「light pattern」を含む例文一覧(7056)
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これによって、ＰＤＰはアナログ映像信号によって駆動されるのでアドレス期間が減って相対的に放電維持期間が増えることによって輝度が著しく向上されることと共に従来のデジタルグレースケール具現によって発光パターンの不連続によって発生されるコンチューアノイズが発生しなくなる。 - 特許庁 - The shade mechanism 29 is provided with a first movable shade 33 which moves between a shield position to form a cut-off line and a shield relaxation position and a second movable shade 37 which moves between an additional shield position which increases shielding volume more than the light distribution pattern which the first movable shade 33 forms at the shield position and a retreating position.
シェード機構２９は、カットオフラインを形成する遮蔽位置と遮蔽緩和位置との間を移動する第１可動シェード３３と、第１可動シェード３３が遮蔽位置において形成する配光パターンよりも遮蔽量を増加させる付加遮蔽位置と退避位置との間を移動する第２可動シェード３７と、を備える。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match step of exposure using at least two exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.
ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In this manufacturing method, photosensitive resin layers are formed on both faces of a substrate 1, the photosensitive resin layers are irradiated with light for pattern formation, a developer 3 is sprayed simultaneously on the photosensitive resin layers on both faces of the substrate 1, in a state such that the substrate 1 is held vertically, and is subjected to a developing operation.
基板１の両面に感光性樹脂層を形成し，感光性樹脂層にパターン形成用の光照射を行い，基板１を垂直に保持した状態で基板１における両面の感光性樹脂層に対し同時に現像液３を吹き付けて現像を行うことにより，多層プリント配線板を製造する方法。 - 特許庁 - During a prescribed performance, not only the movable decorative component 4 can be moved but also the illumination part 5 hidden until then can be made to emit light variously, and a performance effect is improved even when the moving amount of the movable decorative component is reduced due to the enlargement of the pattern display screen.
所定の演出時に、可動装飾部品４が移動可能であることのみならず、それまで隠れていた電飾部５を様々に発光させることも可能となり、図柄表示画面の大型化により可動装飾部品の移動量が少なくなっても演出効果を高めることが可能となる。 - 特許庁 - A substrate transfer mechanism 20 is applied to a proximity scanning exposure apparatus 1 that irradiates an approximately rectangular substrate W with exposure light EL through a mask M to impart a pattern P of the mask M onto the substrate W; and the mechanism supports the substrate W by floating and transfers the substrate W in a prescribed direction.
基板搬送機構２０は、略矩形状の基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１に適用され、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、基板Ｗを所定方向に搬送する。 - 特許庁 - To prevent the diameter of a hole formed in a film to be etched from far exceeding a prescribed value and to make the plane shape of the hole circular when a photosensitive material film comprising a chemically amplified resist material is irradiated with ArF excimer laser light to form a fine hole pattern having a high aspect ratio.
化学増幅型レジスト材料からなる感光性材料膜にＡｒＦエキシマレーザを照射して、微細で且つ高アスペクト比のホールパターンを形成する場合に、被エッチング膜に形成されるホールの平面形状が円形になると共にホールの直径が所定値よりもあまり大きくならないようにする。 - 特許庁 - To provide a position detection sensor which can obtain a stable and high-output detection signal, easily detect a desired one from moving quantity, moving speed and absolute position, and be used even in a narrow space, by forming a linear scale pattern using a luminescence part (photoelectric array) of natural light.
リニアスケールのパターンを自発光の発光部（光電アレー）を用いて形成することによって、安定した高出力の検出信号を得ることができる共に、移動量、移動速度、絶対位置のうちの所望の検出を容易に可能として、且つ、狭い隙間においても使用することができる位置検出センサを提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which has excellent sensitivity, and can suppress undercut occurred in a pattern after development even in such a situation that the photosensitive resin composition contains a light shielding agent or has insufficient exposure; and a color filter and a display device using the same.
良好な感度を有し、かつ、感光性樹脂組成物が遮光剤を含んだり、露光量が不足したりするような状況にあっても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することのできる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置を提供すること。 - 特許庁 - A control portion 17 inputs to itself the reflection factor and desired pattern width of a wafer which is measured by a reflection factor measuring device 20 before applying a photoresist to the wafer, and computes the exposure by using the exposure function stored in the exposure function storing portion 18 to control the power to be fed to a light source 11.
制御部１７は、反射率測定装置２０で測定したフォトレジスト塗布前のウェハの反射率と所望のパターン幅とを入力し、露光量関数記憶部１８に記憶されている露光量関数を用いて露光量を演算して、光源１１に供給される電力を制御する。 - 特許庁 - This solid preparation is covered with a continuous film coating layer having two or more colors or having a pattern having two or more colors and obtained by irradiating a part of a film coating layer containing one or more color pigments with light, a method for producing the same, and a film- coating agent are provided.
本発明は、１色以上の色素を含むフィルムコーティング層の一部に光を照射することにより得られる２色以上の色彩又は２色以上の色彩の図柄を有する連続したフィルムコーティング層で被覆された固形製剤、その製造方法及びフィルムコーティング剤を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To solve problems on a technique adaptable to reduction in the thickness of a film for lithography using far ultraviolet light and to provide a radiation sensitive resin composition capable of reproducing a desired resist pattern which retains satisfactory intrasurface uniformity, has high resolving power and collapses hardly even in a thin film process.
遠紫外光を使用するリソグラフィの薄膜化に対応する技術課題を解決することであり、具体的には薄膜プロセスにおいても十分な面内均一性が保持され、高解像力でパターン倒れの少ない、所望のレジストパターンを再現し得る感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - A frame 110 and at least one polarization pane 102 combined with the frame are provided, then a polarization direction of light which transmits the polarization pane is changed, by which the device is constituted so that at least one polarization pattern may be obtained over a pupil of the lighting device.
前記課題は、フレーム１１０と該フレームに結合された少なくとも１つの偏光ペイン１０２とが設けられており、該偏光ペインを透過する光の偏光の方向を変化させることにより、少なくとも１つの偏光パタンが該照明装置の瞳にわたって得られるように構成することによって解決される。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match process where exposure is performed using at least two kinds of exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.
ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce unevenness in resist patterns on a mask due to a fogging effect in an exposure step in mask production (difference in dimension due to pattern density irregularity) and to provide a mask having high dimensional accuracy required for photolithography by which dimension equal to or below the wavelength of light for exposure (with a large numerical value of MEEF (mask error enhancement factor)) is formed on a wafer.
マスク製造の露光工程においてFogging効果によるマスク上レジストパターンのばらつき（パターン疎密による寸法差）を低減し、ウェハ上で露光波長以下の寸法を加工する（ＭＥＥＦの数値が大きい）光リソグラフィで要求されるレベルの高寸法精度マスクを提供することを目的としている。 - 特許庁 - A length of a shadow-like dark part with a distance between LED chips as a bottom side length becomes about 3 cm and the same is masked, and a strip-like region of the incident light dispersing pattern 13 becomes 1.5 cm and if the same is masked, a masking width becomes reduced to one half and an effective lighting area can be enlarged.
ＬＥＤチップ２１の間隔を底辺とする影状暗部３の長さＬ１が３ｃｍ程度となり，そのマスクを行うのに対して，入射光拡散パタン１３の帯状領域幅Ｌ２が１．５ｃｍとなるから，この部分をマスクするとしてもマスク幅が１／２に縮小して有効照明面積を拡大できる。 - 特許庁 - In the method of manufacturing the optical master disk for forming projecting and recessed patterns by developing an exposed photoresist, the photoresist layer is irradiated with the second harmonic of solid laser as reference beam in the development and the developing process is finished based on the level of a diffracted light in the projecting and recessed pattern.
露光されたフォトレジスト層を現像し凹凸パターンを形成する光ディスク原盤の製造方法において、上記現像の際にフォトレジスト層に対して固体レーザの第２高調波を参照光として照射し、上記凹凸パターンにおける回折光のレベルに基づいて現像工程を終了させる。 - 特許庁 - A fabrication method of semiconductor device includes a process for pressing a mold 1 having a pattern formed thereon to a negative-type photoresist 2, a process for selectively irradiating an irradiated light 7 to the photoresist 2 by pressing the mold 1 to the photoresist 2 through the mold 1, and a process for patterning the photoresist 2 by removing an area of the photoresist 2 where the irradiated light 7 is not irradiated by developing the photoresist 2.
本発明の半導体装置の製造方法は、パターンの形成されたモールド１をネガ型のフォトレジスト２に押し付ける工程と、モールド１をフォトレジスト２に押し付けた状態で、照射光７をモールド１を通じてフォトレジスト２に選択的に照射する工程と、フォトレジスト２を現像することによりフォトレジスト２の照射光７が照射されていない領域を除去してフォトレジスト２をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁 - To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.
遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In this enclosed aligner, an exposure light from an exposure light source 1 is projected via an illuminating optical system on a mask 8 serving as the original plate, and the pattern formed on the mask 8 is then projected via a projection lens 11 on a wafer 12 for the exposure of the wafer 12 serving as the photosensitive substrate.
露光光源１からの露光光により照明光学系を介して原版としてのマスク８を照明し、マスク８に形成されたパターンを投影レンズ１１を介して感光基板としてのウエハ１２上に投影露光する露光装置であって、露光光源１から投影レンズ１１に至る露光光の光路上に配置される光学系素子を内部に配置した複数の筐体３，４，５，６，７と、該複数の筐体３〜７をガス置換するガス置換手段とを有する。 - 特許庁 - In the luminance-uniformiazing sheet 1, a white diffusion layer 12 containing at least one kind of an ultraviolet absorbent from among cyanoacrylate base, oxalic acid anilide base, malonic ester base is formed in a pattern adjusted so as to equalize and emit an incident light having nonuniformized luminance distribution, on at least one surface of a translucent substrate 11.
透光性基材１１の少なくとも片面に、不均一な輝度分布を有する入射光を均斉化して出射できるよう調整されたパターン状に、シアノアクリレート系、蓚酸アニリド系、マロン酸エステル系の内、少なくとも１種の紫外線吸収剤を含む白色拡散層１２が形成されていることを特徴とする輝度均斉化シート１である。 - 特許庁 - In the pixel formation area preformed on a transparent substrate, an ink layer is formed by selectively sticking the curable color ink of ≥40 wt.% in solid-component density which contains a pigment and a curable component with an ink jet method, and the ink layer is cured by light irradiation and/or heat irradiation to form a prescribed pattern.
透明基板上に予め形成される画素形成領域に、顔料および硬化可能な成分を含む固形分濃度が４０重量％以上である硬化性カラーインクを、インクジェット法によって選択的に付着させて、インク層を形成し、該インク層を、光照射および／または熱照射によって硬化させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁 - To shorten the total time required for regulating an imaging apparatus by applying a first high speed communication mode to common data, at the time of writing binary measurement pattern for detecting respective quantity of exposure or writing regulated data in an apparatus for recording an image using a plurality of laser light emitting elements.
複数のレーザ発光素子を用いて画像を記録する装置において、それぞれの露光量検出のための測定用２値パターンの書き込む際、及び、調整後のデータを書き込むときの共通なデータについては、高速な第１の通信モードを適用することにより、画像形成装置の調整にかかるトータル時間を短縮させる。 - 特許庁 - The method for forming an image is carried out by using the above photoresist in steps of forming a photoresist layer on a substrate, irradiating the photoresist layer with light through a mask corresponding to a specified pattern, developing the photoresist film with a developing solution containing an alkali and removing the exposed part to form a positive image.
更に、本発明によれば、基材上にフォトレジスト層を形成し、所望のパターンに対応するマスクを介して上記フォトレジスト層に光照射した後、得られたフォトレジスト膜をアルカリを含む現像液で現像し、露光部を除去して、ボジ型画像を形成する画像形成方法において、上記フォトレジストを用いる方法が提供される。 - 特許庁 - In an optical disk master production device 20, a resist substrate 103 is obtained by depositing an inorganic resist material made of incomplete oxides of transition metal on a substrate 100 to form a resist layer 102, and the resist layer 102 is irradiated with singular output light LE to be selectively exposed in accordance with a desired rugged pattern.
光ディスク用原盤製造装置２０は遷移金属の不完全酸化物からなる無機レジスト材料を基板１００上に成膜してレジスト層１０２を形成しレジスト基板１０３を得て、当該レジスト層１０２に特異出力光ＬＥを照射し所望の凹凸パターンと対応した選択的な露光を施し感光させる。 - 特許庁 - On a flexible substrate 30 having a wiring pattern 21, a block 40 positioning optical fibers 2a and 2b at positioning grooves (first positioning parts) 41a and 41b and having a projection 42 (second positioning part) for positioning an optical component 50 for aligning the optical fibers 2a and 2b and a light emitting element, and the optical component 50 having an optical semiconductor element are mounted.
配線パターン２１を有するフレキシブル基板２０には、光ファイバ２ａ，２ｂを位置決め溝（第１の位置決め部）４１ａ，４１ｂに位置決めし、光ファイバ２ａ，２ｂと発光素子との調芯のために光部品５０を位置決めする突起４２（第２の位置決め部）を有するブロック４０、及び光半導体素子を有する光部品５０が実装されている。 - 特許庁 - The fingerprint sensor 10 which receives light from the finger which is brought near and detects the finger print pattern of the finger is equipped with a low-resistance layer 15 which is connected to a fixed voltage covering the top of a signal transmitting path 14 between a prescribed region of an upper surface of the fingerprint sensor on which the finger is mounted and the signal transmitting path 14 of the fingerprint sensor.
近接された指からの光を受光し、指の指紋パターンを検出する指紋センサ１０において、指を載置する当該指紋センサの上面の所定領域と当該指紋センサにおける信号伝送路１４との間に、信号伝送路１４の上方を覆う固定電位に接続された低抵抗層１５を設ける。 - 特許庁 - In the method of producing a semiconductor base material, when an etching mask for forming protrusions and recesses on the surface of a semiconductor base material by photolithography processing of a resist film, a transfer mask 100 where the dimensions of a dot-shaped light-shielding portion 104, i.e. a pattern of protrusions and recesses near the region where the exposure shots overlap, are corrected previously.
半導体基材を製造する方法において、半導体基材の表面に凹凸部を形成するためのエッチングマスクをレジスト膜のフォトリソグラフィ処理により形成する際、転写用マスク１００として、あらかじめ露光ショットの重なる領域付近にある凹凸パターンであるドット状遮光部１０４の寸法を補正した転写用マスクを使用する。 - 特許庁 - This coating device that covers the coating formation parts of an optical fiber or optical part or the like with UV-curing resin is characterized in that UV light sources 12a and 12b which irradiate uncured UV-curing resin covering above mentioned coating formation parts with ultraviolet whose intensity varies from their position, having inclined distribution pattern, are provided.
光ファイバや光部品などの被覆形成部をＵＶ硬化樹脂にて覆って被覆する被覆装置において、光ファイバや光部品などの被覆形成部を覆う未硬化のＵＶ硬化樹脂に、位置により受ける紫外線強度が漸次異なるよう傾斜分布パターンを呈する紫外線を照射するＵＶ光源12a,12bを設けたことを特徴とする。 - 特許庁 - The genuineness authentication medium is provided with a visual authentication part 11 having an image recorded so as to be reproducible with visible light by a diffraction structure including a hologram or a diffraction grating and an authentication code part 12 constituting an authentication code by arranging unit images, which are formed in a visually unrecognizable size and formed with the diffraction structure, in a prescribed pattern.
ホログラム又は回折格子を含む回折構造によって、可視光により再生可能に記録された画像を有する目視認証部１１と、目視による認識が不能な大きさに形成され、前記回折構造により形成される単位画像を、所定のパターンに配置して認証コードを構成する認証コード部１２とを備えた。 - 特許庁 - The light pattern projected by the projection means 11 is divided into a plurality of stripe-like regions, to be projected onto the surface of the object, in such an order as to be specified to satisfy the condition where all the intensity levels selected, respectively in the whole region appear once in each thereof, and the condition where the changing order of the intensity levels is different for every region.
投影手段１１が投影する光パターンは、複数の縞状の領域に分割され、全領域においてそれぞれ選択されるすべての強度レベルが１回ずつ出現するという条件と、各領域ごとに強度レベルの変化順序が異なるという条件とを満たすように規定した順序で対象物の表面に投影される。 - 特許庁 - An organic molecule film 12 is used on the surface of a substrate 11 to form lyophilic and liquid-repellent parts in a specific pattern, at the same time, liquid containing an organic silicon compound is selectively applied to the lyophilic part, and an application film is converted into a silicon film by heat treatment and/or light treatment, thus forming a silicon film 16 at the lyophilic part only.
基板１１表面に有機分子膜１２を用いて、親液部と撥液部とを所定のパターンに形成するとともに、有機ケイ素化合物を含有した液体を親液部に選択的に塗布し、熱処理および／または光処理によって塗布膜をシリコン膜に変換することにより、親液部のみにシリコン膜１６を形成する。 - 特許庁 - In an optical structure in which first and second mask layers 21, 22 each having a predetermined design pattern and a wavelength region different from that of the other mask layer as a transmission region are formed on a second transparent substrate 18, first and second LEDs 13, 14 each having a peak of light emission intensity in the wavelength region corresponding to each of the mask layers 21, 22 are disposed.
所定の意匠パターンを有しそれぞれ他のマスク層とは異なる波長域を透過領域とする第１及び第２のマスク層２１，２２を第２の透明基板１８上に成膜した光学構造体に対してそれらマスク層２１，２２に対応した波長域に発光強度のピークを有する第１及び第２のＬＥＤ１３、１４を配置した。 - 特許庁 - The composite optical filter has the electromagnetic wave-shielding properties and the near-infrared light-absorbing properties, and the composite optical filter includes, sequentially on a transparent base material 1: a conductor pattern layer 2; an ultraviolet-curing resin layer containing composite tungsten oxide compound particles 5, or a thermoplastic resin layer 3 that is thermally fused and is cooled and solidified; and a functional member 4.
透明基材１上に、導電体パターン層２、複合酸化タングステン化合物微粒子５を含む紫外線硬化樹脂層又は加熱溶融・冷却固化した熱可塑性樹脂層３、及び機能性部材４がこの順に積層されてなる、電磁波遮蔽性能と近赤外線吸収性能とを有する複合光学フィルタである。 - 特許庁 - The area marker ME pattern of the diffraction grating plate 66 is restricted by a slit 68a of a visual field diaphragm 68 and the marker light M having passed through only a cross central guide Mb in the center part is irradiated, and thus it can be also used for the optical information reader equipped with optical systems with narrower angles of view, such as for reading a direct marking D of a stamp.
該回折格子プレート６６のエリアマーカーＭＥのパターンを、視野絞り６８のスリット６８ａで制限し、中心部の十字形状の中央ガイドＭｂのみ通過させたマーカー光Ｍを当てるようにすることで、刻印のダイレクトマーキングＤの読み取り用等の画角の狭い光学系を備える光学情報読取装置に転用できる。 - 特許庁 - To provide a thickness measuring device of a colored film and a thickness measuring method capable of measuring the film thickness precisely without being influenced by absorption of a pigment included in the colored film and by high order light, and measuring the film thickness of a photoresist before pattern exposure, when measuring the colored film of a color filter for a liquid crystal display device by a spectral interference method.
液晶表示装置用カラーフィルタの着色膜を分光干渉式で測定する際に、着色膜に含まれる顔料の吸収の影響、高次光の影響を受けず、精度よく膜厚測定が可能な、また、パターン露光前のフォトレジストの膜厚測定が可能な着色膜の膜厚測定装置、及び膜厚測定方法を提供すること。 - 特許庁 - The phase diffraction optical device has random phase distribution, in which a large number of unit patterns having different phase modulation functions are arranged with each unit pattern, consisting of recesses and projections having a period shorter than the wavelength of the light to be used, and different phase modulation functions in the unit patterns are obtained, by varying the width ratio of the recesses and projections in the recessed and projected part.
異なる位相変調能を有する単位パターンを多数配置したランダムな位相分布を有し、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により構成され、凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされている位相型回折光学素子。 - 特許庁 - The resin letterpress printing apparatus includes a rotary plate cylinder 105, a resin letterpress printing plate 104, a platen 106, a substrate to be printed 107 and an ink supply mechanism 110, and a desired pattern is formed by transferring a light-emitting ink, which is transferred from the ink supply mechanism 110 to a surface of the resin letterpress printing plate 104, to the substrate to be printed 107.
樹脂凸版印刷装置は、回転式の版胴１０５、樹脂凸版１０４と、定盤１０６と、被印刷基板１０７と、インキ供給機構１１０を含んで構成され、インキ供給機構１１０から樹脂凸版１０４表面に転写された発光インキを、被印刷基板１０７に転写することで所望のパターンを形成する。 - 特許庁 - The plasma display device of the present invention includes: a plasma display panel; an EMI shielding sheet in which shielding layers including three or more thin film layers are repeatedly stacked; and a sheet for blocking external light having a base unit with a plurality of grooves formed on one surface and a plurality of pattern units formed inside the grooves of the base unit and having a refractive index different from that of the base unit.
本発明のプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、３層以上の薄膜層を含む遮蔽層が繰り返されて積層されるＥＭＩ遮蔽シートと、複数の溝が一面に形成されたベース部と、該ベース部の溝の内部に形成され、前記ベース部と屈折率が異なる複数のパターン部と、を備える外光遮断シートとを含む。 - 特許庁 - In the method for manufacturing a conductive film by coating an organic solvent dispersion body including conductive particulates on the substrate, the manufacturing method includes a process of forming the conductive film with a network-shaped pattern, after coating the organic solvent dispersion body on the substrate, and a process of irradiating light.
導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗工して導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、有機溶媒分散体を基板に塗工した後、網目状のパターンを有する導電性膜を形成する工程、及び、光を照射する工程を含むことを特徴とする導電性膜の製造方法。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the organic EL element including a wet process for film-forming at least one organic light-emitting medium layer in a pixel zoned by barrier ribs made of an organic matter, a barrier-rib pattern is coated with one or more barrier rib insulating layers without any apertures.
有機物からなる隔壁で区切られた画素内に、有機発光媒体層の少なくとも一層以上をウエットプロセスによって成膜する工程を含む有機ＥＬ素子の製造方法において、前記隔壁パターンが一層以上の隔壁絶縁被膜層で開口部なく被覆されていることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法等を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing a master type mold for microfabrication is characterized in that laser light is irradiated on a polyurethane membrane with dispersed metal particles in accordance with the specified pattern, while developing on a substrate a paste composed of a polyurethane resin composite that contains a liquid of independently dispersed metal particles.
金属微粒子が独立分散した金属微粒子分散液を含むポリウレタン樹脂組成物からなるペーストを基板上に展開して金属微粒子分散ポリウレタン薄膜を作製し、前記金属微粒子分散ポリウレタン薄膜に所定のパターンに従ってレーザ光を照射することを特徴とする微細加工型用マスター型の製造方法である。 - 特許庁 - To make operation possible in a light room, and to enhance handleability, resolution, adhesiveness and storage stability and to make possible formation of a pattern high in density and precision and freedom by forming a photosensitive resin layer containing an infrared absorbing dye between a transparent organic support and an organic protective layer.
明室下での作業が可能で取扱性に優れる上に、解像性、密着性、保存安定性にも優れ、設備投資、環境安全面の問題がなく、多品種少量生産、短納期化に対応可能な半導体レーザー等の直接描画により、高密度かつ微細で自由度の高いパターン形成が可能な感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁 - Another embodiment provides a manufacturing method for a solar cell module including: (a) a step of preparing a solar cell including an electrode pattern on at least one surface; and (b) a step of forming a light-transmitting passivation film by performing parylene coating on at least a front surface of the solar cell.
また、他の実施形態によると、（ａ）少なくとも一面に電極パターンが形成された太陽電池セルを準備する段階と、（ｂ）太陽電池セルの少なくとも前面上にパリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）コーティングを行って光透過性パッシベーション膜を形成する段階と、を含んでなる太陽電池モジュールの製造方法が提案される。 - 特許庁 - To provide a light-curable resin composition enabling formation of an optically functional sheet having a fine pattern, and sufficiently satisfying adhesion to a sheet base material, mold releasability from a mold, a high refractive index of a work layer, surface hardness, flexibility and flaw resistance of the sheet, and to provide the optically functional sheet showing excellent front luminance.
本発明は、微細なパターンを有する光学機能性シートを形成可能とし、シート基材との密着性、金型との離型性、加工層の高屈折率、表面硬度とシートの柔軟性・耐擦傷性を十分に満足できる光硬化性樹脂組成物および正面輝度に優れた光学機能性シートを提供せんとするものである。 - 特許庁 - To reduce an electrode width and increase an electrode cross sectional aspect ratio for the purposes of expanding a light indent opening face and lowering electrode wiring resistance, a discharge passage is tilted in a coating direction relative to the cell substrate by using the coating head 5 whose nozzles are shaped like a long hole, whereby collision energy at discharge time is alleviated and a desired electrode pattern is obtained.
光入射開口面の増加と電極配線抵抗の低減という目的から電極幅を低減し電極断面アスペクト比を増大させるため、長孔のノズル形状の塗布ヘッド５を用い吐出流路をセル基板に対して塗布方向に傾けることで、吐出時の衝突エネルギを緩和して所期の電極パターンが得られる。 - 特許庁 - The card reading device includes: a card guide allowing rotation of the card; an infrared light source; a bandpass filter; an imaging means; a watermark pattern image obtaining means; a blocking means; a data conversion amplitude obtaining means; a total amplitude obtaining means; a magnification/reduction rate detection means; a rotation angle detection means; and a data detection means.
カード読み取り装置は、カードを回転させることが可能なカードガイドと、赤外光源と、帯域通過フィルタと、撮像手段と、透かしパターン画像取得手段と、ブロック化手段と、データ変換振幅取得手段と、総和振幅取得手段と、拡大縮小率検出手段と、回転角検出手段と、データ検出手段と、を有する。 - 特許庁 - To provide a positive radiation sensitive resin composition which excels in application property and radiation sensitivity, provides good pattern form and can form an interlayer insulating film having excellent heat resistance, solvent resistance, light transmittance, dry-etching resistance, and the interlayer insulating film obtained from the composition and a method for forming the film.
塗布性に優れ、放射線感度、及び良好なパターン形状が得られると共に、耐熱性、耐溶剤性、光線透過率、耐ドライエッチング性に優れた層間絶縁膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物、その組成物から得られた層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a reflection type photomask blank including a reflection prevention film having a reflection preventing function for the whole inspection light of a wavelength range of 190-260 nm and enabling the reflection prevention film applied to a pattern non-open portion of a reflection type photomask to be easily manufactured, and to provide the reflection type photomask and a method for manufacturing the reflection type photomask.
反射型フォトマスクのパターン非開口部にかかる反射防止膜の製造を容易に行うことができ、且つ、波長範囲１９０ｎｍ〜２６０ｎｍの検査光全てに対して反射防止機能を有する反射防止膜を具備する反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク、並びに反射型フォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The inspection method of an element mounted to a substrate includes a stage of generating a shape template corresponding to the element, a stage of irradiating the substrate with the lattice pattern light of an illumination part to acquire height information at each pixel, a stage of generating a contrast map corresponding to the height information at each pixel, and a stage of comparing the contrast map with the shape template.
基板に装着された素子の検査方法において、素子に対応する形状テンプレートを生成する段階と、照明部の格子パターン光を基板に照射してピクセル別高さ情報を獲得する段階と、ピクセル別高さ情報に対応してコントラストマップを生成する段階と、コントラストマップと形状テンプレートとを比較する段階と、を含む。 - 特許庁
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