「light pattern」を含む例文一覧(7056)
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不完全結晶成長領域を含まない多結晶シリコンでゲート電極または遮光部材のような金属パターン上に位置する半導体層を形成することにより、駆動特性及び信頼性を向上させる薄膜トランジスタ、その製造方法、及びこれを含む表示装置を提供する。 - 特許庁 - The photomask 20 is used for forming the fixed spacer 5 for controlling the liquid crystal cell gap by using the positive photoresist on the color filter substrate 11 or on the pixel electrode substrate in the liquid crystal display device, and has a gray tone portion 9 including a total transmission slit on the periphery of a light-shielding portion 8 as a photomask pattern of the fixed spacer.
液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板１１、または画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いて液晶セルギャップ制御用の固定スペーサ５を形成するためのフォトマスク２０であって、固定スペーサのフォトマスクパターンとして、遮光部８の周囲に全透過スリットを含むグレートーン部９を有する。 - 特許庁 - To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.
ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - Microstructures with different sizes and regularly aligned patterns are fabricated in a large area and parallel mode by transferring a controlled template, wherein the direction of fluidization is determined by the polarization of light, and the pattern and size of the polymer array template having the directional photo-fluidization phenomenon are precisely controlled.
光の偏光によって流体化方向が決定され、方向性光流体化現象を有する高分子アレイ型枠の模様と大きさを精密に制御し、制御された型枠を転写することによって規則的に配列された模様と大きさが多様な微細構造体を大面積及び平行的方法で製作する。 - 特許庁 - To provide a method of forming a multilayer coating film, which can form the coating layer showing a uniform texture excellent in metal feeling in a highlight (near a regular reflection light), and changing the texture of the whole coating film significantly by an observation angle expressing a pattern design in a shade (oblique direction).
本発明の目的は、ハイライト（正反射光近傍）において金属感に優れた均一な質感を示し、シェード（斜め方向）において模様意匠を発現する観察角度によって塗膜全体の質感が大きく変化する塗膜を形成可能な複層塗膜形成方法を提供することである。 - 特許庁 - To acquire an image information detecting device capable of detecting a pattern image with high accuracy by taking a condition of spherical aberration of an illumination optical system into account, thereby increasing a quantity of illumination light in the central portion of an illumination area and its vicinity and hence improving the S/N ratio of a detection signal.
照明光学系の球面収差の状態を考慮することにより照明領域中心部及びその近傍の照明光量を大きくすることができ、検出信号のＳ／Ｎ比を向上させ位置検出用のパターン像を高精度に検出することができる画像情報検出装置を得ること。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity while maintaining storage stability in a level suitable for practical use, and in particular, to provide a positive resist composition for electron beams, X-rays or EUV light, and a resist film formed of the composition and a pattern forming method using the composition.
保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - In the color image forming apparatus, the toner image of each color pattern for determination is configured such that the toner images of a plurality of thin-width patterns, whose dimensions in a sub-scanning direction are smaller than a diameter of a spot of light radiated from an optical sensor, are arranged along the sub-scanning direction at intervals smaller than the diameter of the spot.
カラー画像形成装置において、各色の判定用パターンのトナー画像は光センサから照射された光のスポットの径よりも副走査方向の寸法が小さい複数の細幅パターンのトナー画像を、上記スポットの径よりも小さい間隔で副走査方向に沿って並べた構成を有する。 - 特許庁 - To provide a halftone phase shift mask blank having a halftone phase shift film which can control the retardation and transmittance as a phase shift mask for exposure light and the transmittance at an inspection wavelength, which has excellent chemical resistance and excellent patterning property by etching, and to provide a phase shift mask and a method for transferring a pattern.
露光光での位相シフトマスクとしての位相差，透過率や検査波長での透過率を制御でき、耐薬品性に優れ、さらにエッチングによるパターニング性に優れたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To more strictly perform the evaluation of a defective factor even for an object to be inspected wherein a cyclic light and shade pattern appears in a photographed image, in the optical member inspection method in an image inspection device for inspecting the quality of an optical member such as a lens or the like.
レンズ等の光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法において、撮影した画像に周期的な濃淡模様が現れるような被検物に対しても不良要因の評価をより厳密に行うことが可能な光学部材検査方法を提供することである。 - 特許庁 - It is preferable that a light projector 10 projecting a group of slit lights combined in a lattice type and a stereo type image sensing devices 12R, 12L measuring three- dimensional coordinates of each cross point of a lattice pattern formed by the projection of the group of the slit lights are contained in the measuring apparatus 5, and the three-dimensional coordinates are measured by a stereo image sensing method.
好ましくは計測装置５に、格子状に組み合わせたスリット光の群を投光する投光器10と、スリット光の群の投影により形成された格子模様の各交点の三次元座標を計測するステレオ式撮像装置12R、12Fを含め、ステレオ画像法により三次元座標を計測する。 - 特許庁 - One principal surface of a base material is irradiated with laser light in a state where a metal film made of low-fusion-point metal is brought into contact with the defective part of the pattern (wiring), and an alloy layer is formed and firmly fixed on a contact boundary surface between a metal film of a transfer member and a metal film forming the wiring.
基材の一方の主表面上に低融点金属からなる金属膜を、パターン（配線）の欠陥部に密着させた状態でレーザ光を照射して、転写部材の金属膜と、配線を形成する金属膜との密着境界面でそれらの合金層を形成して固着させる。 - 特許庁 - The organic light-emitting diode display device forms a first electrode using a display base having a pixel separation pattern including a pixel separation part and an insulating part extended from the pixel separation part and disposed along the periphery of a pixel part, thereby preventing corrosion of the first electrode, and reducing man hours.
本発明の有機発光ダイオード表示装置は、画素分離部及び画素分離部から延長され、画素部の周辺に沿って配置された絶縁部を含む画素分離パターンを備える表示基板により第１電極を形成して、第１電極の腐食を防止し、工程数を短縮することができる。 - 特許庁 - To provide a reticle with which an exposure region of the light emitting from an illumination optical system of an exposure apparatus can be aligned to a specified position of an inspection pattern so as to inspect the performance of the exposure apparatus with high reproducibility, to provide a method for inspecting an exposure apparatus by using the reticle, and to provide a method for manufacturing a reticle.
露光装置の性能検査を再現性よく行うために、露光装置の照明光学系から照射される光の露光領域を検査用パターンの特定の位置に合わせることが可能なレチクル、そのレチクルを用いた露光装置の検査方法及びレチクル製造方法を提供する。 - 特許庁 - The black layer 46 is subjected to dry etching to integrally form a peripheral light-shielding film 45 covering the peripheral region S of a pixel forming region A of the solid-state imaging element 10, and an aperture pattern to leave a black matrix 41 as boundaries among red, green and blue pixels 40R, 40G and 40B, respectively, on the pixel forming region A.
黒色層４６をドライエッチングして、固体撮像素子１０の画素形成領域Ａの周縁領域Ｓを覆う周縁遮光膜４５と、画素形成領域Ａ上に赤色・緑色・青色画素４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂ間の境界となるブラックマトリックス４１を残すように開口パターンとを一体形成する。 - 特許庁 - At the time, light emitted by a blue or red LED mounted on an LED board 562b passes through a display panel 562d and then a plurality of slits provided on the slit sheet 562cb of the slit elevating and lowering device 562c and a pattern plotted on a blue or red sheet is viewed as a moving image.
このとき、ＬＥＤ基板５６２ｂに実装された青色又は赤色のＬＥＤが発する光が表示パネル５６２ｄ、続いてスリット昇降装置５６２ｃのスリットシート５６２ｃｂに設けられている複数のスリットを通って、青色又は赤色シートに描かれている模様が動画となって見える。 - 特許庁 - To provide an optical three-dimensional shaping apparatus capable of manufacturing a three-dimensional shaped product excellent in dimensional precision, appearance and strength by irradiating a shaping surface, which comprises a photosetting resin composition, with light enhanced in energy intensity and having a uniform optical intensity distribution in a predetermined shape pattern through a sheet drawing mask.
エネルギー強度が高く、光強度の分布が均一な光を面状描画マスクを介して所定の形状パターンで光硬化性樹脂組成物よりなる造形面に照射して、寸法精度、外観、強度などに優れる立体造形物を速い造形速度で製造できる光学的立体造形装置の提供。 - 特許庁 - The flexible printed circuit board mounted with a light-emitting diode includes: a lower insulator, an upper insulator, a conductive pattern intervened between the lower and upper insulators, and a white color film attached on the upper insulator.
本発明によって、発光ダイオードを実装するためのフレキシブルプリント回路基板において、下部絶縁体と、上部絶縁体と、前記下部絶縁体と前記上部絶縁体との間に介された導電パターンと、前記上部絶縁体上に付着された白色フィルムと、を含むフレキシブルプリント回路基板が提供される。 - 特許庁 - After a resist film 11 consisting of a chemically amplifying resist material containing a base polymer containing at least one ester of acrylate and methacrylate and an acid generating agent which generates acid by irradiation of light is formed, the resist film 11 is selectively irradiated with extreme UV rays 13 for pattern exposure.
アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルのうちの少なくとも１つのエステルを含むベースポリマーと、光が照射されると酸を発生する酸発生剤とを有する化学増幅型レジスト材料からなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１に極紫外線１３を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁 - At the time, a first area A and a second area B are set in a mutual action part of the light and the electric signal S, polarization reversal areas R_A, R_B are formed in respective areas and an arrangement pattern of the signal electrode 21 is determined so that the directions of modulation in respective areas are reversed.
このとき、光と電気信号Ｓの相互作用部に第１領域Ａおよび第２領域Ｂを設定して、各々の領域に分極反転領域Ｒ_Ａ，Ｒ_Ｂを形成すると共に、各々の領域における変調の向きが逆になるように信号電極２１の配置パターンを決める。 - 特許庁 - In a voltage adjustment stage, lengths, and light and shade of tailings 3 and 4 extending from ends of the displayed adjustment patterns 1 and 2 are inspected and the tailings of the pluralities of adjacent adjustment patterns 3 and 4 of the two sets of black and white adjustment pattern groups A and B are compared to adjust the driving voltage of the image display panel.
また、電圧調整工程は、表示された調整パターン１、２の端部から延出する尾引３、４の長さおよび濃淡を検査し、黒白２組の調整パターン群Ａ、Ｂにおいて隣位する複数の調整パターン３、４の尾引を比較することにより画像表示パネルの駆動電圧を調節する。 - 特許庁 - In a semiconductor thin film forming method comprising a light irradiating process, a first process of projecting the image of a pattern formed on an optical mask onto the semiconductor thin film for exposing the thin film so as to modify the prescribed region of the semiconductor thin film and a second process of continuously forming insulating films on the semiconductor thin film are provided.
光の照射工程を有する半導体薄膜の形成方法において、光が光マスク上に形成したパターンを半導体薄膜上に投影露光して、半導体薄膜上の所定の領域を改質する工程と、上記半導体薄膜上に絶縁膜を連続的に形成する工程とを含ませる。 - 特許庁 - In the resist pattern forming method for forming a resist film on a support body and selectively exposing the resist film a plurality of times through a photomask, the width of an exposure portion of the resist film in each selective exposure is larger than the width of a light transmitting portion of the photomask.
本発明は、支持体上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜に対しフォトマスクを介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎のレジスト膜の露光部幅は、前記フォトマスクの透光部幅よりも大きいことを特徴とするレジストパターン形成方法である。 - 特許庁 - To provide a drawing method and a computer program that will not cause defects in resolution on the surface of an object to be drawn for a direct drawing device which forms a desired drawing pattern on the surface of the object to be drawn by irradiating the surface of the object to be drawn with a light throuogh a plurality of spatial optical modulating devices.
複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁 - This defect-inspecting semiconductor substrate comprises a base film 1 laid on a semiconductor substrate 13, the base film 1 is intended to raise the film surface contrast of a film forming region 22 to a no-film forming region 23 on a pattern 12 with respect to inspecting light, as compared with the contrast of the semiconductor substrate 13 surface to the film surface of the forming region 22.
欠陥検査用半導体基板は、半導体基板１３に下地膜１を設けたもので、下地膜１は、パターン１２の膜形成部２２の膜面と非膜形成部２３との検査光に対するコントラストが、半導体基板１３表面と膜形成部２２の膜面とのコントラストより大きくするようなものである。 - 特許庁 - Thereafter, after the photoresist residue 14 adhered to the bottom of the opening 12 of the photoresist pattern1 1a is removed by a light ashing process, a through hole is bored through the insulating film 7b by a dry etching process using an etching gas, etc. containing C_5F_8, O_2 and Ar gas with the photoresist pattern 11a used as an etching mask.
その後、フォトレジストパターン１１ａの開口部１２の底に付着したフォトレジスト残渣１４を軽いアッシング処理により除去した後、フォトレジストパターン１１ａをエッチングマスクとして、Ｃ_５Ｆ_８、Ｏ_２およびＡｒガスを有するエッチングガス等を用いたドライエッチング処理により絶縁膜７ｂにスルーホールを穿孔する。 - 特許庁 - The circuit board for a light-emitting element comprises an extraction terminal group 6 wherein extraction terminals 61 to the outside are accumulated on one side of the board, and a contact pattern 2 for electrically connecting the extraction terminals 61 at a part of the extraction terminal group 6 and the common electrode 10 between the common electrode 10 where common current flows and the extraction terminal group.
特に外部への取出端子６１が当該基板の一辺に集積された取出端子群６と、共通した電流が流れる共通電極１０と取出端子群との間に、取出端子群６の一部の取出端子６１と共通電極１０とを電気的に接続するコンタクトパターン２と、を備えている。 - 特許庁 - The canopy with illumination are characterized in that at least one of three plates forming a roof width is a translucent plate with a necessary pattern; and a support frame is provided at none of two tip corners and a plate surface, an internal skeleton is not reflected with illumination light from the inside when viewed from outside the three plates, and a decoration edge is installed as an edge.
屋根巾を形成する３枚の板のうち少なくとも一枚は、必要模様を施した半透明板を用い、先端の２つの角及び板面には支え枠がなく、且つ中からの照明光で内部骨格が３枚の板の外部から見たとき映らないようにし、縁は装飾縁を設置した照明付き庇。 - 特許庁 - Then the moire phenomenon can be prevented by forming a pattern 20 having an array and a shape capable of preventing the moire phenomenon on the upper part surface of the light guide part and the uniform and high luminance can be obtained even in low power consumption, while the thickness and the weight of the entire liquid crystal display device is minimized.
また、導光部の上部面にモアレ現象を防止できる配列及び形状を有するパターン２０を形成することによって、モアレ現象を防止でき、全体的な液晶表示装置の厚さ及び重さを最小化しながらも、低消費電力でも均一で高い輝度を得ることができる。 - 特許庁 - The photomask mounting a pellicle 4 comprises a substrate made of a planar glass; and a light-shielding film 13 and an oxide film 14 successively layered on one surface of the substrate, between a region that excludes the product pattern part 12a and an adhesion part 4a of the pellicle.
本発明に係るフォトマスクは、ペリクル４を装着してなるフォトマスクであって、平板状のガラスからなる基材と、前記基材の一面において、製品パターン部１２ａを除いた領域と前記ペリクルの接着部４ａとの間に、遮光膜１３と酸化膜１４が順に積層されてなることを特徴とする。 - 特許庁 - The illumination means 41 consists of a plurality of LEDs 41a disposed at a wiring board 30 along a circumference of a pattern drum 34 and a reflector 42 disposed at the wiring board 30 to reflect light of the LEDs 41a to illuminate the respective symbols incoming to a visible display part from a rear side.
前記照明手段４１は、図柄ドラム３４の円周に沿って前記配線基板３０に配設される複数のＬＥＤ４１ａと、該配線基板３０に配設され、該ＬＥＤ４１ａの光を反射して可視表示部に到来した各図柄を後側から照明するリフレクタ４２とから構成する。 - 特許庁 - The organic EL semiconductor element provided with a first electrode and a second electrode and an organic layer which emits light by a re-combination of a load carrier arranged between the electrodes is prepared and at least one part of the organic layer is selectively destroyed by a thermal action to the organic layer and a pattern is formed on the semiconductor element.
第１の電極、第２の電極、および、該２つの電極間に配置され電荷担体の再結合によって発光する有機層を備えた有機ＥＬ半導体素子を準備し、少なくとも有機層の一部を有機層への熱作用により選択的に破壊して半導体素子にパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a monomer polymer and an organic composition containing the same for forming an organic anti-reflection film which absorbs a light-exposing origin between a layer to be etched and a photoresist film in order to prevent a pattern disintegration under the influence of a standing wave generated at the lower part of a photoresist film at the time of a photolithographic processing.
本発明は、フォトリソグラフィ工程時にフォトレジスト膜の下部で発生した定在波の影響によるパターンの崩壊を防止するために、被エッチング層とフォトレジスト膜との間で露光源を吸収する有機反射防止膜形成用単量体、重合体及びこれを含む有機組成物が開示される。 - 特許庁 - By enlarging the displacement of the fine displacement distance generated by the fine displacement generation part 46 by a displacement enlargement arm 44, the movable shade 38 is made stopped at an arbitrary position in the middle other than a complete advancing position or a complete retreating position to form an intermediate light distribution pattern corresponding to its stopped position.
微細変位発生部４６により発生した微細変位距離の変位が変位拡大アーム４４により拡大されることによって可動シェード３８を完全進出位置及び完全退避位置以外の中間の任意の位置に停止させて、その停止位置に対応した中間配光パターンを形成する。 - 特許庁 - A CPU 120 acquires a zoom amount received from a zoom lens position detection section 122, refers to a stripe element width table stored in a stripe element width table storage section 109 and conducts a width of stripe elements in a pattern image to be formed on a liquid crystal light valve 114 on the basis of the acquired zoom amount.
ＣＰＵ１２０は、ズームレンズ位置検出部１２２より伝えられたズーム量を取得し、ストライプ要素幅テーブル格納部１０９に格納されたストライプ要素幅テーブルを参照して、取得したズーム量に基づき、液晶ライトバルブ１１４上に形成すべきパターン画像におけるストライプ要素の幅を導き出す。 - 特許庁 - To provide a hardcoating film excellent in surface hardness, restraining an interference pattern from being generated, and restraining glittering of a screen, reflection of an outdoor daylight, and uneven coloring of a reflected light, without impairing image clearness when applied to an antireflection film, in a thermoplastic film laminated with a hardcoating layer, and the antireflection film.
ハードコート層を積層した熱可塑性フィルムにおいて表面硬度に優れ、かつ干渉模様の発生が抑制され、反射防止フィルムに適用した時に画像鮮明性を損なうことなく、画面のぎらつきや外光の映り込み、反射光の着色ムラが抑制されたハードコートフィルムおよび反射防止フィルムを提供すること。 - 特許庁 - To provide an illumination lamp for vehicle to form a variable light distribution pattern for high beam in which, when running on a flat straight road, the front visibility of its own driver is enhanced without giving glare to a preceding vehicle driver or the like, and in other running situations, it does not give botheration to the own driver.
ハイビーム用の可変配光パターンを形成する車両用照明灯具において、平坦な直線路を走行する際には、前走車ドライバ等にグレアを与えてしまうことなく自車ドライバの前方視認性を高める一方、それ以外の走行状況下においては自車ドライバに煩わしさを与えてしまわないようにする。 - 特許庁 - To provide the fiber product that has the coating layer formed with a luminous paint and the fiber product to which the luminous paint layer is firmly adhered to the fiber product where the color or the pattern of the fiber product itself can be recognized under the ordinary brightness and luminous paint emits the light on the surface of the fiber product in the dark.
蓄光塗料により形成される塗料層と繊維製品とが強固に接着しており、通常の明るさにおいては繊維製品自体の色や柄が視認でき、且つ暗闇においては繊維製品の表面が発光する蓄光塗料が塗布されている繊維製品を提供することを課題とする。 - 特許庁 - When a main magnetic pole 21 is formed by etching a non-magnetic insulating layer 3 to form a trench 33 and forming a magnetic layer 35 in the trench, an endpoint detecting layer 31 having light emitting characteristics different from those of a magnetic separation layer 4 as an underlayer is provided in a position corresponding to the fine pattern of the main magnetic pole 21.
非磁性絶縁層３をエッチングしてトレンチ３３を設け、ここに磁性層３５を形成することで主磁極２１を形成するにあたり、下地層となる磁気分離層４と発光特性が異なるような終点検出層３１を、主磁極２１の微細なパターンに対応する位置に設ける。 - 特許庁 - After a light-shielding layer and a resist layer to produce an exposure mask are formed in this order, a pattern is drawn in the resist layer by scanning with electron beams EB relatively in the Y direction with specified scanning width while relatively moving the scanning region EA in the X direction for every scanning period.
露光用マスクを製造するための遮光層およびレジスト層をこの順に積層した後、所定の走査幅をもってＹ方向に相対的に走査される電子ビームＥＢの走査領域ＥＡを１走査毎にＸ方向に相対移動させながらレジスト層に描画する際に、前記走査を２サイクル以上繰り返す。 - 特許庁 - In a method for manufacturing an aligner, a reticle R1 held by a reticle stage system RST is illuminated via illumination systems IL1, IL2 with exposed lights from an exposure light source 16, and images of a pattern of the reticle R1 are projected on a wafer W1 held by a wafer stage system WST via a projection optical system PL.
露光光源１６からの露光光で、照明系ＩＬ１，ＩＬ２を介してレチクルステージ系ＲＳＴに保持されているレチクルＲ１を照明し、レチクルＲ１のパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハステージ系ＷＳＴに保持されているウエハＷ１上に投影する露光装置の製造方法である。 - 特許庁 - A body casing 4 is provided with a sample liquid circulation system 1 having a dispersion bath 11 connected to a flow cell 15 through a circulating passage 14 and a measuring system 2 for emitting laser beam to a sample liquid carried in the flow cell 15 to measure the particle size distribution of the sample on the basis of the diffracted light pattern at that time.
分散バス１１とフローセル１５とを循環流路１４を介して接続した試料液循環系１と、フローセル１５内を流れる試料液に対してレーザ光を照射し、そのときの回折光パターンに基づいて試料の粒度分布を測定する測定系２とを本体筐体４に設ける。 - 特許庁 - A pattern formed on an active matrix substrate having pixel parts, which is one of a pair of substrates arranged opposite to each other, is formed as a first marker for alignment, and an opening part on a light-shielding film formed on a counter substrate, which is the other one of the pair of substrates, is formed as a second marker for alignment.
対向して配置された一対の基板の一方であり、画素部を有するアクティブマトリクス基板上に形成されたパターンを位置合わせのための第１のマーカーとして形成し、一対の基板の他方である対向基板上に形成された遮光膜の開口部が位置合わせのための第２のマーカーとして形成されている。 - 特許庁 - To provide a substrate inspection device for enhancing flaw detecting sensitivity with respect to a flaw being unstable in flaw detecting sensitivity by an observation direction of a focus matching defective flaw or the like in the observation of the diffracted light of a substrate wherein any one side of a substrate pattern is parallel to a feed direction, and a substrate inspection program.
基板パターンの何れか一辺が搬送方向と平行となっている基板の回折光観察において、合焦不良欠陥などの観察方向によって欠陥検出感度が不安定である欠陥に対して、欠陥検出感度を向上させるための基板検査装置および基板検査プログラムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a forgery prevention structure, which is hardly forged and has a concealed pattern that is hardly recognized with a usual visible light source and can be checked by an extremely simple verification method without using a specified polarization film or a specified verification device or the like, and to provide a forgery prevention sheet using the structure and a method for determining authenticity of the structure.
偽造がされ難く、通常の可視光源下では判り難く、特定の偏光フィルムや特定の検証機等を使わずに、極簡単な検証方法で、隠しパターンを確認出来る偽造防止構造体及びそれを用いた偽造防止枚葉体並びにその真偽判定方法の提供にある。 - 特許庁 - The rear surface wiring layer 34 is so arranged on the entire one side of the polyimide layer 33 as to be electrically insulated from the wiring pattern 32a, and at least a part of the rear surface wiring layer 34 is electrically connected to the stem 12 of the light module 10 by a specified position of a stub 34a constituting a stub structure for the lead 11.
裏面配線層３４は、配線パターン３２ａと電気的に絶縁されるようにポリイミド層３３の片側全面に配されるとともに、少なくとも裏面配線層３４の一部がリード１１に対してスタブ構造となるスタブ部位３４ａの所定位置にて光モジュール１０のステム１２と電気的に接続される。 - 特許庁 - In setting the color element level (luminance level) of sub-pixels corresponding to the basic part of characters and patterns and that of the nearby sub-pixels, the luminance level (compensation pattern) of all these sub-pixels is set in accordance with the on/off or the irradiation light quantity level of a display device irradiation means 50.
文字および図形の基本部分に対応するサブピクセルと、その近傍のサブピクセルの色要素レベル（輝度レベル）を設定する際に、表示デバイス照射手段５０のオン／オフまたは照射光量レベルに応じて、基本部分に対応するサブピクセルおよびその近傍サブピクセルの輝度レベル（補正パターン）を設定する。 - 特許庁 - To provide a curtain having moisture impermeability without impairing a pattern of a cloth, feeling, designability, fashionability, warmth keeping property, heat insulating property, light shielding performance, sound insulation and the other functions of a conventional curtain cloth, and to reduce the amount of dew condensation to a window pane by decreasing the quantity of moisture passing through the curtain using the above curtain.
従来のカーテン地がもつ生地の柄、風合い、意匠性、ファッション性、保温性、断熱性、遮光性、防音性その他の機能を損なうことなく不透湿性を付加したカーテンを提供するとともに、このカーテンによりカーテンを通過する湿気の量を減少させ窓ガラスへの結露量の減少を図る。 - 特許庁 - To provide a polymer which has dry etching resistance, is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, has small line edge roughness of resist patterns and can resist to thin resist films, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.
ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Then, the front-side surface 14a of the lens 14 is formed with a first free curved surface along a surface shape of a vehicle body 2, and thereafter its rear-side surface 14b is formed with a second free curved surface according to the first free curved surface, whereby the horizontally-long light distribution pattern is accurately formed.
その際、レンズ１４の前方側表面１４ａを車体２の表面形状に沿った第１の自由曲面で構成した上で、その後方側表面１４ｂをこの第１の自由曲面に応じた第２の自由曲面で構成することにより、横長配光パターンを精度良く形成可能とする。 - 特許庁
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