tolerance to the solenoid 6.
この結果、シェード５のロービーム姿勢を３方向において規制することにより、ソレノイド６に対して高精度の公差を要求しなくとも、シェード５のロービーム姿勢を高精度に位置規制することができ、所定のすれ違い用の配光パターンＬＰが高精度に得られる。 - 特許庁 - There are provided: a light transmitting electromagnetic wave shielding film provided with a printing pattern having silver as a main component and an anticorrosive (preferably thiol and a disulfide compound) on a transparent substrate; a film for display panels using the same; an optical filter for display panels; and a plasma display panel.
透明基材上に、銀を主成分とする印刷パターンと防錆剤（好ましくはチオール及びジスルフィド化合物）とを備えてなることを特徴とする透光性電磁波シールド膜、これを用いたディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター及びプラズマディスプレイパネル。 - 特許庁 - In the method for forming a pattern by performing exposure and development with respect to the photosensitive layer, the cover film for photosensitive layer is disposed and used on the photosensitive layer and has a total light transmittance of 70% or higher for a laser beam of wavelength 405 nm.
感光層に対して、露光・現像を行うことによりパターンを形成する方法において、前記感光層上に配置されて用いられ、４０５ｎｍの波長のレーザ光に対する全光線透過率が７０％以上であることを特徴とする感光層カバーフィルムである。 - 特許庁 - The manufacturing method of the light guide plate using a base material made of thermoplastic resin includes a process of forming a pattern on at least one of the surfaces of the base material, and a process of giving curved surface shapes after that by a thermal bending process.
熱可塑性樹脂からなる基材を用いた導光板の製造方法であって、前記基材の少なくとも一方の表面にパターンを形成する工程と、その後熱曲げ加工により曲面形状を付与する工程と、を有すること特徴とする導光板の製造方法である。 - 特許庁 - To adjust the position of reflection light to a sensor pattern on a photo detector smoothly by adding a simple configuration in an optical pickup device for dynamically switching an objective lens where a laser beam enters by a polarization conversion element and a polarization beam splitter.
偏光変換素子と偏光ビームスプリッタを用いてレーザ光が入射される対物レンズを動的に切り替える光ピックアップ装置において、簡単な構成の追加により円滑に、光検出器上のセンサパターンに対する反射光の位置調整を行えるようにする。 - 特許庁 - Thus, only the pattern information is visually recognized in an ordinary viewing state and, when irradiated with two types of light sources having the irradiation angle suitable for the two types of diffraction gratings, a concealed image is decrypted and becomes readable since two encrypted images are visually recognized simultaneously.
これにより、通常の観察状態では絵柄情報のみが視認されるが、前記２種の回折格子に適合した照射角を持つ２種の光源が照射された際には、２つの暗号画像が同時に視認されるため隠蔽された画像が復号され判読可能となる。 - 特許庁 - In the photomask used for performing pattern exposure to a substrate on the surface of which a photosensitive resist film is applied, the light transmission quantity at a region where the development irregularity occurs is reduced corresponding to the coating film thickness of the photosensitive resist or to the development irregularity of the photosensitive resist.
表面に感光性レジスト膜を塗布した基板にパターン露光を行うフォトマスクにおいて、前記感光性レジストの塗布膜厚に対応して、あるいは前記感光性レジストの現像ムラに対応して、前記現像ムラを生じた部位の光透過量を低減したことを特徴とするフォトマスクである。 - 特許庁 - The flat part 42 portion is made flat unbroken facing the pattern display device 55, the starter scoring device 58 and the major scoring slot 59 as vital components and is kept from generating rainbow-like emission associated with the refraction of light thereby eliminating the possibility of making players feel uncomfortable.
重要な構成要素である図柄表示装置５５、始動入賞装置５８及び大入賞口５９に対面する平面部４２部分が一連の平面状とされていて、光の屈折に伴う虹状の発色が生じないから視認性が良く、遊技者が不快を感じるおそれがない。 - 特許庁 - The image processing means 7 captures the movement of a concentration pattern by the reflected light of the tracer material moving during the photographing time between a plurality of screens, determines the moving direction and moving quantity of the tracer material on the basis of a prescribed change of the movement, and displays it by a numerical or vector indication.
画像処理手段７は、複数の画面間で撮影時間中に移動するトレーサ材の反射光による濃度パターンの動きを補足し、その動きを所定の変化に基づいて前記トレーサ材の移動方向および移動量を求め数値やベクトル表示により表示する。 - 特許庁 - The frame cover is a bottomed hollow body 10 with a bottom 10b having a slanting opening 12 for surrounding the illuminating lamp, and a hologram reflection surface 14 is formed on the circumferential wall inner surface facing the opening 12, and hologram reflection pattern light is viewed from the opening 12.
照明灯を囲うための、斜めの開口部１２を有する有底１０ｂの中空体１０で少なくもその開口部１２と対向した周壁内面にホログラム反射面が構成され（１４）、照明灯の照射により反射したホログラム模様光が開口部１２より観賞されるようにする。 - 特許庁 - To provide a sliding door, on which a colorful variation shape or pattern can be expressed on the surface of a sliding door body as a shadow picture when light is irradiated from the rear-side direction of the sliding door body in spite of a profound main sliding door normally having the taste of a tradition.
通常では伝統の味わいを有する重厚な本襖であるが、襖本体の裏面側方向から光を照射すると襖本体の表面に多彩なバリエイションの形状ないしパターンを影絵のように浮かび上がらすことができるようにした襖とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A light emission film pattern 20 having a forming width Wp1 larger than the aperture width Wm1 of an aperture 7U made in the mask 7 by making use of the phenomenon that a film deposition substance emitted from the film deposition source 2 passes through the aperture 7U in the mask 7, and then, diffuses.
成膜源２から放出された成膜物質がマスク７の開口７Ｕを通過したのち拡散する現象を利用して、マスク７に設けられた開口７Ｕの開口幅Ｗｍ１よりも大きな形成幅Ｗｐ１を有する発光膜パターン２０を形成することが可能になる。 - 特許庁 - To provide a method for calculating display characteristics correction data for an image display apparatus, capable of calculating correct correction data at all times, even when abnormality data are captured as photographing data due to changes in the external light or blocking-off of photographing by an obstacle in the case of photographing a test pattern.
テストパターンの撮影時に外光が変化したり障害物で撮影が遮られて撮影データに異常なデータが取り込まれたりした場合でも、常に正しい補正データを算出できる画像表示装置の表示特性補正データ算出方法を提供する。 - 特許庁 - Before inspecting an inspection object 1, the light quantity of a test pattern 1a is measured with an accumulation type line sensor 7, whether the measurement results are within a predetermined reference value range is judged, calibration is conducted according to the judgment, and then the inspection object 1 is inspected.
検査対象１を検査する前には、テストパターン１ａの光量を蓄積型ラインセンサ７で測定し、測定結果が予め定められている基準値範囲内に入っているかを判断し、それに応じてキャリブレーショウンを行い、その後に検査対象１を検査する。 - 特許庁
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