「light pattern」を含む例文一覧(7056)
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この微細パターン修正方法では、対物レンズ３２の中心３２ａから外れた所定の位置にレーザ光αを照射し、対物レンズ３２で屈折して焦点Ｆに向かうレーザ光αを、リブ欠け欠陥８５に塗布した修正ペースト２１からなる修正部３０の側壁面に斜め上方から照射する。 - 特許庁 - The pattern forming method includes steps of (a) forming a film by using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film to light; (c) developing the film by using a developing solution containing an organic solvent; and (d) rinsing the film by using a rinsing liquid containing an organic solvent and having a specific gravity larger than that of the developing solution.
（ア）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び（エ）有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁 - The liquid crystal display device 100 has: a backlight unit 10; the liquid crystal display panel 20a having an arrangement pattern 22a of pixels (dots) arranged in a matrix shape having rows and columns; and the light diffusion layer 30a disposed on the viewer side of the liquid crystal display panel and having the stripe structure extending in the vertical direction.
本発明の液晶表示装置１００は、バックライトユニット１０と、行および列を有するマトリクス状に配列された絵素（ドット）の配列パターン２２ａを有する液晶表示パネル２０ａと、液晶表示パネルの観察者側に配置され、垂直方向に延びるストライプ構造を有する光拡散層３０ａとを有する。 - 特許庁 - For detecting a spacer 7 as a granular matter, this lighting system radiates light beams 5 toward a desired detection position in at least two directions which are not orthogonal to any linear part of a wiring pattern in the view from the upper side and make an angle of 3° or less with the upper face of a glass substrate 6.
この照明装置は、粒状体としてのスペーサ７を検出するために、所望の検出位置に対して、上方から見て配線パターンのいずれの直線部分に対しても略垂直でない少なくとも２方向であって、ガラス基板６の上面となす角度が３°以下となるような照射方向で、光５を照射する。 - 特許庁 - Namely, since the part corresponding to the corner of the connector 10c of the second layer coil 4b of the opening provided in the photomask to the lead-out wire 10b is planely roundish, the detour of a light (ultraviolet rays) in the part is suppressed, and a photosensitive resist can be accurately exposed in a desired pattern shape.
即ち、フォトマスクに設けられた開口部の前記２層目コイル４ｂと引出し線１０ｂとの接続部１０ｃ角部に対応する部位は平面的に丸みを帯びているため、その部分での光（紫外線）の回り込みが抑制されて感光性レジストを所望のパターン形状にて正確に感光させることができる。 - 特許庁 - A semiconductor fabrication apparatus comprises an exposure unit 30, provided within a chamber 10 for exposing a design pattern on a resist film applied on a wafer 20; and a liquid recycle unit 40 for supplying a liquid 23 for use in immersion lithography that raises the numerical aperture of exposure light during exposure to the wafer 20, while recycling the liquid 23.
半導体製造装置は、チャンバ１０内に設けられ、ウェハ２０上に塗布されたレジスト膜に設計パターンを露光する露光部３０と、露光時にウェハ２０の上に露光光の開口数値を上げる液浸リソグラフィ用の液体２３を再利用しながら供給する液体リサイクル部４０とから構成されている。 - 特許庁 - The sub CPU 33a of the lamp control board 33 judges the pulsation period of the pulsating voltage applied to an LED 41 from the frequency of input of sense signals per predetermined unit time and sets a light emission pattern which can be decided on in accordance with the judged pulsation period in a frequency recognition process.
ランプ制御基板３３のサブＣＰＵ３３ａは、周波数識別処理において、予め定めた単位時間当たりの検知信号の入力回数からＬＥＤ４１に印加される脈流電圧の脈流周期を判定し、判定した脈流周期に応じて決定することができる発光パターンを設定する。 - 特許庁 - A laser 23 is irradiated on a substrate 1 where a pattern or a film is formed, and variations among chips of reflected light levels fluctuating by fluctuation of process conditions is obtained in a chip group within a wafer, and this fluctuation is monitored within the wafer or among wafers, and thus control over the process conditions in a semiconductor manufacturing can be achieved.
パターンあるいは成膜が形成された基板１上にレーザ２３を照射し、プロセス条件の変動により変動する反射光レベルのチップ間でのばらつきをウエハ内のチップ群内で求め、この変動をウエハ内あるいはウエハ間で監視することで半導体製造上のプロセス条件の管理を達成できる。 - 特許庁 - The method for forming the graft pattern includes: bringing a radical-polymerizable unsaturated compound into contact with a surface of a base material capable of generating radicals by exposure; and exposing imagewise with laser light having a wavelength of 360-700 nm to form a graft polymer directly bonded to the base material patternwise on the surface of the base material.
露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。 - 特許庁 - For example, a forming pattern of a projection 50 is projected in the horizontal direction along a light-receiving pixels bound from a clock wiring 46 disposed on a channel stop 42 separating perpendicular CCD shift resistors of an imaging part of a frame transferring-type CCD image sensor, and is symmetrized in the upper-lower and right-left directions relative to a center 52 of the imaging part.
例えば、フレーム転送型ＣＣＤイメージセンサの撮像部の垂直ＣＣＤシフトレジスタ間を分離するチャネルストップ４２上に配置されるクロック配線４６から受光画素境界にて水平方向に延在される突起部５０の形成パターンを撮像部の中心５２に対して上下左右対称とする。 - 特許庁 - Furthermore, the image displayed by the device is directly taken by switching the transmission pattern of a pinhole to fit to the display device by a device obtained by adding a transmitted light control means to switch the transmission or non-transmission of each pinhole to a pinhole plate where the pinholes are arranged side by side, and taking the image of a subject therethrough.
さらにこの装置で表示する画像は、ピンホールの並んだピンホール板に、各ピンホールの透過・不透過を切り替える透過光制御手段を加え、これを通して被写体の像を撮影する装置によって、ピンホールの透過パターンを表示装置に合わせて切り替えることで直接撮影することができる。 - 特許庁 - In the manufacture method of unidirectional diffusion plate, the unidirectional diffusion plate is manufactured by utilizing a speckle pattern formed when the surface relief type diffusion plate having groove depth of ≥2 μm and ≤20 μm on the surface is irradiated with the light of linear coherence.
表面の溝の深さが２μｍ以上２０μｍ以下であるような、表面レリーフ型の拡散板で、直線状の可干渉性のある光を拡散板に照射して、そのときに生じるスペックルパターンを用いて作成することを特徴とする一方向性拡散板の作成方法および表面レリーフ型拡散板である。 - 特許庁 - After a hole 10 in a desired shape is formed inside a substrate 1, the substrate is immersed in an electroless plating liquid 11 and irradiated with condensed laser light 12 along a desired pattern to precipitate and fix a metal in the irradiated region to form a metal electrode.
基板１内部に所望形状の空孔１０を形成した後、この基板を無電解メッキ液１１中に浸し、所望のパターンに応じてレーザ光１２を集光照射することによって該照射領域に金属を析出、固定し、金属電極を形成することを特徴とする電極形成方法。 - 特許庁 - A colored striped pattern line creating means 1 creates a colored multiple line by bringing a plurality of colored lines of colors of light with greatly different wavelengths in contact with each other and merging them, and outputs the colored multiple line on the present position indicator image display part 2 as an indicator image of the present position.
色付き縞模様線作成手段１は光の色の波長が大きく異なる複数個の波長の光の色の複数の色付き線を接触合体させて色付き多層線を作成し、その色付き多層線を現在位置の指示子画像として現在位置指示子画像表示部２に出力する。 - 特許庁 - A wiring part 15 of the positive electrode pattern 3 is comprised of a transparent wiring layer 22 made of the same transparent conductive material as the transparent electrode part 13 and a metallic film 23 made of low resistance metal material same as the metal lattice 21 having light shielding function, formed on the transparent wiring layer 22.
また、陽極パターン３の配線部１５が、透明陽極部１３と同一の透明導電材料によって形成された透明配線層２２と、その透明配線層２２上に金属格子２１と同一の低抵抗金属材料によって形成された遮光性を有する金属薄膜２３とを備えて構成されている。 - 特許庁 - A carriage 4 mounting a recording head 3 is provided with a photosensor 5 for emitting and receiving infrared light and, for a dedicated recording medium recorded with a scale pattern, a second timing generating section 8 generates a timing signal for determining the driving timing of the recording head 3 based on the detection signal from the photosensor.
記録ヘッド３を搭載するキャリッジ４に赤外線の発光および受光を行うフォトセンサ５を設け、スケールパターンの記録された専用の記録媒体に対しては、第２のタイミング生成部８によりフォトセンサの検出信号に基づいて記録ヘッド３の駆動タイミングを規定するタイミング信号を生成する。 - 特許庁 - Laser light from a laser oscillator for continuously radiating optical pulses having the spatial and temporal large energy density at the pulse emitting time not more than 1 picosecond is radiated to a workpiece of a multilayer structure having the different wave length absorptance in a specified pattern and with specified energy density, and the workpiece is machined.
１ピコ秒以下のパルス放射時間で空間的時間的なエネルギー密度の大きい光パルスを連続放射するレーザ発振器からのレーザ光を、前記レーザ光の波長吸収率が異なる多層構造の被加工物に、所定パターン、所定エネルギー密度にて照射し、前記被加工物を加工するように構成する。 - 特許庁 - A two-dimensional layout determining apparatus 10 determines a pattern 11 having a plurality of apertures of the same size (Wx×Wy), and a three-dimensional structure determining apparatus 20 determines a three-dimensional groove structure with a depth d and an undercut length Uc to shift the phase of transmitted light by 180° for the apertures of even numbers.
二次元レイアウト決定装置１０により、同一サイズ（Ｗｘ×Ｗｙ）の複数の開口窓を有するパターン１１を決定し、三次元構造決定装置２０により、偶数番目の開口窓について、透過光の位相を１８０°シフトするため、深さｄ、アンダーカット量Ｕｃをもった三次元溝構造を決定する。 - 特許庁 - An optical modulation part 60 is arranged on a holding surface 33b for holding the recording medium in the medium holding part 33a, which causes differences in a reflectance of the ultraviolet rays irradiated by the irradiation device and transmitted through the recording medium and reflects the rays to the recording medium as reflection light having a predetermined modulation pattern.
媒体保持部３３ａの記録媒体を保持する側の保持面３３ｂには、照射装置から照射され、記録媒体を透過してきた紫外線の反射率に差異を生じさせ、所定の変調パターンを有する反射光としてこれを記録媒体に反射する光変調部６０が設けられている。 - 特許庁 - To provide a surface-treated product having a photocatalytic function not developing an interference color of light even if a primer film and a photocatalyst film are formed on the surface of a substrate and capable of keeping the design effect of the substrate without damaging the picture, pattern, hue, character or the like applied to the surface of the substrate itself.
基体の表面に下地皮膜と光触媒皮膜を形成しても、光の干渉色の発現がなく、基体そのものの表面に付されている絵柄、模様、色調、文字等を損ねることなく、基体の意匠性を維持することができる光触媒機能を有した表面処理製品を提供する。 - 特許庁 - The biodegradable matting film material contains a biodegradable resin as a main component, and has a thickness of 10-50 μm, a transmittance of a visible light ray having a wavelength range of 400-700 nm of 10% or more, a surface state of a matting pattern and a tensile elastic modulus of 1.2 GPa or more.
本発明の生分解性樹脂艶消しフィルム材料は、生分解性樹脂を主成分とする厚み１０〜５０μｍのフィルムであって、４００〜７００ｎｍの波長範囲の可視光線の透過率が１０％以上で、表面状態が艶消し模様であり、引張弾性率が１．２ＧＰａ以上である事を特徴とする - 特許庁 - The coupling efficiency is determined by calculating the intensity of the laser beam emitted from the semiconductor device and an intensity passing through the light-receiving section coupled with the semiconductor laser device in a dot shape, respectively, by using an equipment such as a far field pattern measuring device or the like which can measure the characteristics of the semiconductor laser device with relatively ease.
遠視野像測定装置などの比較的容易に半導体レーザ素子の特性が測定できる装置を用い、半導体レーザ素子から出されるレーザ光の光強度および、半導体レーザ素子と結合させる受光部における受光部を通過する光強度のそれぞれをドット状に算出し、結合効率を求める。 - 特許庁 - To provide a phase shifting mask capable of relatively easily suppressing size variation and dislocation of a pattern in projection exposure with an error in production nearly equal to that in the case of a conventional bored phase shifting mask by making the intensity of transmitted light from bored regions and that from unbored regions nearly equal to each other in a bored phase shifting mask.
掘り込み型の位相シフトマスクにおいて、掘り込み部からの透過光と非掘り込み部からの透過光の強度を略一致させて、投影露光時のパターンのサイズ変動や位置ずれを、比較的容易に、かつ従来の掘り込み型位相シフトマスクと同程度の製造誤差で抑えることができる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁 - To provide a display which enables an arbitrary pattern to be displayed in at least a part of an entirely black display screen by light non-emitting display elements even when a display power source is turned off and is superior in decoration and design and has an effect as an interior accessory and whose power consumption is reduced.
本発明は、ディスプレイ電源をオフの状態にした場合でも画面全体が黒の表示画面内の少なくとも一部で非発光の表示素子による任意のパターン表示が可能となる、装飾性・意匠性に優れ、インテリアとしての効果を有する、消費電力も少ないディスプレイを提供することを目的とする。 - 特許庁 - Switch patterns 13a confronting the respective key operation parts 14b are provided on the printed wiring board 13 so that they are brought into a conducting state by pressingly operating the respective key operation parts 14b while through holes 13b are provided around each switch pattern 13a allowing light to pass therethrough.
プリント配線基板１３には、各キー操作部１４ｂが押圧操作されることによって、それぞれが導電状態になるように、各キー操作部１４ｂに対向してスイッチパターン１３ａがそれぞれ設けられるとともに、各スイッチパターン１３ａの周囲に、光を透過させる貫通孔１３ｂがそれぞれ設けられている。 - 特許庁 - LED driving means 15 provides navigation from a current position to a destination by driving a predetermined number of LEDs 13 while associating the LEDs 13 with a light emission pattern comprises a combination of temporal change of the kinds and intensity of colors that the respective LEDs 13 emits according to navigation information generated by navigation information generation means 12.
ＬＥＤ駆動手段１５は、ナビゲート情報生成手段１２で生成したナビゲート情報に応じて、所定数のＬＥＤ１３をそれぞれの発光する色の種類と発光の強さの時間的な変化の組み合わせからなる発光パターンと対応付けて駆動することで現在位置から目的地までのナビゲートを行う。 - 特許庁 - To provide a positioning structure by which positioning and fine adjustment of original glass on which an original pattern has been formed and transfer glass are accurately and reliably performed with one member at low cost with respect to the positioning structure of an exposing device in which a plulality of original patterns are superposed on a transfer glass to transfer them on it with light.
複数の原パターンを被転写ガラスに重ね合わせ、該複数の原パターンを光を使い被転写ガラスに転写する露光装置の位置決め構造において、原パターン記載の原ガラスと被転写ガラスとの位置決めと微調整を１個の部材で精度良く安価で確実に行う位置決め構造を提供する。 - 特許庁 - To provide a highly precise mask structure, capable of obtaining a deposition pattern having high dimensional precision and in which a mask is fixed to a mask frame in a state with the tension being applied to the mask, while preventing deformation of the mask frame, and to provide a depositing method using the mask structure and a method of manufacturing an organic light-emitting element.
本発明の目的は、高寸法精度の蒸着パターンを得ることができ、マスクフレームの変形を防止しつつマスクを張力が加えられた状態でマスクフレームに固定した高精度なマスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a photomechanical process for a planographic printing plate capable of giving an image with high resolution, adaptable to a direct pattern forming method with a laser, capable of giving an image particularly even in a light room, producing no waste liquid and very excellent in ink/water responsiveness and printing durability.
平版印刷版の製版技術において、高解像性を有する画像を得ることができ、かつレーザによる直接描画方法に対応し、また特に明室下でも画像を得ることができ、廃液が発生することがなく、インキ／水応答性、耐刷性に非常に優れた平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁 - A signal processor 12 normalizes a strength distribution of measured three-kinds of image signals, calculates a change polarity and a change amount of light intensity signals of different polarized lights of a flaw to a normal part, compares the calculated change polarity and change amount respectively with a preliminarily set pattern, thereby discriminating types of flaws.
信号処理部１２は測定した３種類の画像信号の強度分布を正規化し、正常部に対する疵部の異なる偏光の光強度信号の変化極性と変化量とを算出し、算出した変化極性と変化量とをそれぞれあらかじめ定めたパタ−ンと比較して疵種を判定する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing a stamper for optical recording media in which a photoresist film formed on a glass master disk by coating is exposed with modulated laser light and developed to form a prescribed rugged pattern and a stamper is manufactured by electroforming, the surface of the glass master disk is subjected two or more times to HMDS coating for carrying out silylation before coating with a resist.
ガラス原盤上に塗布されたフォトレジスト膜に、変調されたレーザ光により露光後現像して所定の凹凸パターンを形成した後、電鋳によりスタンパを製造する光記録媒体用スタンパの製造方法において、レジスト塗布前にガラス原盤表面のシリル化を行うＨＭＤＳ塗布を複数回行う。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition for a color filter having such high photocurability that it is thoroughly cured with small light exposure in curing, and improved in accuracy of a pattern shape after development because an unexposed part is thoroughly dissolved in an aqueous alkali solution, and also to provide a color filter using the photosensitive resin composition.
光硬化性が高く硬化時に少ない露光量で充分に硬化できるとともに、未露光部分がアルカリ水溶液に充分に溶解可能であり、現像後のパターン形状の精度を向上させることができるカラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びそれを用いてなるカラーフィルタを提供する。 - 特許庁 - To provide a temperature correcting method and a variable resistance type infrared sensor with this correcting means capable of preventing the deterioration of image quality caused by the appearance of FPN(fixed pattern noise) fluctuations on a screen and preventing the fluctuation of sensitivity for the infrared light without requiring a means for keeping the temperature of a sensor substrate invariably constant.
センサ基板温度を常に一定に保つ手段を必要とせずに、ＦＰＮ変動分が画面に現れることによる画質の劣化を防ぎ、なおかつ赤外光に対する感度の変動を防ぐことができる、温度補正方法とこの補正手段を具備した抵抗変化型赤外線センサの実現。 - 特許庁 - An image of a test chart consisting of a dot pattern is formed on the CCD 29 to monitor a change in an output of the CCD 29 due to a fog or the like in the case of forming the reflected optical image from the original onto a light receiving face of the CCD 29, and the resolution of the image is evaluated by obtaining an output state of each dot.
結像レンズ２８により、原稿からの反射光像をＣＣＤ２９の受光面に結像させる時に、ボケ等による出力変化を監視するために、網点パターンからなるテストチャートをＣＣＤ２９に結像させ、その網点部分での出力状態を求めれ解像度評価を行う。 - 特許庁 - The headlight device control ECU 40 reduces the illuminance of the light distribution pattern for high beam by controlling the lighting fixture 20H for high beam when the present area of a forward road detected by the navigation system 144 includes an undectable area deviated from the detection area of the vehicle detector 150.
前照灯装置制御ＥＣＵ４０は、ナビゲーションシステム１４４によって検出された前方の道路の存在領域が車両検出装置１５０の検出範囲から外れる検出不能領域を含むときは、ハイビーム用灯具２０Ｈを制御してハイビーム用配光パターンの照度を低減せしめる。 - 特許庁 - The immersion lithography apparatus is constituted so that the pattern of an original plate is projected on a substrate through a projection optical system and a liquid so as to expose the substrate, and includes a substrate reference plate arranged on a substrate stage to hold the substrate, and a drive portion to drive a field stop which restricts a measuring light irradiated to the substrate reference plate.
液浸露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光するように構成され、基板を保持する基板ステージに配置された基板基準プレートと、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する視野絞りを駆動する駆動部とを備える。 - 特許庁 - A test pattern for detecting a density variation amount (reflected light variation amount) of an image in one rotation cycle of the electric motor for rotating or moving an image carrier is formed while changing a motor control constant, and the density variation amounts of the respective test patterns are compared, whereby the appropriate motor control constant is set.
像担持体を回転或いは移動させる為の電動モータ１回転周期の画像の濃度変動量（反射光変動量）を検出するためのテストパターンを、モータ制御定数を変化させながら形成し、各テストパターンの濃度変動量を比較することで、適切なモータの制御定数を設定する。 - 特許庁 - This layer 13 is exposed to light with the specified pattern and developed, and the part corresponding to the part where barrier ribs are to be formed is removed, and thereby grooves for barrier rib formation 13a and cell forming parts 13b are formed, and the surface of the cell forming parts 13b and the inside of the grooves 13a are covered with die releasing films.
次に感光性材料層１３を所定のパターンで露光した後に現像して隔壁形成予定部に対応する部分を除去することにより、隔壁形成用溝１３ａ及びセル形成部１３ｂを形成し、セル形成部１３ｂの表面及び隔壁形成用溝１３ａの内部を離型膜にて被覆する。 - 特許庁 - In the optical disk with an information recording layer in which information is recorded by a pit-form pattern, this information recording layer comprises three or more layers (layer L0, layer L1, layer L2...), and a reflection film used for layers except for a layer farthest from a light incident side is made of Al (aluminum), Ag (silver) and oxygen (O).
ピット状のパターンにより情報が記録された情報記録層を有する光ディスクにおいて、この情報記録層が３層以上（Ｌ０層、Ｌ１層、Ｌ２層・・・）からなり、光入射側から最も遠い層を除いた層に用いる反射膜がＡｌ（アルミニウム）とＡｇ（銀）とＯ（酸素）とから構成されることを特徴とする。 - 特許庁 - In this pattern defect inspection device, the quantity change in the ultraviolet laser beam is detected during inspection, to thereby determine the existence of an influence on the inspection, and service life prediction and abnormality of the light source are detected, and the inside of an optical system is cleaned, to thereby ensure prolongation of service life and long-term reliability of optical parts.
検査中に紫外レーザ光の光量変動を検出して検査への影響の有無を判定し、かつ光源の寿命予測と異常を検知するとともに、光学系の内部を清浄化して光学部品の寿命延長と長期信頼性を確保するようにしたパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁 - The electron beam mask drawing device draws a circuit pattern or the like, by irradiating a mask having a square peripheral edge form with an electron beam, wherein the dimensions of the mask which stretch or contract due to thermal expansion by irradiation with electron beams is measured on both the opposing sides by using a laser light.
本発明は、周縁の形状が矩形のマスクに電子線を照射して回路パターン等を描画する電子線マスク描画装置において、電子線の照射による熱膨張で伸縮する前記マスクの寸法を対向する両側辺からレーザ光を用いて測長することを特徴とする。 - 特許庁 - The super resolution optical recording medium has at least a recording layer and a super resolution layer on a substrate, and a recording mark being super resolution limit or below and a space are formed by adjusting the intensity or light emitting pattern of laser beams used for recording so that a recording mark 26 is a recessed part with respect to a unrecorded part 29.
超解像光記録媒体は、基板上に少なくとも記録層と超解像層とを有してなり、記録マーク２６が未記録部２９に対して凹部となるように、記録に供するレーザの強度または発光パターンを調整して、解像限界以下の記録マーク及びスペースを形成する。 - 特許庁 - To provide a low-reflective photomask which essentially consists of aluminum, has high light-shielding property and excellent pattern processability, exhibits a low reflectance at an exposure wavelength, is relatively gradual in reflectance variation in a wavelength range from 200 to 400 nm, and is suitable for lithographic techniques aiming to a half pitch of 45 nm and beyond (smaller) on a wafer, and to provide a photomask blank.
アルミニウムを主成分として、遮光性が高くてパターン加工性に優れ、露光波長で低反射率を示し、かつ、２００〜４００ｎｍの波長域での反射率変動が比較的緩やかであり、ウェハ上のハーフピッチ４５ｎｍ以降のリソグラフィ技術に適した低反射型のフォトマスクおよびフォトマスクブランクスを提供する。 - 特許庁 - In a communication system wherein a first communication device 10 and a second communication device 20 perform communication through an optical transmission line 30 with feeble light as a medium, the first communication device 10 divides transmission data by frame of a fixed length and transmits them to the optical transmission line together with a frame pattern provided on a fixed position of each frame.
微弱強度の光を媒体として第一通信装置１０と第二通信装置２０とが光伝送路３０を介して通信を行う通信システムにおいて、第一通信装置１０は、固定長のフレームごとに送信データを分割し、各フレームの固定位置に設けられたフレームパタンとともに光伝送路へ送信する。 - 特許庁 - In the displaying device, a soldering land 2 for back light is disposed on one side of the flexible printed board 1, and a pattern 3 for connecting to a LCD and a land 4 for mounting a chip LED are disposed on another side, and either the LED or the LCD is mounted, thereby realizes the determined display.
本発明の表示装置では、フレキシブルプリント基板１の一面にはバックライト用半田付けランド２が設けられ、他面にはＬＣＤとの接続用パターン３とチップＬＥＤを実装するためのランド４が設けられ、表示部材たるＬＥＤまたはＬＣＤのいずれかを実装して所定の表示を実現するものである。 - 特許庁 - In a disk 102 recording digital content, an identification mark 106 containing covert security information in a predefined pattern is provided on a top planar surface 110, a covert light source is illuminated for emitting a specified photonic spectrum and an image sensor is used for certifying the identification mark 106 as genuine.
ディジタルコンテンツが記録されたディスク１０２において、平坦な上側表面１１０に所定のパターンで隠しセキュリティ情報を含む識別マーク１０６を設け、特定の波長の光を発光させるために隠し光源を発光させ、イメージセンサーを用いて識別マーク１０６の真正性を認証する。 - 特許庁 - Either tow kinds of driving voltages Va and Vb having different amplitudes or a GND is applied to pattern electrodes 30 to 38 of the electrode 22A through an amplitude modulator 106 and a selection switch 108, a desired phase difference is given to light beams and as a result, astigmatism caused by an optical system is compensated.
透明電極２２Ａに対して、振幅変調器１０６、選択スイッチ１０８等を介して振幅の異なる２種の駆動電圧Ｖａ、ＶｂあるいはＧＮＤの何れかが各パターン電極３０乃至３８に印加され、光ビームに所望の位相差を与える結果、光学系に起因する非点収差が補正される。 - 特許庁 - A distance between the condenser lens 22 and the substrate 60 can be adjusted so that a spot diameter of the laser light LB on the substrate 60 comes into a constant range based on a size of the speckle pattern SP generated from the substrate 60 and measured by the measuring part 10.
測定部１０によって測定された太陽電池基板６０から発生するスペックルパターンＳＰの大きさに基づいて、太陽電池基板６０上におけるレーザ光ＬＢのスポット径が一定範囲に入るよう、集光レンズ２２と太陽電池基板６０の間の距離が調整可能となっている。 - 特許庁 - Disclosed is the negative type resist composition containing (A) an alkali-soluble resin, (B) a cross-linking agent cross-linking the alkali-soluble resin through reaction of an acid, (C) a compound advancing cross-linking reaction by irradiation with an active light beam or radiation, and (D) a compound having a cation polymerizable group; and the pattern forming method.
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a thermally shrinkable polyester film, which is transparent and is enough in the design properties of a luster of reflecting light with a specific wavelength, which is thus excellent in visibility of a pattern printed thereon, which has an iridescent metallic luster, which can be attached on a container such as a PET bottle, and which has a thermally shrinkable property.
高透明かつ特定の波長の光を反射する光沢性の意匠性に富むことにより、フィルムに施される絵柄印刷の視認性に優れ、かつ玉虫色の金属光沢性を付与するとともに、ＰＥＴボトルなどの容器に貼り付け可能な熱収縮性を有する熱収縮性ポリエステル系フィルムを提供する。 - 特許庁
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