「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 96 97 98 99 100 101 102 103 104 .... 141 142 次へ＞- The difference between the recessed parts 38a and the protruded parts 38b is smaller than the wavelength of visible light and the center C of the concentric pattern is set at a position different from the center O of the optical transfer surface 24a.
そして、この凹３８ａと凸３８ｂの差は可視光の波長よりも小さく、しかも同心状模様の中心Ｃが、光学転写面２４ａの中心Ｏと異なる位置にある。 - 特許庁 - To provide a thin-film magnetic head for heat-assisted magnetic recording, which forms stable recording bit pattern having steep magnetization transition regions without using a near-field light generating element.
近接場光発生素子に依らずとも、急峻な磁化遷移領域を有する安定した記録ビットパターンを形成することができる熱アシスト磁気記録用の薄膜磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁 - To provide a projector type vehicular headlight capable of sufficiently securing the lightness of a light distribution pattern diffusing area, even in the case of adopting a side insertion type lighting fixture.
プロジェクタ型の車両用前照灯において、側方挿入型の灯具構成を採用した場合であっても、配光パターンの拡散領域の明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁 - To solve the problem wherein, since not only a circuit structure differs according to forward voltage characteristics of a light emitting element, but also the wiring pattern of a wiring board differs, the cost of a lighting device increases.
発光素子の順電圧特性に応じて回路構成が異なるのみならず、配線基板の配線パターンも異なることによって照明装置のコストが高くなること。 - 特許庁 - The optical transmission switch type device (20) is structured so as to be able to switch a first display state in which light transmits and a second display state for displaying a portion of a pattern together with the display panel (10).
光透過切替型デバイス(20)は、光を透過する第１表示状態と表示パネル(10)とともにパターンの一部を表示する第２表示状態とが切替可能な構造を備える。 - 特許庁 - To provide an irradiation device for inspecting a coating surface provided with a light and shade pattern capable of being opposed and arranged to the coating surface to easily detect even a coating flaw smaller in dimension.
塗装面に対向配置可能な明暗パターンを備えた塗装面検査用の照射装置において、より寸法の小さな塗装欠陥でも検出し易い照射装置を提供する。 - 特許庁 - With the shift to the variable probability state after the jackpot, the decoration lamps on the front frame 5 conduct light-emitting operations in a special pattern, and thus attention is drawn to the variable probability state sensationally.
大当り後に確変状態になると、前面枠５の装飾ランプが特別なパターンで発光動作を行い、確変状態であることを大々的にアピールするようになっている。 - 特許庁 - The mask means 80 is supported freely forwards and backwards between a projection position on the projection optical axis and a retreat position toward a photographing means from the projection optical axis, and has a pattern transmitting the light.
マスク手段８０は、投影光軸上の投影位置と、投影光軸より撮影手段側の退避位置との間を進退可能に支持され、光を透過するパターンを有する。 - 特許庁 - A code pattern made of an arbitrary period generated in a maximum-length sequence is provided in a circumferential direction for a code disk 10, provided between light-emitting diodes 15 and 17 and phototransistors 21 and 23.
発光ダイオード１５、１７とフォトトランジスタ２１、２３との間に設けられるコードディスク１０にＭ系列にて発生される任意の周期からなるコードパターンを周方向に設ける。 - 特許庁 - A resist pattern which includes a region having a thick film thickness and a region having a thinner film thickness than the former region is formed over the reflective electrode by using a light exposure mask which includes a semi-transmission portion on the reflective electrode.
反射電極上に半透部を有する露光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジストパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a light distributing pattern for low beam irradiation which provides a driver of its own vehicle with driving ease and hardly induces a glare to a driver of an oncoming vehicle in a vehicular headlight provided with a discharge bulb.
放電バルブを備えた車両用前照灯において、自車ドライバには運転しやすく対向車ドライバにはグレアを与えるおそれが低いロービーム照射用の配光パターンを得る。 - 特許庁 - To eliminate a wiring pattern and connection hole for controlling an electrical potential of a beam, in an optical modulator which deforms the beam fixed at both ends having a light reflection area with electrostatic attraction.
光反射領域を有する両端固定梁を静電力で変形させる光変調装置において、梁の電位を制御するための配線パターンや接続光を排除する。 - 特許庁 - Moreover, in the memory 31 of the pattern drawing apparatus, there is stored a point-image intensity distribution 313, acquired by the image pick-up portion 15 when a point light source is arranged at a height of the object plane.
また、パターン描画装置の記憶部３１には、対象面の高さに点光源を配置した場合に撮像部１５にて取得される点像強度分布３１３が記憶されている。 - 特許庁 - A diffusion film 1 having a diffusion pattern with a gradation state is formed by using dots 2, each being formed by dispersing a diffusion agent in a transparent resin, and arranged on an emission surface of the light guide body 4.
透明樹脂に拡散材を分散させたドット２を用いてグラデーション状の拡散パターンを持つ拡散フィルム１を作成し、導光体４の出射面に配置する。 - 特許庁 - The image processing computer 6 forms a light intensity profile having a peak corresponding to the boundary part of the recessed part and protruding part of the irregular pattern of the object on the basis of the image.
画像処理用コンピュータ６は、この画像をもとにして、検査対象の凹凸パターンの凹部と凸部との境界部分に対応したピークを有する光の強度プロファイルを作成する。 - 特許庁 - The moth-eye film 1 is arranged in a wave shape and has a plurality of pattern parts forming concavo-convex light emitting faces and is positioned on the substrate opposite to the protective film.
モスアイフィルム１は、波状に配置されているとともに凹凸状の光出射面を形成する複数のパターン部２を有し、保護膜に対して基板の反対側に設けられている。 - 特許庁 - The mask 11 is preferably moved in a direction perpendicular to the progress direction of exposure light, and the resist pattern 13a is preferably provided with a rugged face in accordance with the function of an optical element.
マスク１１を露光光の進行方向と直交する方向に移動させることが好ましく、レジストパターン１３ａを光学素子の機能に応じた起伏面とすることが好ましい。 - 特許庁 - To provide a laser irradiation apparatus capable of moving an optical pattern formed with interference action of laser light at a high frequency, and hereby of speeding up a processing speed.
レーザ光の干渉作用によって形成される光パターンを高周波で移動することが可能で、これにより処理速度の高速化を図ることができるレーザ照射装置を提供する。 - 特許庁 - At the time of a probability variable state after a big winning, the decoration lamps of the front surface frame 5 perform the light emitting operation in a special pattern and it is advertized extensively that it is the probability variable state.
大当り後に確変状態になると、前面枠５の装飾ランプが特別なパターンで発光動作を行い、確変状態であることを大々的にアピールするようになっている。 - 特許庁 - To provide an illuminant decorative sheet generating no leak of light in the periphery of an illumination pattern and having a high-grade feeling in its shading part, and an illuminant decorative molded article using the same.
照光パターン周囲に光漏れが発生せず、遮光部分に高級感を有する照光性加飾用シートとこれを用いた照光性加飾成形品を提供する。 - 特許庁 - A beam irradiation machine 24 for irradiating a visible light beam with a pattern determined in accordance with a predetermined rule on the road surface is installed so as to notify another person of the presence of the one's own vehicle.
自車両の存在を他者に知らせるべく道路路面上に所定の規則に従って定められたパターンで可視光ビームを照射するビーム照射機２４を設ける。 - 特許庁 - Thereafter, with the immersion liquid 104 provided on the barrier film 103, the resist film 102 is selectively irradiated with exposure light 105 for pattern exposure through the barrier film 103.
その後、バリア膜１０３の上に液浸用の液体１０４を配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光１０５を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁 - The correlation with deformation of the pattern of the phase shift mask due to the difference in light intensity between a shifter part and a non-shifter part of the phase shift mask by waveguide effect is stored in a rule base.
導波路効果による位相シフトマスクのシフタ部と非シフタ部との間の光強度の違いに起因する位相シフトマスクのパターンの変形との相関関係をルールベース化する。 - 特許庁 - The light reflected by the main mirror M1 forms the secondary image of the mask pattern with reduced magnification on the surface of a wafer 9 via the lens component L2 and the center opening of the submirror M2.
主鏡Ｍ１で反射された光は、レンズ成分Ｌ２および副鏡Ｍ２の中央開口部を介してウエハ９面上にマスクパターンの二次像を縮小倍率で形成する。 - 特許庁 - To provide a display medium where light controlling panels having ribs are layered between substrates, the display medium capable of reducing image noise caused by the ribs and an electrode pattern.
基板間にリブを有する調光パネルを積層した表示媒体において、リブや電極パターンに起因する画像ノイズを低減することが可能な表示媒体を提供することである。 - 特許庁 - The transfer part includes a hologram forming layer, a reflecting layer and the information accepting layer in this sequence from the substrate side, and the reflecting layer includes a reflective pattern layer and a visible light transmitting reflective layer.
転写部は、基材側から、ホログラム形成層、反射層および情報受容層をこの順に有し、かつ、反射層は反射性パターン層および可視光透過性反射層を含む。 - 特許庁 - The spatial light modulator 112 is controlled by a control device which generates a two-dimensional digital pattern formed by (n) first subsets consisting of 16 elements corresponding to information.
空間光変調器１１２は、情報に対応する、１６要素からなる第１の部分集合ｎ個で構成される二次元デジタルパターンを生成する制御手段によって制御される。 - 特許庁 - The aligning method successively transfers the pattern of a mask to the mask while synchronously scanning the mask and a reticle in a state of irradiation with pulse-like exposure light.
本発明の露光方法は、パルス状の露光光を照射した状態でマスクとレチクルとを同期走査させつつ、マスクのパターンを逐次マスク上に転写する露光方法である。 - 特許庁 - Then, the resist film 202 is selectively irradiated with exposure light 205 for pattern exposure through the barrier film 203 while a liquid 204 is laid on the formed barrier film 203.
続いて、バリア膜２０３の上に液体２０４を配した状態で、バリア膜２０３を介してレジスト膜２０２に対して露光光２０５を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁 - The high-definition image forming device exhibits a high reproducibility by correcting image data so as to make the light emission pulse width to a prescribed pulse width for an isolated dot pattern.
孤立ドットパターンの場合に、発光パルス幅が所定のパルス幅になるように画像データを補正することにより、再現性の高い高品位な画像形成形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a lens sheet having an electromagnetic wave shielding function capable of improving electromagnetic wave shielding characteristics by using a micro lens to allow a light shielding pattern in two, vertical and horizontal, directions.
マイクロレンズを用いて遮光パターンが縦横の２方向になるようにし、もって電磁波シールド特性を向上することができる電磁波シールド機能を有するレンズシートを提供する。 - 特許庁 - This multi-gradation photomask is used to form a resist pattern on the substrate 30 having a resist film already formed by radiating exposing light I from the exposing device.
本発明に係る多階調フォトマスクは、露光装置から露光光Ｉを照射することにより、レジスト膜を形成した露光対象基板３０上にレジストパターンを形成するために用いられる。 - 特許庁 - The photosensitive layers (5)-(6) are utilized as visible light shielding layers and an image pattern is selectively recorded in the photosensitive layers (2)-(4) separately containing thermally irreversible photochromic compounds.
感光層（５）〜（６）を可視光遮光層として利用し、熱不可逆型フォトクロミック化合物をそれぞれ含む３種類の感光層（２）〜（４）に対して選択的に画像パターンを記録させる。 - 特許庁 - The negative resist layer 16A under the light shielding layer 18 is not exposed, but the layer 16A is exposed in accordance with the resist mask pattern for the region under the transmissive layer 17.
すると、遮光層１８下のネガ型レジスト層１６Ａは露光されないが、それ以外の領域の透過層１７下のネガ型レジスト層１６Ａは露光マスクパターンに応じて露光される。 - 特許庁 - Either saccharides and amino acid or saccharides or amino acid is deposited on the surface of the bean curd pouch, then a laser light is irradiated on the surface along an image pattern to give a baked mark on the surface.
油揚げ表面に糖類及びアミノ酸、あるいは糖類またはアミノ酸のいずれかを付着させ、その表面に画像パターンに沿ってレーザ光を照射し、表面に焼印を付ける。 - 特許庁 - The user of the system installs a solar battery 1 on mobile equipment 2, and preliminarily registers the light absorption wavelength pattern unique to the battery in a database 5 managed by a power company 4 or the like.
システムの利用者は、モバイル機器２に太陽電池１を付設し、その電池固有の光吸収波長パターンを、予め電力会社４等が管理するデータベース５に登録する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a desired fine pattern on the surface of a substrate by vacuum UV light without using a photomask, and to provide an exposure apparatus used for the method.
基材の表面に所望する微細なパターンをフォトマスクを使用することなく真空紫外光により形成する方法及びその方法に使用する露光装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an organic electroluminescence element, which can improve a light utilization efficiency for a laser beam when forming an organic film layer pattern with a laser transfer.
レーザー転写法により有機膜層パターンを形成する際に，レーザービームの光利用効率を向上させることができる有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor laser source capable of easily setting the wavelength of the source by employing reflection light from a direct recording medium without reproducing correctly a predetermined two-dimensional pattern.
所定の２次元パターンを正確に再生することなく、直接記録媒体からの反射光を用いて容易に光源の波長を設定可能な半導体レーザ光源を提供する。 - 特許庁 - The resist film 102 is then selectively irradiated with exposure light 105 through the barrier film 103 while a liquid 104 is present on the barrier film 103, thereby pattern exposure is performed.
その後、バリア膜１０３の上に液体１０４を配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光１０５を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency particularly to ArF excimer laser light and excellent in basic solid state properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape.
特にＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To enables excellent immersion lithogoraphy through a simplified process and to obtain a rectangular pattern which has high sensitivity through exposure to light of 180 to 250 nm in wavelength from an ArF excimer laser.
簡略化されたプロセスにより良好な液浸リソグラフィーを可能とし、ＡｒＦエキシマレーザー等の波長１８０〜２５０ｎｍの露光によって高感度で矩形形状のパターンを得る。 - 特許庁 - Further, when the information pattern of the printed matter is read, a light having a radiation peak on an almost same wavelength as the infrared absorption peak wavelength of each infrared absorber.
また、この印刷物の情報パターンを読み取る際には、各赤外吸収体の赤外吸収ピーク波長と略同じ波長に発光のピークを有する光を順次照射する。 - 特許庁 - A Cu pattern adhered with Ni is formed on a metallic board, and light emitting elements are mounted thereon in a serial circuit, and then the serially conencted metallic boards are connected in parallel.
金属基板１１の上には、Ｎｉが被着されたＣｕパターンを形成し、この上に発光素子１０を直列回路で実装し、この直列接続された金属基板を並列接続する。 - 特許庁 - After lighting the LED 2, the light emission pattern and emission luminance of the LED 2 are changed according to the difference of a sound detection signal from a sound sensor 3 from a reference value or the magnitude of the variation thereof.
また、ＬＥＤ２の点灯後、音センサー３からの音検知信号の基準値との差または変化の大きさに応じてＬＥＤ２の発光パターンおよび発光強度が変化される。 - 特許庁 - In the vehicle lamp, a shade-cum-additional reflector 5 has a projection part 15 to form a lower horizontal cut-off line CL1 and a slanted cut-off line CL2 of a low beam light distribution pattern LP.
シェード兼付加リフレクタ５には、すれ違い用配光パターンＬＰの下水平カットオフラインＣＬ１および斜めカットオフラインＣＬ２を形成する突起部１５が設けられている。 - 特許庁 - The controller controls the adjustment of the irradiation intensity by the adjustment unit based on the brightness of the surface of the measuring object which is detected in an unirradiated state where the pattern light is not applied.
制御部は、パターン光を照射しない非照射状態で検出される測定対象物の表面の明るさに基づいて調整部による照射強度の調整を制御する。 - 特許庁 - An LD, IC, and PD are provided on a substrate in this order, the LD and IC are connected by a short pattern and a wire, so that the rear light of LD can reach the PD by bypassing the IC.
基板の上に、ＬＤ、ＩＣ、ＰＤをこの順に設け、ＬＤとＩＣを短いパターン、ワイヤで結合し、ＬＤの後方光がＩＣを迂回してＰＤに到達するようにする。 - 特許庁 - When the cycle of an image pattern interferes with the number of beams in the light source in a selected image processing mode, the number of used beams for plotting one image is varied for every scanning.
選択された画像処理モードでの画像パターンの周期が光源のビーム本数と干渉するときは、１画像の描画に使用するビーム数を１走査ごとに変更する。 - 特許庁 - To improve the dimensional accuracy of a halftone material film pattern of a halftone type phase shift mask manufactured by using a blank having a laminated structure of the halftone material film and a light shielding film.
ハーフトーン材料膜と遮光膜との積層構造を有するブランクを用いて製造されるハーフトーン型位相シフトマスクにおけるハーフトーン材料膜パターンの寸法精度を向上する。 - 特許庁
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