「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 94 95 96 97 98 99 100 101 102 .... 141 142 次へ＞- A gap 16 between the first shade 5 and the second shade 6 and an optical control part 18 of the projection lens 4 form a shading-off light distribution pattern GP overlapped on the cutoff line CL.
第１シェード５と第２シェード６との間の隙間１６および投影レンズ４の光学制御部１８は、カットオフラインＣＬに重畳する暈し用の配光パターンＧＰを形成する。 - 特許庁 - A control part 111 compares whether or not the digital value and a previously selected acoustic waveform pattern accord or are approximate, and decides whether the light device for the pedestrian turns on in green or not.
制御部１１１は、デジタル値と予め選択された音響波形パターンとが一致又は近似するか比較し、歩行者用灯器が青色点灯しているか否かを判定する。 - 特許庁 - A lighting system of the automatic optical inspection system can prevent the loss of light in the pattern inspection of a printed circuit board of a film or tape form and can obtain uniform luminance.
本発明は、フィルム、テープ形態の印刷回路基板のパターン検査で光の損失を防止し、均一な輝度を得ることができる自動光学検査システムの照明装置に関する。 - 特許庁 - The resist film formed 102 is subjected to pattern exposure by selective irradiation with exposure light 104, in a state where a liquid 103 being distributed on the resist film 102.
続いて、形成したレジスト膜１０２の上に液体１０３を配した状態で、レジスト膜１０２に露光光１０４を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁 - To provide a light transmitting member with decoration of a new type capable of surfacing a pattern without damaging transmittance by executing the decoration using an antireflection layer.
反射防止層を用いて装飾を施すことにより、透光性を損なうことなく、パターンを浮かび上がらせることのできる新たなタイプの装飾付き透光部材を提供すること。 - 特許庁 - A measuring part 10 for measuring a speckle pattern SP generated from the substrate 60 by the laser light LB from the irradiation part 20 is provided in the vicinity of the substrate holding part 50.
基板保持部５０近傍には、レーザ照射部２０からのレーザ光ＬＢによって太陽電池基板６０から発生するスペックルパターンＳＰを測定する測定部１０が配置されている。 - 特許庁 - Then, a spectral reflectance is calculated from the detected intensity of the reflected light (S104), and a shape of each pattern formed on the hard disk media is detected based on the calculated spectral reflectance (S110).
次に、検出した反射光の強度から分光反射率を算出し(S104)、算出した分光反射率に基づいてハードディスクメディア上に形成されたパターンの形状を検出する(S110)。 - 特許庁 - The illumination system 1 constitutes an optical distribution pattern as illumination light as a whole, by combining each irradiation region A1 to A3 by each of three kinds of lens arrays 26 to 28.
照明システム１は、３種類の各レンズアレイ２６〜２８による各照射領域Ａ１〜Ａ３を組み合わせることによって照明光全体としての配光パターンを構成する。 - 特許庁 - To provide a resist material that has high sensitivity with respect to light and electron beams and can form a clear and fine pattern with less exposure.
本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - The light emitting diode chip includes a substrate, a semiconductor structure formed on the substrate, an insulating layer adjacent to the semiconductor structure, and the temperature sensor pattern adjacent to the insulating layer.
本発明は基板と、前記基板上に成型した半導体構造と、前記半導体構造に隣接した絶縁層と、前記絶縁層に隣接した温度センサパターンとを備えている。 - 特許庁 - MULTILAYER LAMINATED STRUCTURE, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRIC CIRCUIT, MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY, MANUFACTURING METHOD OF LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER
多層積層構造体、パターン形成方法、半導体装置の製造方法、電気回路の製造方法、表示装置の製造方法、発光素子の製造方法、およびカラーフィルタの製造方法 - 特許庁 - To provide a robot device suitably switching on and off pattern light for three-dimensional measurement as the situation demands, and also to provide a method of controlling the robot device.
状況に応じて、３次元計測のためのパターン光の点灯及び非点灯を適切に切り替えることが可能なロボット装置及びロボット装置の制御方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern drawing apparatus includes a distance detecting part 5 acquiring a detected distance to the principal plane of a substrate 9, and a focusing mechanism 471 adjusting the focus of the light beam from a head.
パターン描画装置は、基板９の主面との間の検出距離を取得する距離検出部５およびヘッドからの光ビームのフォーカス調整を行うフォーカス機構４７１を備える。 - 特許庁 - To provide an aligner capable of highly accurately evaluating the displacement of the center axis of the reflected light of an uneven pattern on a transfer substrate without lowering the processing efficiency of the entire microfabrication processing.
微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、転写基板の凹凸パターンの反射光の中心軸のずれ量を高精度に評価可能な露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure device that adjusts light intensity distribution of a radiated beam to irradiate a mask with, and is conducive to properly forming a pattern on a substrate; and to provide an exposure method and method for manufacturing a device.
マスクを照射する放射ビームの光強度分布を調整し、基板への適切なパターン形成に貢献できる露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a solder resist layer having high reflection coefficient ensuring excellent ability in formation of fine pattern and highly efficient use of light emitted from LED or the like and also provide a print wiring board including the solder resist layer.
ファインパターン化に優れると共に、ＬＥＤ等の光を効率よく利用し得る高反射率のソルダーレジスト層と、該ソルダーレジスト層を有するプリント配線板を提供すること。 - 特許庁 - To provide a display device and a method for driving the device capable of preventing generation of a stripe pattern in a unit scan without decreasing a light emission period, and to provide electronic equipment.
ユニットスキャンにおいて、発光期間を短くすることなく、スジ状の模様が発生するのを防止することの可能な表示装置およびその駆動方法ならびに電子機器を提供する。 - 特許庁 - To form color filters and light-shielding filters in such a manner that upper faces of these filters have a regular concave-convex pattern from a color-filter arrangement region to a peripheral region 20b out of a screen.
カラーフィルタと遮光フィルタとを、これらの上面がカラーフィルタの配列領域からその周囲の画面外領域２０ｂに亘って規則的な凹凸面になるように形成する。 - 特許庁 - To provide a vehicle headlight device capable of forming a high-quality light distribution pattern while maintaining a simple structure inside a lamp tool unit when the vehicle headlight device includes a rotary drive type cylindrical shade.
回転駆動タイプの円筒シェードを備える場合に、灯具ユニット内の構造のシンプルさを維持しつつ、高品質の配光パターンを形成できる車両用前照灯装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a headlight for a vehicle attaining both forming of an integral light distribution pattern with dark spots restrained, and restraint of glare given to a person existing at the front of the vehicle.
暗部の発生を抑制した一体的な配光パターンの形成と、車両前方に存在する者に与えるグレアの抑制と、を両立した車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - The projection beam PB of radiation makes an exposed region 1" and a nonexposed region 2" on a resist layer R, corresponding to the light region 1 and the dark region 2 of a mask pattern.
前記放射線の投影ビームＰＢは、マスクパターンの明領域１および暗領域２に対応して、それぞれ、レジスト層Ｒ上に露出領域１″および非露出領域２″を作る。 - 特許庁 - Consequently, the line sensor 132 can acquire an inspection image of high contrast using a light source having a single wavelength, and the manufacturing cost of the pattern inspection device can be reduced.
これにより、単一波長の光源を用いてラインセンサ１３２によりコントラストの高い検査画像を取得することができ、パターン検査装置の製造コストも削減することができる。 - 特許庁 - Thus, loss of the light irradiated on the inspection object (printed circuit board) can be minimized to obtain clear image data of a pattern slope formed on the substrate.
この特徴によると、検査対象物（印刷回路基板）に照射される光の損失を最小化し、基板に形成されたパターン傾斜面の鮮明なイメージデータを獲得することが可能である。 - 特許庁 - There is provided a system, method, and device for tracking motion across a surface 130 by creating an interference pattern 310 by reflecting light 111 from the surface 130.
表面１３０を横断する動きを、その表面１３０から光１１１を反射して干渉パターン３１０を生成することにより、追跡するシステム、方法、およびデバイスが提供される。 - 特許庁 - In this camera, the pattern of visible light (28) is projected on an object such as a document (10) photographed so as to show the area of the object within the visual field of the camera.
本発明は、カメラの視野内の物体の領域を撮影者に示すために、撮影される文書(10)のような物体上に可視光のパターン(28)を投射するカメラに関連する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL display in which a position shift after positioning of a mask and a substrate is controlled and a pattern deposition of an organic compound layer of an organic light emitting element can be made in a high resolution.
有機ＥＬディスプレイの製造において、マスクと基板とを位置合わせした後の位置ずれを抑制し、有機発光素子の有機化合物層を高解像度でパターン成膜する。 - 特許庁 - This exposure device includes a plurality of optical module assemblies which emit pattern light to the exposure regions, at mutually different positions where the mutual inter-spacing distance is adjusted.
互いに異なる位置の露光領域にパターン光を照射し、相互間の離隔距離が調節される複数の光学モジュール集合アセンブリーを含んで露光装置を構成する。 - 特許庁 - Since a player views the first pattern 42 when a light source 50 is turned off but views the deviation part d, flickering of the power source 50 makes the tooth part 42b appear to rotate.
遊技者は、光源５０の消灯時には第１図柄４２を視認し、点灯時には、位置ずれ部ｄを視認するので、光源５０の点滅により、歯部４２ｂが回転して見える。 - 特許庁 - As a result, the overlap parts of all the adjacent four shot regions are prevented from changing suddenly in a cumulative light exposure, that is, a pattern can be prevented from suddenly changing in line width.
この結果、隣接４ショット領域の全域で重ね合せ部分の積算露光量の急激な変化、すなわちパターン線幅の急激な変化の発生を防止することができる。 - 特許庁 - The fraudulent action can be found out and prevented by searching the presence or absence of the generation of a specific optical pattern when irradiating the first discriminating seal LB with the irradiation light of the predetermined wavelength.
所定波長の照射光を第１の識別シールＬＢに照射した際に、特有の光学パターンの発生の有無を調べることで、不正行為の発見と防止を行う。 - 特許庁 - The surface mirror pattern of compound eyes is formed on the surface of the objective body to prevent reflection of light by pressing the surface of compound eyes of arthropods to the surface of the objective body.
節足動物の複眼の表面を、光の反射を防止すべき物体の表面に押しつけることにより、物体の表面に複眼の表面の鏡像の形状を形成する。 - 特許庁 - To provide a defect inspecting apparatus for minimizing the pattern shape change of a target to be inspected and keeping response in reviewing when laser beams are used as a light source.
レーザ光を光源として用いた場合に、被検査対象のパターン形状変化を最小にとどめ、かつ、レビュー時のレスポンスを低下させない欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁 - A first light source shape is calculated on the basis of at least two pattern layouts defined in a design rule used when a semiconductor device is manufactured.
本発明の一つの実施形態によれば、半導体装置を作製する際に用いるデザインルールで規定された少なくとも２つのパターンレイアウトに基づいて、第１の光源形状を算出する。 - 特許庁 - A first resist film 102 is formed on a substrate 101, and a first pattern exposure which irradiates exposing light on the first resist film 102 through a first mask 103A is carried out.
基板１０１の上に第１のレジスト膜１０２を形成し、第１のレジスト膜１０２に第１のマスク１０３Ａを介した露光光を照射する第１のパターン露光を行う。 - 特許庁 - On the board face 1 of the game stand, an EL 3 obtained by uniformly spraying powder-state light-emitting material with a prescribed pattern on the surface of a flexible insulation sheet 2 is bonded.
遊戯台の盤面１上に、柔軟性を有する絶縁シート２の表面にパウダー状の発光材料を均一に所定のパターンで散布してなるＥＬ３が、接着されている。 - 特許庁 - At the intersection of these collimated light beams A3 and A4, an interference fringe having a Gaussian intensity distribution is generated on a work 9 placed on a stage 10 to expose a periodic pattern.
これらのコリメート光Ａ３，Ａ４の交差部に、ステージ１０上のワーク９上に周期パターンを露光するための光強度分布がガウシアン分布を示す干渉縞が発生される。 - 特許庁 - Then, the resist film 102 is selectively irradiated with an exposure light via the barrier film 103, under the condition where the liquid 104 is arranged on the barrier film 103, to be pattern-exposed.
続いて、バリア膜１０３の上に液体１０４を配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。 - 特許庁 - By appropriately moving the first and the second shades 28, 38, an intermediate light distribution pattern having horizontal cutoff lines CL5A, CL5B at an upper end part is formed.
そして、これら第１および第２シェード２８、３８を適宜移動させることにより、上端部に水平カットオフラインＣＬ５Ａ、ＣＬ５Ｂを有する中間的な配光パターンを形成するようにする。 - 特許庁 - In this way, the irradiated surface 50 can be suitably irradiated with illumination light of a desired pattern by a simple structure without increasing the number of used lenses and the like.
これにより、使用するレンズの枚数等を増加させることなく、簡単な構成で、所望の図柄の照明光を照射面５０上に好適な形態で照射することができる。 - 特許庁 - The primary axis 100 of the light beam emitted from the surface emitting laser 1 is approximately perpendicular to the photodetector 3, and a beam spot is formed on the optical pattern surface of the scale 2.
面発光レーザ１より出射される光ビームの主軸１００は光検出器３に対し略垂直であり、スケール２の光学パターン面にビームスポット８０を形成する。 - 特許庁 - To provide a light guide panel that is advantageous in manufacturing by molding and that can be stably formed into a high-density concave pattern having high diffusion efficiency.
成形による製作上の利点を享受するとともに、光拡散効率の高い高密度凹状パターンを安定的に形成することができる導光パネルを提供すること。 - 特許庁 - The transmitted light corresponding to a prescribed pattern formed on the reticule 29 is converged in the prescribed region of a wafer 31 placed on a stage 32 by a reduction projecting lens 30.
レチクル２９に形成された所定のパターンに応じて透過された光は、縮小投影レンズ３０により、ステージ３２上に載置されたウエハ３１の所定の領域に収束される。 - 特許庁 - Under the exposure light IL in a vacuum ultraviolet ray region, the image of the pattern of a reticle 12 is projected on the wafer 1 7a on the wafer stage 18a within a wafer chamber 24 through a projective optical system PL.
真空紫外域の露光光ＩＬのもとで、レチクル１２のパターンの像が投影光学系ＰＬを介して、ウエハ室２４内のウエハステージ１８ａ上のウエハ１７ａに投影される。 - 特許庁 - To provide an inexpensive optical control diffusion element which is excellent in contrast, brightness and durability by equalizing an intensity distribution of an illumination pattern of a diffusion light in a visible wavelength region.
可視波長域にある拡散光の照明パターンの強度分布を一様にすることでコントラスト・輝度ともに優れ、また、耐久性に優れ、安価な光制御拡散体を提供する。 - 特許庁 - To provide an optical pickup for implementing a tracking control system substituting a DPP system by using a general purpose light receiving pattern used when performing tracking control by using the DPP system.
ＤＰＰ法を用いたトラッキング制御を行う際に使用される汎用の受光パターンを使用して、ＤＰＰ法に代わるトラッキング制御方式を実現できる光ピックアップを提供する。 - 特許庁 - A reference density plate is irradiated by a light source set to specified voltage, and an electrostatic latent image is formed on a photoreceptor drum and developed so as to form the toner image (patch) of a reference patch pattern.
所定の電圧に設定した光源で基準濃度板を照射し、感光ドラム上に静電潜像を形成し、これを現像して、基準パッチパターントナー像（パッチ）を形成する。 - 特許庁 - To obtain a moisture-permeable waterproof camouflage fabric capable of making both high waterproofness and moisture permeability compatible, having a camouflage pattern hardly to be detected in a visible light and infrared ray wavelength range.
高い防水性と透湿性を両立させ、且つ、可視・赤外線波長領域において探知されにくい迷彩模様を施した透湿防水迷彩布帛を提供する。 - 特許庁 - To provide a photocurable composition excellent in sensitivity, temporal storage stability and adhesion and suitable for use as a solder resist or for direct pattern formation with ultraviolet to violaceous laser light.
感度、経時保存安定性、密着性に優れソルダーレジスト用として、又、紫外から青紫色レーザー光による直接描画に好適な光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - The information processing part 94a of a control unit 94 performs an image processing based on the detection signal to obtain a pattern of the diffracted light from the micropattern part 100a.
制御部９４の情報処理部９４ａにおいては、その検出信号に基づいて画像処理を行い、微細パターン部分１００ａからの回折光のパターン形状を得る。 - 特許庁 - The RGB filter elements (20) are placed between the lens (16) and the image sensor (18) in a mosaic pattern so as to allow the photoconductive elements to detect the intensity of the incidents light.
複数の個々のRGBフィルタ素子(20)が、レンズ(16)と画像センサ(18)との間に、所定のモザイクパターンで配置されており、光電性素子が入射光の強度を検出できるようになっている。 - 特許庁
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