「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 100 101 102 103 104 105 106 107 108 .... 141 142 次へ＞- Prior to pattern inspection, a correlation between luminance information x on an adjustment image and the amount z of irradiation light for inspection is previously acquired and the amount z of irradiation light for inspection corresponding to the luminance image x of the adjustment image is set during the pattern inspection based upon the correlation, thereby suppressing variance of the luminance information of the inspection image due to a film thickness in an inspection area 21.
予めパターン検査を行う前に、調整用画像の輝度情報ｘと、検査用照射光量ｚとの相関関係を取得しておき、この相関関係に基づいて、パターン検査時には、調整用画像の輝度画像ｘに対応する検査用照射光量ｚを設定するので、検査エリア２１の膜厚による検査用画像の輝度情報のばらつきを抑制できる。 - 特許庁 - A vehicular headlamp device includes: a lamp unit forming a light distribution pattern Hi for a high beam that includes an upper area above the cut-off line of a light distribution pattern Lo for a low beam and is divided into a plurality of individual patterns Hia-Hie; and a control unit controlling the formation of each of the individual patterns Hia-Hie according to the presence of the forward vehicle 400.
車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンＬｏのカットオフラインから上方の領域を含むとともに複数の個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅに分割されたハイビーム用配光パターンＨｉを形成可能な灯具ユニットと、前方車両４００の存在に応じて各個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅの形成を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁 - A printed circuit board for use in the light source module is a printed circuit board for the light source module having: a plurality of LEDs; and a printed circuit board for packaging the LEDs, wherein a wiring pattern of the printed circuit board is arranged so that the LEDs are divided into a plurality of systems and series-connected, and the LEDs are not packaged in the wiring pattern of at least one system.
本発明に係わる光源モジュールに用いるプリント回路基板は、複数のＬＥＤと、そのＬＥＤを実装するためのプリント基板とを有する光源モジュール用プリント回路基板であって、上記プリント基板の配線パターンは、ＬＥＤが複数の系列に分かれて直列接続されるよう配設され、少なくとも１系列の前記配線パターンには、ＬＥＤが実装されていない。 - 特許庁 - In the image projection device equipped with a spatial light modulator for forming an image pattern, an illumination optical system for illuminating the spatial light modulator, and a projection optical system for projecting the image pattern, the image projection device further includes a driving mechanism that moves some or all of the projection optical system in an optical axis direction by making a shape memory alloy to elongate and contract, subjected to temperature change.
画像パターンを形成する空間光変調素子と、前記空間光変調素子を照明する照明光学系と、前記画像パターンを投影する投影光学系と、を備えた画像投影装置において、 形状記憶合金を温度変化させて伸縮させることにより前記投影光学系の一部若しくは全てを光軸方向に移動させる駆動機構を有すること。 - 特許庁 - The method for manufacturing organic electroluminescence element provides an advantage that when forming the organic film layer pattern with LITI, the method for manufacturing organic electroluminescence element can adjust incident light having various modes with homogeneity by using the space light modulator, can produce the laser beam having a predetermined mode profile, and can form the organic film layer pattern without using a mask.
ＬＩＴＩを用いて有機膜層パターンを形成するにおいて、空間光変調器を用いることで、多様な形態を持つ入射光を均質に調節することができ、所望の形態のプロファイルを持つレーザービームを形成することができ、マスクを使わなくても、有機膜層パターンを形成することのできる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供するという利点がある。 - 特許庁 - Since the illuminator is provided with a plurality of light emitting elements 302 having different wavelength distribution patterns and different irradiation angles and a control part 304 controlling the luminance of a plurality of light emitting elements 302 so as to obtain the wavelength distribution pattern and the irradiation angle fit to an imaging condition, a subject is illuminated in the wavelength distribution pattern at the irradiation angle to fulfill the photographing condition.
異なる波長分布パターン、および照射角度の異なる複数の発光素子３０２を設け、撮像条件に適合する波長分布パターンや照射角度となるように複数の発光素子３０２の輝度を制御する制御部３０４とを設けたので、撮影条件に応じた波長分布パターンや照射角度で被写体に照明を行うことができる。 - 特許庁 - The EMI shielding film and the plasma display device include a transparent substrate 31, an adhesive layer 32 formed on the transparent substrate 31, a metal pattern 33 formed on the adhesive layer 32, and a transparent selective light absorbing layer 34 containing a transparent material and a tetraazaphorpyrin compound, which is a selective light absorbing material, and filling the space in the metal pattern 33.
透明基材３１と，透明基材３１の上部に形成された接着層３２と，接着層３２の上部に形成された金属パターン３３と，金属パターン３３の間に形成され，透明物質と選択的吸光物質であるテトラアザホルフィリン系化合物とを含有する透明選択的吸光層３４とを備える電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマ表示装置。 - 特許庁 - Scattered light, from the pattern that causes dispersion of signals, is reduced by a high-efficiency lighting optical system, lighting from a direction reducing the scattered light from the pattern, and the detection threshold is reduced by a means which sets the threshold, based on the dispersion of signals calculated each area within a chip, whereby improvement in the detection sensitivity and improvement in throughput are realized.
本発明では、パターンからの散乱光を低減する方向から照明する高効率照明光学系により、信号のばらつきの原因であるパターンからの散乱光を低減し、さらに、チップ内の領域毎に算出した信号のばらつきをもとにしきい値を設定する手段により、検出しきい値を低減し、検出感度の向上およびスループットの向上を実現する。 - 特許庁 - The photomask defining a STAR (step asymmetry recess) gate region includes a transparent substrate 101 and a light-shielding pattern 103 defining a zigzag recess W-STAR (waved STAR) gate region, wherein a waved portion of the light-shielding pattern partially overlaps a gate region and a storage electrode contact region of an active region disposed on a semiconductor substrate.
ＳＴＡＲゲート領域を定義するフォトマスクにおいて、透明基板１０１とジグザグ形態のリセスＷ−ＳＴＡＲゲート領域を定義する遮光パターン１０３とを含み前記遮光パターンの屈曲部は半導体基板に備えられた活性領域のゲート領域および格納電極コンタクト領域と部分的に重畳されることを特徴とするフォトマスク。 - 特許庁 - In a projection exposure of a photo mask pattern of a photo mask on a surface to be exposed by irradiating the photo mask pattern with the light from an exposure light source in a projection optical system, the concentration of an inert purge gas containing a specified quantity of inert gas filled in a space contacting a pellicle film is measured to execute the projection exposure with controlling the concentration of the inert gas.
露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して前記フォトマスクパターンの像を投影光学系により被露光面に投影露光する際、ペリクル膜に接し、所定量の活性ガスを含む不活性ガスからなるパージガスで満たされた空間の前記活性ガスの濃度を測定し、前記活性ガスの濃度を制御しながら投影露光を行う。 - 特許庁 - This optical encoder is equipped with a coherent light source 21, a scale 10 supported movably across the rays emitted from the coherent light source 21, and having a diffraction grating pattern 11 formed thereon, having a prescribed period, for diffracting or reflecting the rays and a photodetector 22 for detecting a diffracted interference pattern formed by the rays reflected or diffracted by the scale 10.
光学式エンコーダは、可干渉光源２１と、この可干渉光源２１から出射された光線を横切る様に移動可能に支持され、光線を回折または反射する所定の周期の回折格子パターン１１が設けられたスケール１０と、このスケール１０により反射または回折された光線により形成された回折干渉パターンを検出する光検出器２２とを備える。 - 特許庁 - To detect defects in a minute wiring pattern formed on a sample with high sensitivity, by improving the contrast of an optical image of the sample formed by the interference between the 0-th and higher-order diffracted lights of reflected light, arising from illuminating light reflected by the sample surface, in a defects detection optical system which detects defects in a pattern formed on the sample surface.
試料表面に形成したパターンの欠陥を検出する欠陥検出光学系において、照明光により試料表面で反射した反射光の０次光と高次回折光の干渉により形成される試料の光学像のコントラストを向上させることにより、試料上に形成された微細な配線パターンの欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an electromagnetic wave shield film which has no foreign matter deposited thereon and has a stable electrical conductivity, and in which a light sensitive material having a light sensitive layer is used on a strip base, and is continuously exposed with a mask having a predetermined pattern to form a metallic pattern continuous on the strip base.
支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、所定のパターンを有するマスクを介して連続して露光し、現像処理を経て、帯状支持体の上に連続した金属パターンを形成した、異物付着がなく、安定した導電性を有する電磁波シールドフィルムの製造方法と電磁波シールドフィルム及びこの電磁波シールドフィルムを使用したプラズマディスプレイパネルの提供。 - 特許庁 - The area irradiated with the specific wavelength light is extracted from a plurality of shot frames, the predetermined pattern series is generated from the modulation state of the extracted specific wavelength light irradiation area, the control information is generated from the generated predetermined pattern series, and a display means for displaying the shot frames is controlled according to the control information.
また、撮影された複数のフレームより特定波長光が照射された領域を抽出し、抽出された特定波長光照射領域について、その変調状態から前記所定のパターン系列を生成し、生成された所定のパターン系列より制御情報を生成し、その制御情報に基づいて、撮影されたフレームを表示する表示手段を制御する。 - 特許庁 - The pattern forming method comprises a step for forming a hydrophobic film having a photosensitive hydrophobic group on a substrate, a step for forming a hydrophilic pattern by irradiating the hydrophobic film formed on the substrate with light and a step for depositing a metal oxide for enhancing pattern resolution on the hydrophilic pattern particularly by putting the substrate with the formed hydrophilic pattern in an atmosphere of a hydrolyzable metal oxide precursor.
基板上に感光性の疎水基を有する被膜を形成する疎水性被膜形成工程と、該疎水性被膜形成工程により基板上に形成された疎水性被膜に光を照射して親水性のパターンを形成する親水性パターン形成工程を施した後に、パターン解像度を向上させるための金属酸化物析出方法として、特に、該親水性パターンを形成した基板を加水分解性金属酸化物前駆体の雰囲気におくことによる、該親水性パターン上に金属酸化物を析出させる工程からなるようにした。 - 特許庁 - Either or both algorithms are used, in a method for determining incident polarization by fitting mathematically a pattern shape or matching with a database or in a method for determining incident polarization from a frequency component acquired by performing Fourier transform of the pattern shape, as an analysis procedure of a two-dimensional intensity distribution pattern observed by a light-receiving element array.
受光素子アレイによって観測される２次元強度分布パターンの解析手法として、パターン形状を数学的にフィッティングするか、またはデータベースとのマッチングを行うことにより入射偏波を求める方法、もしくはパターン形状をフーリエ変換し、その周波数成分から入射偏波を求める方法の、どちら一方または両方のアルゴリズムを用いる。 - 特許庁 - When data of the mask patterns of a phase shifting mask are drawn up, the pattern data are separated into an actual pattern data layer having data of actual patterns and a phase shifting pattern data layer having data of the phase shifting patterns and the mask patterns are examined to find whether they satisfy the rule of the interval between identical phase patterns in which the phases of light passing through adjacent patterns become identical with each other.
位相シフトマスクのマスクパターンのデータを作成する際に、前記パターンデータを実パターンのデータを有する実パターンデータ層および前記位相シフトパターンのデータを有する位相シフトパターンデータ層に分離した後、マスクパターンが、互いに隣接するパターンを透過した光の位相が同一となる同位相パターンの間隔の規定を満足するか否かを検証する。 - 特許庁 - The performance display unit 5 and the pattern display unit 22 are formed on one element substrate 20, but the transparent wire 24a, 28a for the performance display unit 5, and the transparent wire 31a, 31b for the pattern display unit 22 are mutually independent, the performance display unit 5 and the pattern display unit 22 can emit light independently from each other.
演出表示装置５及び図柄表示装置２２は１枚の素子基板２０上に形成されているが、演出表示装置５のための透明配線２４ａ、２８ａと図柄表示装置２２のための透明配線３１ａ、３１ｂとが互いに独立していて、演出表示装置５と図柄表示装置２２とを互いに独立に発光させることが可能になっている。 - 特許庁 - The electrode pattern and an external-circuit-connection electrode connected with an external electrode to introduce a power sterically formed on a part of the electrode pattern are provided on an Si base material obtained with the Si wafer processed, and the semiconductor light emitting element eutectic bonded on the electrode pattern and an overhead-wired bonding wire are plastic molded by the sealing resin.
Ｓｉウエハを加工して得られたＳｉ基材に、電極パターンと該電極パターンの一部の上に外部電極と接続して電力を導入するための立体的に形成された外部回路接続電極とを設け、電極パターン上に共晶結合された半導体発光素子と架空配線されたボンディングワイヤとを封止樹脂によって樹脂封止した構造とした。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition which is used for fabrication processes of semiconductors such as ICs, for manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and other photofabrication processes, the composition being excellent in the dependency on a pattern density, line edge roughness and a pattern profile and improved in the sensitivity in exposure to EUV light and a dissolution contrast; and to provide a pattern forming method using the photosensitive composition.
ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.
露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁 - To provide a photocuring blue colorant composition for color filter excellent in pattern forming property by UV light laser which is excellent in hue and with which the chipping and peeling of the pattern-like film formed can be suppressed and which is good in pixel shape and can form a coloring pattern excellent in contact hole formation property, a color filter in which the composition is used, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display apparatus having the color filter.
色相に優れ、且つ、形成されたパターン状の膜における欠けや剥がれが抑制され、画素形状が良好であり、コンタクトホール形成性にも優れた着色パターンを形成しうる、紫外光レーザーによるパターン形成性に優れた光硬化性青色着色組成物、それを用いたカラーフィルタ、その製造方法、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a new uncolored radiation sensitive resin composition having a high transmittance to visible light, capable of easily forming a cured resin pattern of an objective shape because of a wide range of proper development condition, and capable of forming a cured resin pattern excellent in chemical resistance because the composition has a crosslinkable group, and to provide a cured resin pattern formed using the radiation sensitive resin composition.
着色がなく可視光に対する高い透過率を有し、適正な現像条件の範囲が広いので、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成でき、さらに架橋基を有するので耐薬品性に優れた硬化樹脂パターンが形成できる新たな感放射線性樹脂組成物と、それを用いて形成された、硬化樹脂パターンを提供する。 - 特許庁 - In an instrument for irradiating an eyeground with a specific pattern, guiding reflected light therefrom to a photodetective element by a photodetective optical system incorporated in the instrument and measuring the refractive power distribution of the human eye from a reflection pattern obtained on the element, two kinds of multiplex ring patterns where a specific pattern repeats transmission/shielding alternately as multiplex ring patterns form images on the cornea and on the eyeground.
眼底に特定パターンを照射し、そこからの反射光を装置内蔵の受光光学系で受光素子に導き、素子上で得られた反射パターンから人眼の屈折力を測定する装置において、特定パターンが交互に透過／遮光を繰り返す多重リングパターンであり、角膜上と眼底それぞれに結像する２種類であることを特長とする。 - 特許庁 - To provide a composition for an antireflection coating which prevents lowering of the dimensional accuracy of a pattern caused by interference of multiply reflected light in a photoresist film and enables formation of a resist pattern free of deterioration in the pattern shape such as T-top or round top shape adverse to an etching process caused chiefly by intermixing of a chemically amplified resist and an antireflection film.
フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なＴ−トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。 - 特許庁 - This optical characteristic measuring jig is used for imaging, by using a digital camera 19, a pattern projection image 17 of an optical characteristic measuring pattern 13 illuminated based on illumination light and projected through the framed spectacle lens 12, and has locking screens 4, 5 having a screen 10 for locking the framed spectacle lens 12, and projecting thereon the pattern projection image 17.
本発明の光学特性測定具は、照明光に基づき照明されかつフレーム付き眼鏡レンズ１２を介して投影された光学特性測定用パターン１３のパターン投影像１７をデジタルカメラ１９を用いて撮像するために使用され、フレーム付き眼鏡レンズ１２を係止しかつパターン投影像１７が投影されるスクリーン１０が設けられた係止衝立て４、５を有する。 - 特許庁 - When the information peculiar to the individual is inputted to an individual information input part 501, a modulation pattern of the phase of the reference light is prepared by a phase modulation pattern encoder 502 based on the information inputted from the individual information input part 501, the information of the generated modulation pattern is given to the phase space modulator at information recording and the phase space modulator is driven.
個人情報入力部５０１に対して、個人の固有の情報を入力すると、位相変調パターンエンコーダ５０２は、個人情報入力部５０１より入力された情報に基づいて、参照光の位相の変調パターンを作成し、情報の記録時に、位相空間変調器に対して、作成した変調パターンの情報を与えて、位相空間変調器を駆動する。 - 特許庁 - When the plurality of light emitting elements are driven in time series as the light emission pattern of information to be displayed is decided according to the shake speed detected by an acceleration sensor 12, while the plurality of light emitting elements configuring a light emitting unit 10 are arranged in a diagonal line, a control unit 1 changes the ways of driving according to a shaking state detected by the acceleration sensor 12.
制御部１は、発光部１０を構成する複数の発光素子が斜め一列に配置されている状態で、加速度センサ１２によって検出された振る速度に合わせて表示対象情報の発光パターンを切り出しながら複数の発光素子を時系列に駆動させる際に、加速度センサ１２によって検出された振りの状態に応じてその切り出し駆動の仕方を変更する。 - 特許庁 - This exposure device for exposing a substrate to a pattern formed on an original plate using extreme ultraviolet light is characterized by comprising the optical element on which the extreme ultraviolet light is incident, a body tube for supporting the optical element, a chamber for housing the body tube, and partition walls provided in the body tube to surround the optical path of the extreme ultraviolet light without preventing the optical path of the extreme ultraviolet light.
極端紫外光を用いて原版に形成されたパターンを基板上に露光する露光装置において、前記極端紫外光が入射する光学素子と、該光学素子を支持する鏡筒と、該鏡筒が収納されるチャンバーと、前記極端紫外光の光路を妨げず、且つその光路を囲むように前記鏡筒内部に設けられた隔壁とを有することを特徴とする。 - 特許庁 - A transparent substrate is coated with negative type black resist, which is exposed through the photomask formed of a small opening part-light blocking part composite pattern equipped with many rectangular light blocking patterns arrayed in matrix longitudinally and laterally on the transparent mask substrate mutually at intervals so that many rectangular small opening parts having short sides along the light blocking patterns are successive across the light blocking parts.
透明基板上にネガ型ブラックレジストを塗布し、透明マスク基板上に縦横に互いに間隔をおいてマトリックス配列で配列された多数の矩形の遮光パターンを備え、隣接する遮光パターンの間は、多数の、遮光パターンの辺に沿う短辺を有する矩形の小開口部が遮光部を介して連なる小開口部−遮光部複合パターンからなるフォトマスクを介して前記ネガ型レジストに露光する。 - 特許庁 - A light reflecting pattern 19 on a transparent base 2 is composed of a grooved portion 17 of approximately triangular cross section and a flat portion 18 adjacent to the grooved portion and is so formed that it is parallel to or at a predetermined angle to the axial direction of a light source portion 5 and that the depth of the grooved portion 17 increases as it extends away from the light source portion 5.
透明基板２上の光反射パターン１９を、断面形状がほぼ三角形の溝部１７と溝部に隣接する平坦部１８により構成し、光源部５の軸方向に平行あるいは所定の角度を持たせ、且つ、光源部５から離れるに従って溝部１７の深さが徐々に深くなるように形成する。 - 特許庁 - To easily and reliably perform focusing control of laser light and to make a marking width to be a laser light spot diameter or below in a process for irradiating a material layer formed on a substrate which constitutes a recording medium and a master disk for manufacturing the recording medium with laser light according to a recording pattern in a manufacturing process of the recording medium and the master disk for manufacturing the recording medium.
記録媒体および記録媒体製造用原盤の製造過程で、これら記録媒体および記録媒体製造用原盤を構成する基板上に形成した材料層にレーザ光を記録パターンに応じて照射する工程で、レーザ光のフォーカシング制御を容易、確実に行い、また、記録マーク幅をレーザ光スポット以下にする。 - 特許庁 - A power control circuit 14b supplies electric power to a light- emitting part 20 and a light-receiving part 30 according to the gate signal outputted from a timing generating circuit 12 and a signal pattern generating circuit 13 outputs a pulse signal to the light-emitting part 20 and a signal decision circuit 18 according to the gate signal outputted from the timing generating circuit 12 and a clock signal.
電源制御回路１４は、タイミング発生回路１２から出力されるゲート信号に基づいて発光部２０と受光部３０へ電源を供給し、信号パターン発生回路１３は、タイミング発生回路１２から出力されるゲート信号とクロック信号に従って発光部２０と信号判定回路１８へパルス信号を出力する。 - 特許庁 - The decorating layer is formed, for example, in a metallic or pearly pattern; the uneven layer has a function of diffusing illumination light in the bathroom; and the illumination light is composed of a spotlight, which is radiated from a spotlight illuminator provided separately from an illuminator for the bathroom, or a reflected light of the spotlight which is radiated onto water in the bathtub.
前記加飾層は、例えばメタリック模様もしくはパール模様で形成され、前記凹凸層は、浴室内の照明光を拡散する機能を有し、また照明光は、浴室用照明装置とは別に設けられたスポットライト照明装置から照射されるスポットライト、あるいは浴槽水面に照射されたスポットライトの反射光で構成される。 - 特許庁 - In this gradation/shade forming method for forming a pattern with gradations in a shade 10 of a luminaire provided with a semi-transparent shade, a light transmitting member is interposed between the shade 10 and a light source in a manner as not to be parallel to the surface of the shade 10, so that shadows 5 of the light transmitting member are formed with gradations.
半透明のシェードを備えた照明器具のシェード１０にグラデーションのついた模様を形成するグラデーション形成方法であって、前記シェードと光源との間に、光透過性部材を前記シェードの面と非並行に配設することによって、前記光透過性部材の陰影５をグラデーション付きで形成することを特徴とする。 - 特許庁 - Further, an interference fringe forming optical system 70 projecting a prescribed interference fringe pattern onto the inspected surface 80 is disposed on an optical path between a light source 20 and a branching optical element 3 in order to prevent unnecessary light from being reflected from a partial area of the inspected surface 80 and entering an imaging system 4 when the measurement light is applied to the inspected surface 80.
また、被検面８０に測定光が照射されたときに被検面８０の一部領域から反射されて撮像系４に入射する不要光の発生を防止するために、所定の干渉縞パターンを被検面８０に投影する干渉縞形成光学系７０を、光源部２０と分岐光学素子３との間の光路上に配置する。 - 特許庁 - Further, a transmission liquid crystal display element 70 for projecting a prescribed shading pattern onto the inspected surface 80 is disposed on an optical path between a light source 20 and a branching optical element 3 in order to prevent unnecessary light from being reflected from a partial area of the inspected surface 80 and entering an imaging system 4 when the measurement light is applied to the inspected surface 80.
また、被検面８０に測定光が照射されたときに被検面８０の一部領域から反射されて撮像系４に入射する不要光の発生を防止するために、所定の遮光パターンを被検面８０に投影する透過型液晶表示素子７０を、光源部２０と分岐光学素子３との間の光路上に配置する。 - 特許庁 - The micro-structures (56) are designed to homogenize light which emits the monolithic optical element (50) via the macro-optical characteristic (54) by diffusion and to direct the light so that a predetermined light distribution pattern, wherein the intensity smoothly and continuously varies, is formed by substantially the entire optical output of the monolithic optical element (50).
微小構造（５６）は、マクロ光学的特徴（５４）を介してモノリシック光学要素（５０）を出射する光を拡散によって均質化するとともに、モノリシック光学要素（５０）の光出力のほぼ全体によって、その強度が滑らかに連続的に変化する所定の光分布パターンが形成されるように方向付けるよう適合されている。 - 特許庁 - By providing a light scattering layer SK formed by applying an adhesive in which light scattering particles are mixed between the rear side liquid crystal display panel PNL1 and the front side liquid crystal display panel PNL2, and scattering light passing through the rear side liquid crystal display panel PNL1, the interference with the grating pattern of the front side liquid crystal display panel PNL2 is restrained.
後側液晶表示パネルＰＮＬ１と前側液晶表示パネルＰＮＬ２の間に光散乱粒子を混入した粘着剤の塗布で形成した光散乱層ＳＫを設け、後側液晶表示パネルＰＮＬ１を通過した光を散乱させることで前側液晶表示パネルＰＮＬ２の格子パターンとの干渉を抑制する。 - 特許庁 - To prevent light distribution irregularity from being generated on a road surface in front of a vehicle after restraining the occurrence of road surface-reflected light causing glare to be given to an oncoming driver or the like in running in the rain, in a vehicular headlight composed so as to form a light distribution pattern having a cut-off line at an upper end by a projector type lamp unit.
プロジェクタ型の灯具ユニットにより、上端部にカットオフラインを有する配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、雨天走行時に、対向車ドライバ等にグレアを与える原因となる路面反射光の発生を抑えた上で、車両前方路面に配光ムラが発生してしまうのを抑える。 - 特許庁 - To provide a light guiding plate machining device capable of highly accurately keeping positioning accuracy of a recessed pattern formed on the surface side or the reverse surface side of a main surface of a light guiding plate, even if an installation error is caused when installing an ultrasonic machining hone, an ultrasonic machine tool in the device, in light guiding plate machining.
本発明は、導光板加工において、超音波加工具である超音波加工用ホーンを装置に装着した際に取付誤差等が発生しても、導光板の主面の表面側又は裏面側に形成する凹状のパターンの位置決め精度等を高精度に保つことができる導光板加工装置の提供を目的とする。 - 特許庁 - The light guide comprises substrate 1 and clad layer 2 formed on the substrate 1, and core part 3 which propagates a light signal in a specified pattern is formed in the clad layer 2, and at least either one of the clad layer 2 and the core part 3 is formed with the resin composition for forming a light guide.
そして、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記光導波路形成用樹脂組成物によって形成されている。 - 特許庁 - By appropriately setting the shape, the dimensions and arrangement pattern of the convex-lens-like projection 3 or the content of the fluorescent dye forming the convex-lens-like projection 3, the natural light whose R/B is about 0.6 usually is modified to modified light whose R/B is about 1.5 to 5 by making the natural light pass through the plant growing film 1.
凸レンズ状突起３の形状、寸法、配置パターン、あるいは、凸レンズ状突起３を形成している蛍光染料の含有率などを適宜設定することにより、通常はＲ／Ｂ比が０．６程度である自然光を、植物育成フィルム１を通過させることによってＲ／Ｂ比が１．５〜５程度の改質光に改質する。 - 特許庁 - In the image forming apparatus 100, in which an image density is controlled by detecting the reflection light reflected on a sticking amount pattern formed on the surface to be detected with an optical detection means being the combination of a light emitting means and a light receiving means, the optical detection means 310 comprises a storage means 310-3.
検知対象面上に形成された付着量パターンに対し、発光手段，受光手段とを組み合わせた光学的検知手段で反射光検知することにより画像濃度制御を行う画像形成装置において、前記光学的検知手段３１０は、記憶手段３１０−３を有する画像形成装置１００である。 - 特許庁 - For example, micronic diffraction gratings 3a, 3b and 3c belonging to the medium 3 for authenticity confirmation on a base material 2 each have a lattice constant comparable with that of the wavelength of visible light and a lattice direction different from one another to thereby read an intensity pattern of diffraction light caused by emitting polarized light, which can confirm authenticity.
例えば、基材２上の真正性確認用媒体３が有する微小回折格子３ａ、３ｂ、３ｃ、および３ｅの各々を、可視光の波長と同程度の格子定数を持ち、互いに格子の方向を異ならせることにより、偏光を照射して生じた回折光の強度パターンを読み取って、真正性確認を可能にすることができた。 - 特許庁 - The light emitting module 10 comprises a metal substrate 12, a conductive pattern 14 formed on the upper surface of the metal substrate 12, a recess 18 formed by partially making the upper surface of the metal substrate 12 concave, a light emitting element 20 housed in the recess 18, and a sealing resin 32 which covers the light emitting element 20.
本発明の発光モジュール１０は、金属基板１２と、金属基板１２の上面に形成された導電パターン１４と、金属基板１２の上面を部分的に凹状にすることで設けられた凹部１８と、凹部１８に収納された発光素子２０と、発光素子２０を被覆する封止樹脂３２とから成る構成となっている。 - 特許庁 - This headlamp is provided with a unit turning control mechanism 70 to turn a lamp unit 20 in the right and left direction for moving a light distribution pattern thereof in the right and left direction according to a vehicle driving condition and a light intensity distribution variable control mechanism 42, moving a shade 32 of the lamp unit 20 for varying light intensity distribution thereof.
車両走行状況に応じて灯具ユニット２０を左右方向に旋回させてその配光パターンを左右方向に変位させるユニット旋回制御機構７０と、車両走行状況に応じて灯具ユニット２０のシェード３２を移動させてその配光パターンを変化させる配光可変制御機構４２とを備えた構成とする。 - 特許庁 - Using a light receiving element having an overflow drain mechanism and based on the brightness information in the read area, exposure conditions are set such that the exposure quantity at a brightest spot by a reading light passed through or reflected on the brightest spot of an effective pattern to be represented by gray scale be equal to or close to the quantized maximum exposure quantity of the light receiving element.
オーバーフロードレイン機構を有した受光素子を使用し、かつ読取領域の輝度情報に基づいて、階調表現すべき有効絵柄の最明点を透過又は反射した読取光による最明点露光量が受光素子の量子化最大露光量又はその近傍の露光量となるように露光条件を設定する。 - 特許庁 - The optical plate 10 is used for a backlight unit, wherein a plurality of belt-shaped protrusions respectively constituting lenses or prisms is arranged on a light-emitting surface 12 to emit illumination light toward a liquid crystal display panel, and is characterized in that the plurality of belt-shaped protrusions assumes a wave pattern when seen from a direction normal to the light-emitting surface 12.
本発明の光学板１０は、バックライトユニットで使用する光学板であって、液晶表示パネルへ向けて照明光を出射する出射面１２に各々がレンズまたはプリズムを構成している複数の帯状凸部が設けられ、前記出射面１２の法線方向から見た前記複数の帯状凸部の形状は波形であることを特徴とする。 - 特許庁 - Here, the first lighting system 31a makes the inspection light L1 parallel to the top surface of the reticle R to prevent the inspection light L1 irradiating the top surface of the reticle R from entering a glass substrate of the reticle R to be diffracted by a pattern DP formed on a bottom surface of the glass substrate to cause misdetection by the diffracted light.
レチクルＲの上面に照射された検査光Ｌ１がレチクルＲのガラス基板内に進入してガラス基板の底面形成されたパターンＤＰにより回折し、この回折された光が誤検出の原因になるのを防止すべく、第１照明系３１ａはレチクルＲの上面に対して平行に検査光Ｌ１をする。 - 特許庁
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