「light pattern」を含む例文一覧(7056)
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表示パネル用基板製造方法は光透過性基板上に有機絶縁膜を形成する成膜工程と、第１開口および第１開口よりも小さい第２開口が有機絶縁膜を貫通して形成されるように有機絶縁膜をパターニングするパターニング工程とを備える。 - 特許庁 - To provide a surface-mounting light-emitting device for preventing cracks from being generated at a junction for connecting an electrode for external connection in a package to a circuit pattern, in a wiring board caused by the difference in the thermal coefficient of expansion between the packaging substrate of the package and the wiring board.
パッケージの実装基板と配線基板との熱膨張率の差に起因して、パッケージの外部接続用電極と配線基板の回路パターンとの間を接続している接合部にクラックが生じるのを防止することができる表面実装型発光装置を提供する。 - 特許庁 - The reflection planes 3U, 3D, 3L, 3R are constructed by deforming a fundamental ellipsoid of revolution 200 and further deforming the part forming left and right sides of light distribution pattern (a left side reflection face 3L and a right side reflection face 3R) out of deformed ellipsoid of revolution (203).
また、基本回転楕円面２００を変形させ、かつ、この変形された回転楕円面２０３のうち配光パターンの左右両端部を形成する部分（左側の反射面３Ｌおよび右側の反射面３Ｒ）をさらに変化させて反射面３Ｕ、３Ｄ、３Ｌ、３Ｒを構成するものである。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern by a liquid immersion method by which follow-up property of a liquid for liquid immersion exposure along a lens for liquid immersion exposure can be improved without decreasing water-repelling property, and transparency to light at a wavelength of 193 nm or 157 nm can be improved.
撥水性を損なうことなく、液浸露光用液体の液浸露光用のレンズへの追随性を向上させ、また１９３ｎｍや１５７ｎｍの波長の光に対する透明性なども改善することができる液浸法によるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Then the insulating layer 4 is exposed to an exposure light beam 6 through a photomask 5, baking processing is carried out after the exposure, and then development is carried out for an arbitrary development time by using an arbitrary developing solution to form the insulating pattern which is sectioned in the forward tapered shape or trailing shape.
その後、フォトマスク５を介して露光光線６により絶縁層４の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することにより順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成することができる。 - 特許庁 - The exposure method for illuminating a mask M1 with illumination light and exposing the substrate P using the mask pattern of the mask M1 includes scanning the substrate P relative to the mask M1 in a scanning direction which is an in-plane direction of the substrate P, and exposing the substrate P during relative scanning.
照明光でマスクＭ１を照明し、マスクＭ１のマスクパターンを用いて基板Ｐを露光する露光方法は、基板Ｐを、マスクＭ１に対して基板Ｐの面内方向である走査方向に相対走査させること、相対走査中に基板Ｐを露光することを含む。 - 特許庁 - The light-scattering film 3 is formed by applying a material prepared by adding a photosensitive resin consisting of an organic material as a binder to an inorganic material such as silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), titanium oxide (titania) or the like on the surface of the glass substrate 2 and by forming the desired rugged pattern by a photolithographic method.
光散乱膜３は、酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化チタン（チタニア）等の無機材料にバインダーとして有機材料から成る光感光性樹脂を添加したものをガラス基板２表面に塗布してフォトリソグラフ法により所望の凹凸形状に成形される。 - 特許庁 - To prevent light irradiated on a finger from entering an optical image from inside of the finger due to reflection on a surface skin of the finger, to obtain a vivid image of a vein pattern, in a vein image reader for reading an optical image of a vascular tissue in the illuminated finger by a solid imaging device.
照明された指内部の血管組織の光学画像を固体撮像素子により読み取るための血管画像読み取り装置において、指への照射光が指の表皮で反射して指内部からの光学画像に混入することなく、鮮明な血管パターンの画像を得る。 - 特許庁 - An exposure apparatus using an immersion lithography method includes a projection lens 31 for projecting an exposure light which transmits through the mask 22 having a design pattern to a resist film, and a solution supply unit 40 for temporarily storing an immersion solution 21A disposed between the resist film and the lens.
浸漬リソグラフィ法を用いる露光装置は、設計パターンを有するマスク２２を透過した露光光をレジスト膜に投影する投影レンズ３１と、レジスト膜とレンズとの間に配する浸漬溶液２１Ａを一時的に貯留する溶液供給部４０とを含んでいる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition having improved use efficiency of light, high sensitivity to i-line and h-line rays, showing proper pattern features and proper raw preservability, and to provide a photosensitive film containing the photosensitive composition and a method for manufacturing a printed board by using the photosensitive composition.
光の利用効率を向上させ、ｉ線及びｈ線の感度が高く、パターン形状が良好で、生保存性も良好な感光性組成物、該感光性組成物を含む感光性フィルム、及び、該感光性組成物を用いたプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - Besides, high-frequency components of respective transmissive grooves G1 to G5 are superposed on effective values of variation components corresponding to a basic period applied on the illumination light by the alternating transmission pattern, consequently, such the trouble that flickering remarkably arises is prevented following the mitigation of the moving image blurring.
また、交番する透過パターンによって照明光に与えられる基本周期に対応する変動成分実効値に対して各透過溝Ｇ１〜Ｇ５の高周波成分を重畳することになり、動画ボケの緩和に伴ってフリッカが顕著になることを防止できる。 - 特許庁 - In response to an access request from a reader/writer device 16 to information stored in a storage part 25 of an IC card part 10, a CPU 8 controls the light emission of an LED display part 3 with a pattern corresponding to the attributes of the access-requested information according to an IC card access display program 15.
ＣＰＵ８が、ＩＣカードアクセス表示プログラム１５に従って、ＩＣカード部１０の記憶部２５内に記憶されている情報に対するリーダ／ライタ装置１６からのアクセス要求に応じて、アクセス要求された情報の属性に応じたパターンでＬＥＤ表示部３を発光制御する。 - 特許庁 - The method includes a step of arranging a mask 1 and a glass substrate 12 in opposed relationship through a gap and transmitting monochromatic light through the glass substrate 12 to irradiate the mask 1 with it, and a step of discriminating the quality of the mask 1 on the basis of the interference fringe pattern formed between the mask 1 and the glass substrate 12.
マスク１とガラス基板１２とを間隙を介して対向配置し、ガラス基板１２を透過させてマスク１に単色光を照射する工程と、マスク１とガラス基板１２との間に形成された干渉縞パターンに基づいてマスク１の良否を判別する工程とを備える。 - 特許庁 - The jacket 12 is stripped by beaming laser light 23 on the jacket 12 to create a notched groove 15 and going through a notching step A, to form a jacket stripping section 14 in a desired pattern, and a punching step B in which the jacket stripping section is pressed with a pressing tool 31.
被覆材１２にレーザ光２３を照射して切込溝１５を入れることにより、所望パターンの被覆材除去部１４を形成する切込工程Ａと、被覆材除去部１４を押圧工具３１で押圧するパンチ工程Ｂとを経て、被覆材１２を皮剥ぎする。 - 特許庁 - In the optical path of the lighting optical system, the illuminating light projected upon the mask 27 is transformed to at least two luminous fluxes, which are inclined by the angles which vary depending upon the fineness of the pattern by means of a luminous flux transforming member 12 provided at a position, which is nearly conjugate to the mask 27 or its vicinity.
そして、照明光学系の光路中で、マスクと略共役な位置またはその近傍に設けられる光束変換部材１２によって、マスクに照射する照明光を、パターンの微細度に応じて決まる角度だけ傾いた少なくとも２つの光束に変換する。 - 特許庁 - To solve the problem wherein, when inspecting a defect by an image acquired by imaging a surface of a polycrystal silicon wafer such as a solar cell wafer by an imaging device, a pattern of a crystallite of the silicon wafer is imaged in a normal visible light illumination, and thereby discrimination from a defect existing on the surface is difficult.
太陽電池ウェーハなどの多結晶シリコンウェーハの表面を撮像装置で撮像した画像によって欠陥検査を行う場合、通常の可視光照明では、シリコンウェーハの結晶体の模様が撮像されて、表面にある欠陥との判別が困難である。 - 特許庁 - To provide an exposure mask for an aligner capable of approaching to a photoresist film with a light shielding pattern formed on a surface of a substrate to be processed when exposed, closely thereto or under a condition near to a close contact, even when protruded contamination exists on the surface of the substrate to be treated, and to provide a method of manufacturing the same.
被処理基板の表面に突起状の異物が存在しても、露光の際に遮光膜パターンを被処理基板の表面に形成されたフォトレジスト膜に密着、或いは密着に近い状態で接近させることが可能なアライナ用露光マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The interference type filter layers 31, 32 and 33 for B, R and G are respectively pattern-formed corresponding to a pixel electrode 41b for B, a pixel electrode 41r for R and a pixel electrode 41g for G and laminated each other through light transmissive interlayer films 35, 36 and 37.
Ｂ，Ｒ，Ｇ用の干渉型フィルタ層３１，３２，３３を、それぞれＢ用の画素電極４１ｂ，Ｒ用の画素電極４１ｒ，Ｇ用の画素電極４１ｇに対応してパターン形成し、これらをそれぞれ透光性の層間膜３５，３６，３７を介して互いに積層する。 - 特許庁 - Therefore, although the eight kinds of sheets, when visually observed, seem to have the same pattern which is recognized as a design glittered by reflected light in the grooves, codes embedded therein can be recognized with the area of the thick black line as "1" and the area of the thin black line as "0" by mechanical image reading.
このため、肉眼観察時には、８種類のシートは、同一の模様を有し、溝内の反射光によりキラキラ光るデザインとして認識されるが、機械により画像を読み取れば、太い黒線の領域が「１」、細い黒線の領域が「０」として、埋め込まれたコードが認識される。 - 特許庁 - A start switch 5 starting an engine of the vehicle is provided with an infrared light source 13 irradiating an infrared ray of wavelength which is absorbed in reduced hemoglobin of blood, and an image pick-up element 12 receiving the infrared ray and picking up an image, thereby carrying out individual authentication by a blood vessel pattern.
車輌のエンジンを始動するスタートスイッチ５に血液の還元ヘモグロビン成分に吸収される波長の赤外線を照射する赤外線光源１３と、この赤外線を受光して撮像を行う撮像素子１２とを備えて血管パターンによる個人認証を行う。 - 特許庁 - The emission position and the luminance level of each stripe of the emission phosphor are calculated from the picked-up image and the luminance distribution of the test pattern in units of stripes (luminescent-non- luminescent-luminescent parts) is calculated by rearranging the luminance levels, based on the light emission position and a display device 52 displays the result of calculation.
撮像画像から発光螢光体の各縞における発光位置と輝度レベルとが算出され、その発光位置に基いて輝度レベルを並べ替えることでテストパターンの縞単位（発光−非発光−発光の部分）の輝度分布が算出され、その算出結果が表示器５２に表示される。 - 特許庁 - A display control processing part 32 makes a display pattern based on the management data outputted from a game control micro-computer 21, flashing the matrix LEDs 11 in plural display devices 10 disposed in juxtaposition, controlling the flash so that it looks as if the flashing light were flowing like a stream above plural pachinko machines 20.
また、表示制御処理部３２はゲーム用マイコン２１から出力される管理情報に基づいて流れ表示パターンを作成し、並設した複数の表示器１０におけるマトリクスＬＥＤ１１を明滅せしめて複数のパチンコ機２０の上方にて明滅状態が流れるように制御する。 - 特許庁 - To provide an electromagnetic wave shield material in which a failure such as disconnection, the poor shape, low adhesiveness of a pattern due to poor transfer of a conductive compound is not generated, and which prevents scattering of light by a prism effect at the foot where a primer layer inclines to reduce a haze value.
導電性組成物の転写不良に基づくパターンの断線、形状不良、低密着性等の不具合が生じない電磁波シールド材であって、プライマー層の傾斜した麓部でのプリズム効果による光の散乱を防いで、ヘイズ値を低減させることができる電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁 - The positive photosensitive resin composition is applied on the interlayer insulation film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, the composition is dried and irradiated with light through a mask patterned so as to form a window 6C in a predetermined portion, and a pattern is formed by development with an alkaline aqueous solution.
本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁 - When the average L of the gradation values of the white color part is lower than the desired gradation value Lt, the CPU 120 corrects an adjustment pattern image so as to reduce a light valve white color area Sq in order to increase the average L of the gradation values of the white color part.
比較した結果、白色部分の階調値の平均値Ｌが所望階調値Ｌｔよりも低い場合には、白色部分の階調値の平均値Ｌを上げるために、ＣＰＵ１２０は、ライトバルブ白色面積Ｓｑが小さくなるように、調整用パターン画像を修正する。 - 特許庁 - A focal position of each wavelength component due to the first lens 21 caused by an axial chromatic aberration of the first lens 21, is located in a line in the optical axial direction of the first branch light P_1, and images an interference pattern in a different optical axial direction position for every wavelength component in the image pick-up part 51.
第１レンズ２１による各波長成分の焦点位置は第１レンズ２１の軸上色収差に起因して第１分岐光Ｐ_１の光軸方向に並んでおり、各波長成分毎に異なる光軸方向位置における干渉パターンを撮像部５１において撮像する。 - 特許庁 - In the case one of the holding ball lamps 136a-136d of a special holding ball number display means 136 emits light in "red" for instance, when a specific form is attained in the variation of special patterns corresponding to the holding number display, the pattern is surely turned to an odd number (that is, a special specific form).
特別保留球数表示手段１３６の保留球ランプ１３６ａ〜１３６ｄの何れかが、例えば、「赤」で発光した場合に、その保留数表示に対応する特別図柄の変動において特定態様となった場合には、その図柄は必ず奇数（即ち、特別特定態様）となる。 - 特許庁 - To solve the problems of a performance improving technique in microfabrication of a semiconductor element with a high energy line, an X-ray, an electron beam or EUV light, and to provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness.
高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which has excellent polymerization curability when exposed to light and high exposure sensitivity and which is capable of forming a color pattern having excellent profile characteristics, a photospacer having excellent cross-sectional shape uniformity and excellent height uniformity, and a protective film having excellent uniformity and hardness even with a short heating time.
露光時の重合硬化性に優れ、露光感度が高く、短い加熱処理時間でもプロファイル特性に優れる着色パターン、断面形状の均一性および高さ均一性に優れるフォトスペーサー、均一性や硬度に優れる保護膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor wafer for flip-chip mounting, which has its circuit pattern shielded from light and can be polished to a thickness of about 100 μm by a conventional mechanical method, so that the polished wafer has nearly the same strength with a wafer of about 200 μm in thickness.
ウエハの回路パターンを遮光するとともに、ウエハを従来のメカニカルな手法で１００μｍ程度の厚さまで研磨可能とし、しかも研磨されたウエハが２００μｍ程度の厚さのウエハと同等の強度を有する、フリップチップ実装用半導体ウエハを提供する。 - 特許庁 - In the building panel 10 manufactured by this method, places D' where water droplets D are present on the mold surface of the template 1 become a dark color while the other part becomes a light color and coloration is changed finely corresponding to the uneven pattern PE on the surface of the building panel to form highly natural stone-like appearance.
上記製造方法による建築板１０は、型板１型面２に水滴Ｄが存在している個所Ｄ’は濃色になり、その他の部分は淡色になり、また表面の凹凸模様ＰＥに対応して着色が微妙に変化し高度な天然石調の外観となる。 - 特許庁 - Since the broad rear part 122 is formed between the tip part 121 and the flare part 123 to decrease the magnetic reluctance, the magnetic reluctance can be prevented from increasing, even if the flare part 123 forming portion reflecting a large quantity of light is kept away from ABS 76 and the accuracy of a pattern of the tip width is improved.
先端部１２１とフレア部１２３との間に幅広後部１２２を設けて磁気抵抗を低下させるようにしたので、大量の光が反射するフレア部１２３形成部分を、ＡＢＳ７６から遠ざけて先端幅のパターン精度を向上させても、磁気抵抗の増加を防止できる。 - 特許庁 - This biodegradable forgery preventive paper 1a is obtained by watermarking threads 20 formed by slitting a forgery preventive raw paper 2 obtained by laminating a diffraction grating pattern-forming layer 22 mixed with a fluorescent light developing layer 24 on a transparent support film 21 comprising a lactic acid resin having biodegradable and hydrolyzable properties in a small breadth into pulp base paper 10.
生分解可能な透明支持体２１上に、回折格子パターンが形成されている回折格子パターン形成層２２、反射層２４を積層して成る偽造防止原反を細巾にスリットし、このスリットされたスレッド２０をパルプ基紙１０に抄き込んだ生分解可能な偽造防止用紙。 - 特許庁 - To provide an authenticity identifying body used for a field of preventing forgery or the like in which the presence of a hidden pattern is not recognized even when the body is irradiated with laser light but the authenticity can be easily identified by using a recognizing means, and to provide a method for identifying authenticity.
造防止等分野において、レーザー光を当てても隠しパターンの存在が分からず、しかしながら、確認手段を講じることによって真正性の識別が容易な真正性識別体および、そのような真正性識別方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - Since preparatory operations such as photometric operation, focusing operation, and diaphragm setting are required before execution of exposure operation of a CCD 11, the integrating operation is performed with the CCD 11 in the light shielding state to measure the fixed pattern noise by a picture data controller 25 during these preparatory operations.
ＣＣＤ１１の露出動作が行われる前に、測光動作焦点調整動作、絞りの設定等の準備動作が必要となるので、この準備動作中に、ＣＣＤ１１を遮光状態で積分動作を行って画像データコントローラ２５により固定パターンノイズが測定される。 - 特許庁 - A display panel 7 constitutes a screen of self-luminescent type pixels and emits light in accordance with an image signal supplied from a signal processing circuit 0 to display an image, and a local pixel change occurs to bring about the unevenness in luminance of the screen in the case of display of an image of a fixed pattern.
表示パネル７は自発光型の画素で画面を構成し、信号処理回路０から供給された映像信号に応じ発光して画像を表示するとともに、固定パターンの画像を表示した場合局所的な画素の変化が生じ画面に輝度ムラが現れる。 - 特許庁 - An image display device 1, which has an image frame divided into blocks having a prescribed size and displays a plurality of tones per block throughout the plurality of image frames on the basis of lighting patterns, is so configured that a light pattern for each block is set correspondingly to each color per image frame.
画像フレームを所定の大きさのブロックに区分し点灯パターンに基づいて複数の画像フレームにわたってブロック毎に複数の階調表示を行う画像表示装置１は、ブロック毎の点灯パターンを複数の画像フレーム毎に各色に対応させて設定するように構成されている。 - 特許庁 - This woven fabric is provided by using not a surface-drawn fabric texture but a point-drawn fabric texture, capable of freely changing the surface-exposed density per a unit length (area) in the crossings of optionally colored weft yarns with warp yarns, and enabling a further minute gradation expression associated with the shade/light and dark of the fabric pattern.
面描織物組織でなく、点描織物組織を用いることにより、任意の色緯糸の経糸との交錯における単位長（面積）あたりの表面露出密度の比率を自由に変更でき、織物文様の濃淡・明暗に関するより緻密なグラデーション表現を可能とする。 - 特許庁 - When the determination result of a light reception waveform determination part 21 is pulse-shaped outgoing pattern, a central arithmetic unit 15 copies reference coordinate data whose shape is rectangular, and whose size is "middle" to the coordinate data of instruction pointer data PointInf, and transmits a page feed command to a video generation device 50.
中央演算部１５は、受光波形判定部２１の判定結果がパルス状の出射パターンであると、形状が四角形、大きさが「中間」の基準座標データを、指示ポインタデータＰｏｉｎｔＩｎｆの座標データにコピーするとともに、改頁コマンドを映像生成装置５０に送信する。 - 特許庁 - After resist is applied on a substrate, a region where a logic with patterns arranged at random is formed is subjected to a first exposure process, using the interference of light penetrating through slit grooves 3 and 4 located on each side of the line of a pattern provided on a Levenson phase shift mask.
基盤上にレジストを塗布した後、レベンソン位相シフトマスクに設けられたパターンにおける線幅方向の両側のスリット溝３とスリット溝４とをそれぞれ透過する光の干渉を用いて、ランダムに配置されたパターン形状を有するロジック部の形成領域に対して１回目の露光を行う。 - 特許庁 - To obtain a spectral image in which a vascular pattern is clearly shown without providing a band pass filter of an optical wavelength narrow band for the spectral image in a light source by making a spectral image signal using a color-picture signal obtained from a usual electronic endoscope image.
通常の電子内視鏡画像から得られるカラー画像信号を用いて分光画像信号を作成することで、光源部に分光画像用の光学的波長狭帯域バンドパスフィルタを設けることなく、血管パターンが鮮明に表示される分光画像を得ることを目的とする。 - 特許庁 - To provide a photomask which is disposed in an excimer laser exposure device or the like and used for lithographic techniques using an exposure light source at short wavelengths, wherein production of foreign matter such as ammonium sulfate is prevented, to provide an easy and inexpensive method for manufacturing the photomask, and to provide a pattern forming method using the photomask.
エキシマレーザ露光装置などに設けて、短波長の露光光源を用いたリソグラフィ技術に使用するためのフォトマスクにおいて、硫酸アンモニウムなどの異物の発生を防止したフォトマスクおよび簡易で安価なその製造方法、さらに、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Furthermore, the information pattern surface side of a stamper 8 is subjected to UV ozone treatment of illuminance ≥3 mW/cm^2, integrated UV light quantity ≥1 J/cm^2 and oxygen inflow pressure ≥0.1 MPa and is cleaned with pure water ranging from 15 to 30°C within 5 minutes.
さらに、スタンパ８の情報パタン面側に、照度３ｍＷ／ｃｍ^２以上、紫外線積算光量１Ｊ／ｃｍ^２以上、酸素流入圧力０．１ＭＰａ以上の紫外線オゾン処理を施し、処理後、５分以内に１５℃〜３０℃の範囲の純水で洗浄する。 - 特許庁 - To provide a correction method of a circuit pattern for measuring the dimension of each of the plurality of circuit patterns formed on a resist film on a substrate to be processed and correcting each of the respective circuit patterns by irradiating ultraviolet light on the basis of measurement information immediately after measurement, and its device.
被処理基板上のレジスト膜に形成された複数の回路パターン毎の寸法を測定し、直後に測定情報に基づいて紫外光を照射して各回路パターン毎の補正を行うようにした回路パターンの補正方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - By efficiently adding using a coating agent including a photocatalyst titanium oxide particle and another coating agent including the photocatalyst titanium oxide particle of a visible light turning-around pattern to the surface and back surface of an indoor article such as a curtain and an artificial flower, it is possible to correspond to all the indoor lightings.
カーテン、造花他の室内用品の表裏面に、光触媒酸化チタン粒子を含有するコーティング剤と可視光応答型の光触媒酸化チタン粒子を含有するコーティング剤とを用いて効率的に添加することで、すべての室内照明に対応できるようにするものである。 - 特許庁 - When a data request signal is inputted from an external input device 6 through a renewal control part 12, each lighting control part 22 outputs an execution data showing a pattern data and a number data of a neon unit 24 during light control at that time, to the renewal control part 12.
各点灯制御部２２は、外部入力機器６から更新制御部１２を介してデータ要求信号が入力されると、その時点で点灯制御を行っている最中のネオンユニット２４のパターンデータ及び番号データを示す実行データを更新制御部１２に出力する。 - 特許庁 - The forged bill detector 1 includes an LED 3 for emitting ultraviolet rays, a light receiving element 5, an ON/OFF switch 9, and a signal processing circuit 6 for judging the authenticity of a bill to be inspected by discriminating the ultraviolet emitting pattern of the bill based on an output from the element 5 in a case 2.
偽札検出装置１は、ケース２の内部に、紫外線発光用のＬＥＤ３と、受光素子５と、オンオフ用のスイッチ９と、受光素子５の出力に基づき、検査対象の紙幣の紫外線発光パターンを識別して、真偽の判別を行う信号処理回路６とを備えている。 - 特許庁 - The optical unit 2 is provided with a plurality LEDs 7, an LED substrate 8 fitted toward a rear of the LEDs 7 and with a wiring pattern 8c formed for feeding power to the LEDs 7, and a cover member 9 having a visible-light transmitting property and covering the LEDs 7 at the front.
光学ユニット２は、複数のＬＥＤ７、ＬＥＤ７の後方に設けられ当該ＬＥＤ７に給電するための配線パターン８ｃが形成されているＬＥＤ基板８、及び、可視光透過性を有しＬＥＤ７を前方で覆うカバー部材９を有している。 - 特許庁 - To provide a manufacturing device and a manufacturing method capable of easily forming a thin wire like pattern of a conductive metallic part, having both of a high electromagnetic wave shielding property and high transparency at the same time, and capable of stably producing a large quantity of a light transmittable electromagnetic wave shielding material without forming moire at a low cost.
導電性金属部の細線状パターン形成を容易に行い、高い電磁波遮蔽性と高い透明性とを同時に有し、モアレのない光透過性電磁波遮蔽材料を、安価で大量に安定生産できる製造装置及び製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method and a device for inspecting patterns and a mask manufacturing device using thereof correcting effects to pattern inspection caused by polarization of intensity distribution due to beam shape, size, and optical axis deviation of an illumination light source illuminating a body to be inspected for obtaining a constantly stable inspection result.
被検査体を照明する照明光源のビーム形状、サイズ、光軸ずれによる強度分布の偏りから生ずる、パターン検査への影響を補正して、常に安定した検査結果が得られるパターン検査方法とその装置およびそれを用いたマスク製造装置を提供すること。 - 特許庁
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